一种苦玄参套种立体栽培方法技术

本发明专利技术提供一种苦玄参套种立体栽培方法，该方法利用苦玄参立体架栽培技术套种半阴性中药材的方法，把立体种植技术与套种技术相结合，使苦玄参和半阴性中药材都达到一个较适宜的生长环境，从而提高苦玄参和套种药材的产量，并提高苦玄参IA的含量，本发明专利技术简易可行，种植效益高。

【技术实现步骤摘要】
一种苦玄参套种立体栽培方法
本专利技术属于中药种植
，具体涉及一种苦玄参套种立体栽培方法。
技术介绍
苦玄参，又称苦草、四环素草，是广西特色的大宗药材，拥有几十年的种植经验。传统的苦玄参种植都是大田种植，但这样的种植方法在植物生长期一般存在光照过于强烈，杂草过多等问题会直接影响苦玄参的产量，因而各地种植的苦玄参产量一直不稳定，从200kg～600kg/亩不等，而且到了7、8月份田间植株与植株都是紧挨着的以至于地面空气湿度大，造成植物落叶，影响苦玄参有效成分的含量。因此建立一种新的苦玄参种植模式势在必行。目前，尚未有苦玄参套种技术的报道，考虑到苦玄参种植生理特性，又要兼顾生态效益和经济价值，因此，对苦玄参与其他药材套种立体栽培技术是当前尚需提出的一种新技术思路。在苦玄参栽培技术方面，中国文献“《黑膜覆盖栽培对苦玄参产量及经济效益的影响》，黄海连等，贵州农业科技，2013年第41卷第6期”公开了黑膜覆盖栽培应用于提高苦玄参产量。目前尚未有将中药渣应用于苦玄参种植的报道。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术提供一种苦玄参套种立体栽培方法，具体为苦玄参栽培套种半阴性中药材。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：一种苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于，苦玄参立体栽培套种半阴性中药材，具体步骤包括：a、选地、整地：选择土质肥沃且疏松的沙壤土或棕壤土，在土壤上开好畦面，畦面两侧留出80-120cm的过道；b、苦玄参种植：在畦面两侧距离畦面40-60cm处各安装一排装有混合基质的半管道式立体架1，将苦玄参幼苗定植于混合基质上，株距为20-40cm；c、半阴性中药材种植：将已培育好的幼苗定植于整好的畦面上，并在畦面铺上一层2-4cm厚的覆盖遮蔽物，所述覆盖遮蔽物为腐熟过的中药渣；d、日常管理：包括除草、科学追肥、排水灌溉和病虫害防治。优选地，所述步骤b混合基质为：中药渣60-80％、土壤10-30％、草木灰5-15％。优选地，所述步骤b和步骤c中药渣为三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣，所述苦三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣的比例为1:1:1。优选地，所述半阴性中药材为麦冬、积雪草、广金钱草、狗肝菜、柴胡、百部其中任意一种。优选地，所述步骤a畦面高20cm，宽1.4m，长10m。优选地，所述步骤c将已培育好的中药材幼苗按行距25-50cm，株距25-60cm定植于整好的畦面上。优选地，双排半管道式立体架由铁架、种植槽、滴灌装置组成，所述种植槽固定于铁架两侧，滴灌装置固定于铁架并置于种植槽上方。优选地，所述铁架高2.4m，长10m，种植槽为切去1/3的直径25cm的PVC排水管，从离地面40cm处开始每隔40cm安排一条种植槽，另一排是从地面35cm起每隔40cm安排一条种植槽。优选地，所述步骤d日常管理包括：除草，在未封行之前做好除草工作，避免杂草与药材争夺养分和生存空间；科学追肥，在苦玄参和套种中药材存活后未封行之前追肥一次，封行后的生长期追肥2-3次，每亩撒施复合肥10～15kg；排水灌溉，移栽后检查土壤湿度，以保持表面土壤湿润为宜；常规病虫害防治。与现有技术相比，本专利技术具有如下的有益效果：1、把立体种植技术与套种技术相结合，苦玄参处于立体架处，可为半阴性中药材提供遮荫，同时相邻立体架的苦玄参在一天之中能相互提供部分遮荫时间，使苦玄参不需要长期处于阴性或光照下，这样苦玄参和半阴性中药材都达到一个较适宜的生长环境，同时最大限度地利用了种植空间，苦玄参产量可比常规大田栽培提高10％以上。2、苦玄参是分生能力很强的药用植物，种植后期会出现过密情况，地表苦玄参相互紧挨着会造成地表湿度过大的不良影响，加速黄叶的腐烂和叶片的脱落。立体种植可增加透气性，苦玄参改善落叶的情况，保证了苦玄参苷IA的有效含量，同时中药渣栽培可以使苦玄参苷IA的有效含量比常规栽培提高20％以上，立体套种加上中药渣栽培可以进一步提高苦玄参苷IA的有效含量。3、多级资源化利用中药渣，变废为宝，解决了中药渣污染环境问题，经过有氧发酵后的中药渣富含氮、磷、钾、铁、锰、镁、腐殖质等植物生长所需的营养物质，能够有效减少了肥料的投入。4、中药渣质地疏松，与以往立体种植所用土壤相比，避免了土壤板结的情况。附图说明图1为本专利技术所述一种苦玄参套种立体栽培方法的双排半管道式立体架立体图。图2为本专利技术所述一种苦玄参套种立体栽培方法的双排半管道式立体架侧面图。图3为本专利技术所述一种苦玄参套种立体栽培方法的种植布局剖面示意图。图1-3中标号：11-铁架；2-种植槽；3-滴灌装置。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步的说明，但不以任何方式对本专利技术加以限制，基于本专利技术教导所作的任何变换或改进，均落入本专利技术的保护范围。实施例1一种苦玄参套种立体栽培方法，具体步骤包括：a、选地、整地：选择地势平坦，土质肥沃且疏松的沙壤土，在土壤上开高20cm，宽1.4m，长10m的畦面，畦面两侧留出80cm的过道；b、在畦面两侧距离畦面40cm处各安装一排装有混合基质的双排半管道式立体架1，所述双排半管道式立体架1由铁架11、种植槽12、滴灌装置13组成，铁架11高2.4m，长10m，种植槽12为切去1/3的直径25cm的PVC排水管并固定于铁架11两侧，双排半管道式立体架1的一排从离地面40cm处开始每隔40cm安排一条种植槽2，另一排是从地面35cm起每隔40cm安排一条种植槽2，滴灌装置13固定于铁架11并置于种植槽12上方，种植槽12里装有混合基质，混合基质成分为中药渣60％、土壤30％、草木灰10％，将已培育好的苦玄参幼苗定植于种植槽12中的混合基质，株距为25cm，所述中药渣为三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣，其比例为1:1:1；c、将已培育好的麦冬幼苗按行距25cm，株距25cm定植于整好的畦面上，并在畦面铺上一层2cm厚的中药渣，所述中药渣为三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣，其比例为1:1:1；d、在苦玄参和麦冬存活后未封行之前追肥一次，并做好除草工作，避免杂草与药材争夺养分和生存空间，封行后的生长期追肥两次，每次每亩撒施复合肥15kg，排水灌溉，移栽后检查土壤湿度，保持表面土壤湿润，同时防治害虫，拔除病株去除病害。实施例2一种苦玄参套种立体栽培方法，具体步骤包括：a、选地、整地：选择地势平坦，土质肥沃且疏松的沙壤土，在土壤上开高20cm，宽1.4m，长10m的畦面，畦面两侧留出100cm的过道；b、在畦面两侧距离畦面50cm处各安装一排装有混合基质的双排半管道式立体架1，所述双排半管道式立体架1由铁架11、种植槽12、滴灌装置13组成，铁架11高2.4m，长10m，种植槽12为切去1/3的直径25cm的PVC排水管并固定于铁架11两侧，双排半管道式立体架1的一排从离地面40cm处开始每隔40cm安排一条种植槽2，另一排是从地面35cm起每隔40cm安排一条种植槽2，滴灌装置13固定于铁架11并置于种植槽12上方，种植槽12里装有混合基质，混合基质成分为中药渣60％、土壤35％、草木灰5％，将已培育好的苦玄参幼苗定植于种植槽12中的混合基质，株距为30cm，所述中药渣为三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣，其比例为1:1:1；c、将已培育好的麦冬幼苗按行距28c本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于，苦玄参立体栽培套种半阴性中药材，具体步骤包括：a、选地、整地：选择土质肥沃且疏松的沙壤土或棕壤土，在土壤上开好畦面，畦面两侧留出80‑120cm的过道；b、苦玄参种植：在畦面两侧距离畦面40‑60cm处各安装一排装有混合基质的双排半管道式立体架1，将苦玄参幼苗定植于混合基质上，株距为25‑40cm；c、半阴性中药材种植：将已培育好的幼苗定植于整好的畦面上，并在畦面铺上一层2‑4cm厚的覆盖遮蔽物，所述覆盖遮蔽物为腐熟过的中药渣；d、日常管理：包括除草、科学追肥、排水灌溉和病虫害防治。

【技术特征摘要】
1.一种苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于，苦玄参立体栽培套种半阴性中药材，具体步骤包括：a、选地、整地：选择土质肥沃且疏松的沙壤土或棕壤土，在土壤上开好畦面，畦面两侧留出80-120cm的过道；b、苦玄参种植：在畦面两侧距离畦面40-60cm处各安装一排装有混合基质的双排半管道式立体架1，将苦玄参幼苗定植于混合基质上，株距为25-40cm；c、半阴性中药材种植：将已培育好的幼苗定植于整好的畦面上，并在畦面铺上一层2-4cm厚的覆盖遮蔽物，所述覆盖遮蔽物为腐熟过的中药渣；d、日常管理：包括除草、科学追肥、排水灌溉和病虫害防治。2.根据权利要求1所述的苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于所述步骤b混合基质为：中药渣60-80％、土壤10-30％、草木灰5-15％。3.根据权利要求2所述的苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于所述步骤b和步骤c中药渣为三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣，所述三七药渣、广金钱草药渣、车前草药渣的比例为1:1:1。4.根据权利要求1所述的苦玄参套种立体栽培方法，其特征在于所述半阴性中药材为麦冬、积雪草、广金钱草、狗肝菜、柴胡、百部其中任意一种。5.根据权利要求2所述的苦玄参套种立体栽培...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海洋，唐林梅，黄演福，黄源春，林伟国，
申请(专利权)人：广西梧州制药集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广西,45