一种循环水电解除垢装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种循环水电解除垢装置，其包括：一金属反应槽，该金属反应槽上端及下端分别通过密封圈及密封盖固定，令金属反应槽中形成一反应腔室，且金属反应槽下端及上端分别设置有进水管及出水管，该进水管处设置有一进水阀；一刮渣除垢装置，其包括：安装于金属反应槽中用于对金属反应槽内壁进行刮渣除垢的刮刀以及安装于金属反应槽上端外的气缸，该气缸的活塞杆伸入金属反应槽中反应腔室内，并与刮刀连接；一阳极，该阳极安装于金属反应槽中，并位于作为阴极的金属反应槽的槽壁中心。本实用新型专利技术能够实现自动除垢，且效果极为理想，还具有工作效率高、操作强度低、成本低、且对设备无损害，且不会出现堵塞现象，以致具有极高的市场竞争力。

【技术实现步骤摘要】
一种循环水电解除垢装置
：本技术涉及电解除垢装置
，特指一种能够自动除垢，且效果极高的循环水电解除垢装置。
技术介绍
：目前，现有技术的除垢方法有离子交换法、活性碳吸附法、化学除垢法等，这些方法效果不理想，操作强度大，效率低，成本高，对设备有一定的损害，存在经常拆洗和除垢不彻底而堵塞管道的问题。
技术实现思路
：本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种能够自动除垢，且效果极高的循环水电解除垢装置。为了解决上述技术问题，本技术采用了下述技术方案：该循环水电解除垢装置包括：一金属反应槽，该金属反应槽上端及下端分别通过密封圈及密封盖固定，令金属反应槽中形成一反应腔室，且金属反应槽下端及上端分别设置有进水管及出水管，该进水管处设置有一进水阀；一刮渣除垢装置，其包括：安装于金属反应槽的反应腔室中用于对金属反应槽内壁进行刮渣除垢的刮刀以及安装于金属反应槽上端外的气缸，其中，该气缸的活塞杆伸入所述金属反应槽中反应腔室内，并与刮刀连接；一阳极，该阳极安装于金属反应槽中，并位于作为阴极的金属反应槽的槽壁中心。进一步而言，上述技术方案中，所述的阳极上端穿过金属反应槽上端的密封圈及密封盖，并显露于密封盖外，且阳极上端通过一密封环固定密封。进一步而言，上述技术方案中，所述金属反应槽底部设置有一固定环，所述阳极下端安装于该固定环中。进一步而言，上述技术方案中，所述活塞杆端部设置有夹片，并通过该夹片固定所述的刮刀。进一步而言，上述技术方案中，所述金属反应槽上端及下端均成型有法兰盘，法兰盘通过螺栓与所述密封盖固定，且所述的密封圈位于法兰盘与密封盖之间。进一步而言，上述技术方案中，所述的金属反应槽下端安装有一支架，该支架作为整个装置的承载装置。进一步而言，上述技术方案中，所述金属反应槽下端还设置有一排污管，该排污管上设置有排污阀。进一步而言，上述技术方案中，所述金属反应槽的横截面呈圆形，所述阳极位于其圆心处。采用上述技术方案后，本技术与现有技术相比较具有如下有益效果：本技术能够实现自动除垢，且效果极为理想，另外，还具有工作效率高、操作强度低、成本低、且对设备无损害，且不会出现堵塞现象，以致具有极高的市场竞争力。附图说明：图1是本技术的结构示意图。具体实施方式：下面结合具体实施例和附图对本技术进一步说明。参见图1所示，为一种循环水电解除垢装置，其包括：一支架4、安装于支架4上的金属反应槽1、安装于金属反应槽1中的刮渣除垢装置2以及安装于金属反应槽1中的阳极3。所述支架4作为整个装置的承载装置，必要时，可在支架4安装刹车轮。所述金属反应槽1金属反应槽1上端及下端分别通过密封圈11及密封盖12固定，令金属反应槽1中形成一反应腔室10，具体而言，所述金属反应槽1上端及下端均成型有法兰盘15，法兰盘15通过螺栓与所述密封盖12固定，且所述的密封圈11位于法兰盘15与密封盖12之间。所述金属反应槽1下端及上端分别设置有进水管13及出水管14，该进水管13处设置有一进水阀131；所述金属反应槽1下端还设置有一排污管16，该排污管16上设置有排污阀161。所述排污管16用于排泄由刮渣除垢装置2刮下来的杂质。所述刮渣除垢装置2包括：安装于金属反应槽1的反应腔室10中用于对金属反应槽1内壁进行刮渣除垢的刮刀21以及安装于金属反应槽1上端外的气缸22，其中，该气缸22的活塞杆221伸入所述金属反应槽1中反应腔室10内，并与刮刀21连接。所述活塞杆221端部设置有夹片222，并通过该夹片固定所述的刮刀21。所述刮刀可定时将作为阴极的金属反应槽1内壁的污垢刮下来，确保金属反应槽1内壁表面始终保持相对洁净的状态，可保持较好的反应效果，可吸附更多的杂质，电流更多的用来吸附杂质，获得较高的电流效率，还可以保证阳极的使用寿命。所述阳极3安装于金属反应槽1中，并位于作为阴极的金属反应槽1的槽壁中心。具体而言，所述金属反应槽1的横截面呈圆形，所述阳极3位于其圆心处。也就是说，阴极与阳极之间的距离均匀，从而可确保电流分布的均匀，使得阳极放电均匀，处理效果好。所述的阳极3上端穿过金属反应槽1上端的密封圈11及密封盖12，并显露于密封盖12外，且阳极3上端通过一密封环31固定密封。所述金属反应槽1底部设置有一固定环32，所述阳极3下端安装于该固定环32中。在电解状态下，被处理的水从进水管流入该金属反应槽1中，通过出水管流出。本技术启动后，金属反应槽1的内壁作为阴极和阳极之间产生电化学反应，可将水中的钙镁铜镍离子与水中的氢氧根离子、硫酸根离子、碳酸根离子、硅酸根离子转化为不溶性矿物质(如氢氧化钙，氢氧化镁，碳酸该，碳酸镁，硫酸钙，硫酸镁，硅酸钙，硅酸镁等)沉积在金属反应槽1的内壁上，即所谓的预先结垢或盐类结晶析出，同时阳极附近析出的氯气，具有杀死细菌和水藻，分解有机物的作用。从而可以达到降低水的硬度，减少水中的含盐量，降低电导率，并可降低水中的COD及BOD。当本技术运行一定的时间后，会启动刮渣除垢装置2进行刮渣除杂，将金属反应槽1内壁上的杂质刮下来，维持金属反应槽1内壁的清洁，使得电流效率较高。刮下来的杂质通过排污管及排污阀排出，从而保持了水质的洁净。本技术能够实现自动除垢，且效果极为理想，另外，还具有工作效率高、操作强度低、成本低、且对设备无损害，且不会出现堵塞现象，以致具有极高的市场竞争力。当然，以上所述仅为本技术的具体实施例而已，并非来限制本技术实施范围，凡依本技术申请专利范围所述构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本技术申请专利范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种循环水电解除垢装置，其特征在于：包括：一金属反应槽(1)，该金属反应槽(1)上端及下端分别通过密封圈(11)及密封盖(12)固定，令金属反应槽(1)中形成一反应腔室(10)，且金属反应槽(1)下端及上端分别设置有进水管(13)及出水管(14)，该进水管(13)处设置有一进水阀(131)；一刮渣除垢装置(2)，其包括：安装于金属反应槽(1)的反应腔室(10)中用于对金属反应槽(1)内壁进行刮渣除垢的刮刀(21)以及安装于金属反应槽(1)上端外的气缸(22)，其中，该气缸(22)的活塞杆(221)伸入所述金属反应槽(1)中反应腔室(10)内，并与刮刀(21)连接；一阳极(3)，该阳极(3)安装于金属反应槽(1)中，并位于作为阴极的金属反应槽(1)的槽壁中心。

【技术特征摘要】
1.一种循环水电解除垢装置，其特征在于：包括：一金属反应槽(1)，该金属反应槽(1)上端及下端分别通过密封圈(11)及密封盖(12)固定，令金属反应槽(1)中形成一反应腔室(10)，且金属反应槽(1)下端及上端分别设置有进水管(13)及出水管(14)，该进水管(13)处设置有一进水阀(131)；一刮渣除垢装置(2)，其包括：安装于金属反应槽(1)的反应腔室(10)中用于对金属反应槽(1)内壁进行刮渣除垢的刮刀(21)以及安装于金属反应槽(1)上端外的气缸(22)，其中，该气缸(22)的活塞杆(221)伸入所述金属反应槽(1)中反应腔室(10)内，并与刮刀(21)连接；一阳极(3)，该阳极(3)安装于金属反应槽(1)中，并位于作为阴极的金属反应槽(1)的槽壁中心。2.根据权利要求1所述的一种循环水电解除垢装置，其特征在于：所述的阳极(3)上端穿过金属反应槽(1)上端的密封圈(11)及密封盖(12)，并显露于密封盖(12)外，且阳极(3)上端通过一密封环(31)固定密封。3.根据权利要求2所述的一种循环水电解除垢装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：王清华，
申请(专利权)人：王清华，
类型：新型
国别省市：广东,44