一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法技术

技术编号:19069022 阅读:118 留言:0更新日期:2018-09-29 15:15
本发明专利技术公开了一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法,属于硼氢化合物的合成技术领域。本发明专利技术的技术方案要点为:一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法,在无水无氧的条件下将金属铯块加入到反应容器中,然后加入硼烷的四氢呋喃溶液,于0~50℃搅拌反应制得目标产物硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8。本发明专利技术无需使用任何介质来分散碱金属,直接用碱金属铯块进行反应,操作简单,低毒无害,安全可靠,适合规模化生产。

【技术实现步骤摘要】
一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法
本专利技术属于硼氢化合物的合成
,具体涉及一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法。
技术介绍
负离子B3H8-具有广泛的用途,由于其较高的含氢量,在储氢领域具有非常大的应用前景,如已合成出的储氢材料LiB3H8、NaB3H8(J.Am.Chem.Soc.2018,140,6718-6726),含有大量的负氢,并且在常见的有机溶剂中有很好的溶解性,因此也能够作为还原剂使用;并且可以作为合成其它含硼化合物的前驱物,如合成半导体材料MgB2的前驱物Mg(B3H8)2(Inorg.Chem.2007,46,9060–9066)。由于合成方法的限制,M(B3H8)n类硼氢化合物没有得到很好的发展。因此,找到一种操作简单、安全无毒且成本低廉的合成方法非常有必要。目前合成M(B3H8)n类硼氢化合物的方法主要有:1、利用乙硼烷和碱金属,主要是钠汞齐,反应生成NaB3H8。方法中用到了毒性很大且很不安全的汞、乙硼烷等,汞对人体的危害很大,且操作不便,乙硼烷对空气极其敏感,易燃易爆,且具有剧毒,操作同样非常危险。2、单质碘在100℃氧化硼氢本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法,其特征在于具体过程为:在无水无氧的条件下将金属铯块加入到反应容器中,然后加入硼烷的四氢呋喃溶液THF·BH3,于0~50℃搅拌反应制得目标产物硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8。

【技术特征摘要】
1.一种硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法,其特征在于具体过程为:在无水无氧的条件下将金属铯块加入到反应容器中,然后加入硼烷的四氢呋喃溶液THF·BH3,于0~50℃搅拌反应制得目标产物硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8。2.根据权利要求1所述的硼氢阴离子铯盐化合物CsB3H8的合成方法,其特征在于具体步骤为:在氮气手套箱中,将金属铯块装入schlenk反应瓶中,用塞子密封后将schlenk反应瓶移出手套箱,然后加...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈学年刘新冉陈西孟
申请(专利权)人:河南师范大学
类型:发明
国别省市:河南,41

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