一种激光合成监控测量装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
一种激光合成监控测量装置
本专利技术涉及强激光合成光束特性监控及测量技术，特别是一种激光合成监控测量装置。
技术介绍
为满足工业及军事领域的需求，激光合成技术开始成为现阶段的研究热点。相比于单台激光器，通过激光合成技术所得的光束具有输出功率大，亮度高等优点。对于合成光束而言，最主要的特性参数包括：功率、光谱、光束质量及各子光束的质心位置。现有激光参数测量设备仅能测量单个激光参数，不能对激光束进行同时、全面的测量。为解决此问题中国专利CN201010268566.4提出了《激光多参数实时测量装置》可以对激光各参数进行实时测量。然而其所提出的测量系统仅适用于单束激光，而不符合高能激光以及合成激光的测量需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种激光合成监控测量装置，本装置不仅能测量单束激光的各项参数，而且还能对合成光束的特性参数进行准确测量，并通过CCD对各子光束质心进行实时监控优化。一种激光合成监控测量装置，包括分光镜、功率计、高反镜、衰减片、聚焦透镜、CCD、光谱仪、M2因子测量仪；其中待测合成光束经过分光镜后分为两路，其中第一路折射至功率计，第二路透射至高反镜，待测合成光束经过高反镜后分为两路，其中第一路折射至M2因子测量仪，第二路投射至衰减片，待测合成光束经过衰减片后一部分经过光线导入光谱仪且另一部分射入聚焦透镜聚焦至CCD。本专利技术采用了多级衰减，可以对万瓦级激光束的参数进行直接测量，同时本装置采用CCD对各子光束的质心位置进行实时监测，便于合成系统的优化，因此本装置具有测量全面、准确、响应速度快、功率阈值高等优点。监控功率、质心距离、光谱和光束...
【技术保护点】
1.一种激光合成监控测量装置，其特征在于，包括分光镜(2)、功率计(3)、高反镜(4)、衰减片(5)、聚焦透镜(6)、CCD(7)、光谱仪(8)、M2因子测量仪(11)；其中待测合成光束(1)经过分光镜(2)后分为两路，其中第一路折射至功率计(3)，第二路透射至高反镜(4)，待测合成光束(1)经过高反镜(4)后分为两路，其中第一路折射至M2因子测量仪(11)，第二路投射至衰减片(5)，待测合成光束(1)经过衰减片(5)后一部分经过光线导入光谱仪(8)且另一部分射入聚焦透镜(6)聚焦至CCD(7)。
【技术特征摘要】
1.一种激光合成监控测量装置，其特征在于，包括分光镜(2)、功率计(3)、高反镜(4)、衰减片(5)、聚焦透镜(6)、CCD(7)、光谱仪(8)、M2因子测量仪(11)；其中待测合成光束(1)经过分光镜(2)后分为两路，其中第一路折射至功率计(3)，第二路透射至高反镜(4)，待测合成光束(1)经过高反镜(4)后分为两路，其中第一路折射至M2因子测量仪(11)，第二路投射至衰减片(5)，待测合成光束(1)经过衰减片(5)后一部分经过光线导入光谱仪(8)且另一部分射入聚焦透镜(6)聚焦至CCD(7)。2.根据权利要求1所述的一种激光合成监控测量装置，其特征在于，所述待测合成光束(1)为近红外激光准直输出，连续输出平均功率不超过10kW。3.根据权利要求1所述的一种激光合成监控测量装置，其特征在于，所述分光镜(2)的分光面与入射光束呈45°角且功率阈值大于20MW/cm2。4.根据权利要求1所述的一种激光合成监控测...
【专利技术属性】
技术研发人员：马骏，陈帆，朱日宏，袁群，潘少华，张建云，王敏，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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