【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置和基板处理方法
本公开的实施方式涉及一种基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
以往，已知一种使用将第一处理液与第二处理液混合而成的混合液来对半导体晶圆、玻璃基板等基板进行处理的基板处理装置。在这种基板处理装置中，为了抑制第一处理液的消耗量，有时通过使已使用的混合液返回到贮存第一处理液的容器来进行回收并再利用第一处理液。在回收的混合液中包含第二处理液，因此通过重复上述回收和再利用，容器内的第一处理液的浓度逐渐下降。因此，近年来，提出了如下的方法：将使用后的混合液中的一部分回收其余部分废弃，向容器补充与废弃的混合液等量的第一处理液，由此抑制第一处理液的浓度下降(参照专利文献1)。专利文献1：日本特开2013-207207号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，若不高精度地回收被使用的混合液，则存在容器内的第一处理液无法成为期望的浓度的担忧。实施方式的一个方式的目的在于提供一种能够高精度地回收混合液以使得用于对基板进行处理的第一处理液成为期望的浓度的基板处理装置和基板处理方法。用于解决问题的方案实施方式的一个方式所涉及的基板处理装置具备贮存容器、基板处...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，具备：贮存容器，其用于贮存第一处理液；基板处理部，其通过将第二处理液与从所述贮存容器供给的所述第一处理液的混合液向基板供给来对所述基板进行处理；回收路径，其用于使供给到所述基板处理部的混合液返回到所述贮存容器；废弃路径，其用于将所供给的所述混合液废弃到所述贮存容器以外的场所；供给路径，其用于将所述第一处理液供给到所述贮存容器；切换部，其使所供给的所述混合液的流入目的地在所述回收路径与所述废弃路径之间切换；切换控制部，其对所述切换部进行控制，使得在从所述基板处理部开始向所述基板供给所述混合液起到第一时间经过为止的期间，使所供给的所述混合液向所述废弃路径流...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.03 JP 2016-0193171.一种基板处理装置，具备：贮存容器，其用于贮存第一处理液；基板处理部，其通过将第二处理液与从所述贮存容器供给的所述第一处理液的混合液向基板供给来对所述基板进行处理；回收路径，其用于使供给到所述基板处理部的混合液返回到所述贮存容器；废弃路径，其用于将所供给的所述混合液废弃到所述贮存容器以外的场所；供给路径，其用于将所述第一处理液供给到所述贮存容器；切换部，其使所供给的所述混合液的流入目的地在所述回收路径与所述废弃路径之间切换；切换控制部，其对所述切换部进行控制，使得在从所述基板处理部开始向所述基板供给所述混合液起到第一时间经过为止的期间，使所供给的所述混合液向所述废弃路径流入，在所述第一时间经过后且到基于预先决定的回收率决定的第二时间经过为止的期间，使所供给的所述混合液向所述回收路径流入，在从所述第二时间经过起到所述混合液的供给结束为止的期间，使所供给的所述混合液向所述废弃路径流入。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：循环路径，其用于取出所述贮存容器中贮存的所述第一处理液并使其返回到所述贮存容器；分支路径，其与所述循环路径连接，用于将在所述循环路径中流动的所述第一处理液供给到所述基板处理部；以及分隔构件，其配置成与所述贮存容器的侧壁之间隔开间隙，并将所述贮存容器内上下分隔，所述循环路径的用于取出所述贮存容器内的第一处理液的取出口配置于所述分隔构件的下方，所述循环路径的用于将从所述取出口取出的第一处理液向所述分隔构件喷出的返回口配置于所述分隔构件的上方。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：加热部，其对向所述基板处理部供给的所述第一处理液进行加热；浓度信息获取部，其获取向所述基板处理部供给的所述第一处理液的浓度信息；以及温度控制部，其根据由所述浓度信息获取部获取到的浓度信息，来控制所述加热部对所述第一处理液进行加热的加热温度。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述浓度信息获取部获取使用了所述混合液的所述基板的处理张数来作为所述浓度信息。5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述浓度信息获取部获取所述贮存容器中贮存的液体的比重来作为所述浓度信息。6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述供给路径向所述贮存容器补充具有如下浓度的第一处理液，该浓度为被回收并贮存于所述贮存容器的所述第一处理液的浓度...
【专利技术属性】
技术研发人员：高木康弘，梅野慎一，永井高志，守田寿，绪方信博，高松祐助，东岛治郎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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