【技术实现步骤摘要】
一种等离子体自发光软X射线准单色成像装置及安装方法
本专利技术涉及X射线成像领域，特别涉及到一种可用于等离子体自发光成像诊断的软X射线波段准单色成像装置及安装方法。
技术介绍
等离子体自发光成像是等离子体诊断中的一种重要诊断手段，广泛应用于高温稠密激光等离子体相关的各种研究中。等离子体的自发光成像，可以获得诸如激光焦斑形状、温度分布、尺寸、轮廓等信息，对于定性了解激光聚焦状态和等离子体状态具有重要意义。其中代表性的技术有X射线针孔成像、X射线KB成像等。这些技术获得了很好的应用效果，但这些技术相应的波段均为几keV的较硬X射线。与之对应的，基于软X射线波段的等离子体成像方法，相对比较少。所谓软X射线，这里指的是波长在5nm-30nm的波段。这一波段的辐射，对应的等离子体温度比较低，辐射的总体强度比较弱，因此常常被附近的高温稠密等离子体辐射出来的波长更短的X射线辐射所掩盖。因此针对这些软X射线的辐射的诊断，对于某些温度比较低的等离子体(如等离子体喷流、磁重联等)的诊断，具有重要意义。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种等离子体自发光软X射线准单色...
【技术保护点】
1.一种等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，该装置包括多层膜球面镜(2)、球面镜调整架(3)、多层膜平面镜(4)、平面镜调整架(5)、接收部件(6)和接收部件调整架(7)，所述多层膜球面镜(2)安装在球面镜调整架(3)上，所述多层膜平面镜(4)安装在平面镜调整架(5)上，所述接收部件(6)安装在接收部件调整架(7)上，所述接收部件(6)包括滤片压环(61)、滤片(62)、IP板(63)和底片盒(64)，所述IP板(63)嵌设在底片盒(64)中，所述滤片(62)安装在IP板(63)的左侧，在所述滤片(62)的上端部和下端部均设有用于固定滤片(62)的滤片压环(6...
【技术特征摘要】
1.一种等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，该装置包括多层膜球面镜(2)、球面镜调整架(3)、多层膜平面镜(4)、平面镜调整架(5)、接收部件(6)和接收部件调整架(7)，所述多层膜球面镜(2)安装在球面镜调整架(3)上，所述多层膜平面镜(4)安装在平面镜调整架(5)上，所述接收部件(6)安装在接收部件调整架(7)上，所述接收部件(6)包括滤片压环(61)、滤片(62)、IP板(63)和底片盒(64)，所述IP板(63)嵌设在底片盒(64)中，所述滤片(62)安装在IP板(63)的左侧，在所述滤片(62)的上端部和下端部均设有用于固定滤片(62)的滤片压环(61)，所述球面镜调整架(3)、平面镜调整架(4)、接收部件调整架(7)均为三维调节架，所述多层膜球面镜(2)、多层膜平面镜(4)、接收部件(6)的中心点所在的中轴线与激光束入射线相重合。2.根据权利要求1所述的等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，所述多层膜球面镜(2)的通光口为圆形，该通光口径为30mm，多层膜球面镜(2)的球面曲率半径范围为200mm-1000mm。3.根据权利要求2所述的等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，所述多层膜球面镜(2)上镀制的多层膜的层数为20-100，每层膜的厚度为2nm-10nm，所述每层膜中包含一层Mo层和一层Si层，所述多层膜中Mo层和Si层依次交替排列。4.根据权利要求3所述的等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，所述每层膜中Mo层和Si层的厚度比为1:1。5.根据权利要求1所述的等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，所述多层膜平面镜(5)的通光口为圆形，该通光口径为30mm。6.根据权利要求1所述的等离子体自发光软X射线准单色成像装置，其特征在于，所述多层膜平面镜(5)上镀制的多层膜的层数为20-100，每层膜的厚度为2nm-10nm，所述每层膜中包含一层Mo层和一层Si层，所述多层膜中Mo层和Si层依次交替排列。7.根据权利要求1-6任一所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王琛，熊俊，方智恒，安红海，贺芝宇，曹兆栋，谢志勇，郭尔夫，王伟，王轶文，张众，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所，
类型：发明
国别省市：上海,31
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