显示装置、应用于显示装置中的线结构以及形成线的方法制造方法及图纸

提供了显示装置、应用于显示装置中的线结构以及形成线的方法。所述显示装置包括：基底，包括显示区域和非显示区域；多个像素，设置在显示区域中；多条线，分别连接到所述多个像素，所述多条线将信号施加到所述多个像素，所述多条线均包括第一金属层和第二金属层，第一金属层包括第一金属，第二金属层设置在第一金属层上并且包括第二金属；绝缘层，设置在基底与所述多条线之间的至少一部分处，绝缘层包括无机绝缘层和有机绝缘层；阻挡层，设置在有机绝缘层与第一金属层之间，阻挡层包括第一金属的氧化物。

【技术实现步骤摘要】
显示装置、应用于显示装置中的线结构以及形成线的方法本申请要求于2017年3月10日提交的第10-2017-0030797号韩国专利申请的优先权和由此获得的全部权益，该韩国专利申请的内容通过引用全部包含于此。
本专利技术的示例性实施例涉及一种显示装置。
技术介绍
有机发光显示装置使用作为自发光元件的有机发光二极管来用于显示图像，并且由于其优异的亮度和颜色纯度而已经成为下一代显示装置的焦点。在这样的有机发光显示装置中，使用诸如红色像素、绿色像素和蓝色像素的彩色像素来形成多个像素，因此，显示各种彩色图像。有机发光显示装置通常包括设置在基底上的多层绝缘层、设置在多层绝缘层上的线以及连接到线的多个像素。
技术实现思路
示例性实施例提供一种高质量显示装置以及应用于显示装置中的线结构。根据本专利技术的示例性实施例，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：基底，包括显示区域和非显示区域；多个像素，设置在显示区域中；多条线，分别连接到所述多个像素，所述多条线将信号施加到所述多个像素，所述多条线均包括第一金属层和第二金属层，第一金属层包括第一金属，第二金属层设置在第一金属层上并且包括第二金属；绝缘层，设置在基底与所述多条线之间的至少一部分处，绝缘层包括无机绝缘层和有机绝缘层；阻挡层，设置在有机绝缘层与第一金属层之间，阻挡层包括第一金属的氧化物。在示例性实施例中，有机绝缘层、阻挡层和所述多条线可以包括氧原子，氧原子可以在阻挡层中具有最高浓度峰值。在阻挡层中可以包含比率为约1:1至约3:1的第一金属和氧原子。在示例性实施例中，阻挡层可以具有至的厚度。第一金属层可以具有至的厚度。在示例性实施例中，有机绝缘层可以包括聚酰亚胺类化合物、聚丙烯酸类化合物、包括特氟纶的氟类聚合物化合物、聚有机硅氧烷类化合物、苯并环丁烯类化合物、酚类化合物、环氧类化合物、聚酰胺类化合物、聚苯醚类化合物和聚苯硫醚类化合物中的至少一种。在示例性实施例中，第一金属可以是钛，第二金属可以是铝。所述多条线均还可以包括设置在第二金属层上的第三金属层，第三金属层包括第三金属。第三金属可以是钛。在示例性实施例中，绝缘层可以以多个设置，所述多个绝缘层中的至少一个可以设置为有机绝缘层，所述多条线可以设置在所述多个绝缘层中的至少一个上，阻挡层可以设置在有机绝缘层与所述多条线之间。在示例性实施例中，所述多条线可以包括设置在所述多个绝缘层中的一个绝缘层上的第一线以及设置在所述多个绝缘层中的其它绝缘层中的一个绝缘层上的第二线，第一线和第二线可以通过接触孔彼此连接，所述接触孔限定在设置在第一线与第二线之间的绝缘层中。在示例性实施例中，接触孔可以被限定为通过去除设置在第一线与第二线之间的绝缘层而设置的侧壁，当设置在第一线与第二线之间的绝缘层是有机绝缘层时，阻挡层可以设置在侧壁上。在示例性实施例中，第一线和第二线可以在接触孔中彼此直接接触，阻挡层可以不设置在第一线与第二线之间。在示例性实施例中，所述多个绝缘层可以包括顺序地设置在基底上的第一绝缘层至第四绝缘层。在示例性实施例中，非显示区域可以包括基底在其中被弯曲的弯曲区域。通过其暴露基底的一部分的开口可以在弯曲区域中限定在第一绝缘层至第三绝缘层中，绝缘层可以包括在开口中设置为有机绝缘层的弯曲部绝缘层。在示例性实施例中，所述多个像素中的每个可以包括：薄膜晶体管(“TFT”)，设置在基底上；显示元件，连接到TFT。TFT可以包括：有源图案，设置在基底上；栅电极，设置在第一绝缘层上；源电极和漏电极，设置在第三绝缘层上。在示例性实施例中，所述多条线可以包括连接到源电极的数据线。数据线可以设置在第三绝缘层上，第三绝缘层可以设置为有机绝缘层，阻挡层可以设置在数据线与第三绝缘层之间。在示例性实施例中，所述多条线还可以包括连接到漏电极并设置在第四绝缘层上的连接线，第四绝缘层可以设置为有机绝缘层，阻挡层可以设置在连接线与第四绝缘层之间。在示例性实施例中，非显示区域可以包括基底在其中被弯曲的弯曲区域。绝缘层可以包括在弯曲区域中设置为有机绝缘层的弯曲部绝缘层。所述多条线可以在弯曲区域中设置在弯曲部绝缘层上，阻挡层可以设置在所述多条线与弯曲部绝缘层之间。在示例性实施例中，非显示区域可以包括基底在其中被弯曲的弯曲区域。绝缘层可以包括设置在弯曲区域中的弯曲部绝缘层以及设置在弯曲部绝缘层上的第四绝缘层。弯曲部绝缘层和第四绝缘层可以设置为有机绝缘层，所述多条线可以设置在弯曲部绝缘层和第四绝缘层中的至少一个上，阻挡层可以设置在所述多条线与弯曲部绝缘层和第四绝缘层中的至少一个之间。在示例性实施例中，有机绝缘层和阻挡层可以彼此接触，阻挡层和第一金属层可以彼此接触。根据本专利技术的示例性实施例，提供了一种线结构，所述线结构包括：基底；线，设置在基底上；有机绝缘层，设置在基底与线之间的至少一个区域中；阻挡层，设置在有机绝缘层与线之间，其中，线包括第一金属层和第二金属层，第一金属层包括第一金属，第二金属层设置在第一金属层上并且包括第二金属，阻挡层包括第一金属的氧化物。根据本专利技术的示例性实施例，提供了一种用于形成线的方法，所述方法包括：在基底上的至少一个区域中形成有机绝缘层；在其上设置有有机绝缘层的基底上形成阻挡层；在阻挡层上形成线，其中，形成线的步骤包括在阻挡层上形成第一金属层、在第一金属层上形成第二金属层以及使第一金属层和第二金属层图案化，其中，通过单个工艺来设置阻挡层和第一金属层。可以通过化学气相沉积、物理气相沉积、原子层沉积或间隔物图案化来设置阻挡层和第一金属层。附图说明现在将在下文中参照附图更充分地描述本专利技术的示例性实施例、优点和特征，在附图中：图1是示出根据本专利技术的示例性实施例的线结构的剖视图；图2示出第一金属层的下部、阻挡层和有机绝缘层的上部区域的透射电子显微镜能量色散谱(“TEM-EDS”)；图3是示出根据本专利技术的示例性实施例的线结构的剖视图；图4A是示出根据本专利技术的示例性实施例的显示装置的透视图；图4B是示出图4A的显示装置的平面图；图5A是示出根据本专利技术的示例性实施例的一个像素作为发光器件的情况的等效电路图；图5B是示出图5A中示出的像素的平面图；图5C是沿图5B的线II-II’截取的剖视图；图6是沿图4B的线I-I’截取的剖视图；以及图7至图9是根据本专利技术的示例性实施例的显示装置的剖视图，图7至图9示出了沿图4B的线I-I’截取的剖视图。具体实施方式本公开可以应用各种改变和不同的形状，因此仅用特定示例来详细说明。但是，示例不限于某些形状，而是适用于所有改变和等同的材料以及替换。为了更好地理解而以放大附图的方式示出包括的附图。同样的标号始终表示同样的元件。在附图中，为了清楚起见，可以夸大某些线、层、组件、元件或特征的厚度。将理解的是，尽管术语“第一”、“第二”等可以在这里用来描述各种元件，但是这些元件不应该被这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的“第一”元件也可以被称为“第二”元件。如这里所使用的，除非上下文另有明确指示，否则单数形式也意在包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”和/或其变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在和/或添加一个或更多个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置，所述显示装置包括：基底，包括显示区域和非显示区域；多个像素，设置在所述显示区域中；多条线，分别连接到所述多个像素，所述多条线将信号施加到所述多个像素，所述多条线均包括第一金属层和第二金属层，所述第一金属层包括第一金属，所述第二金属层设置在所述第一金属层上并且包括第二金属；绝缘层，设置在所述基底与所述多条线之间的至少一部分处，所述绝缘层包括无机绝缘层和有机绝缘层；以及阻挡层，设置在所述有机绝缘层与所述第一金属层之间，所述阻挡层包括所述第一金属的氧化物。

【技术特征摘要】
2017.03.10 KR 10-2017-00307971.一种显示装置，所述显示装置包括：基底，包括显示区域和非显示区域；多个像素，设置在所述显示区域中；多条线，分别连接到所述多个像素，所述多条线将信号施加到所述多个像素，所述多条线均包括第一金属层和第二金属层，所述第一金属层包括第一金属，所述第二金属层设置在所述第一金属层上并且包括第二金属；绝缘层，设置在所述基底与所述多条线之间的至少一部分处，所述绝缘层包括无机绝缘层和有机绝缘层；以及阻挡层，设置在所述有机绝缘层与所述第一金属层之间，所述阻挡层包括所述第一金属的氧化物。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述有机绝缘层、所述阻挡层和所述多条线包括氧原子，所述氧原子在所述阻挡层中具有最高浓度峰值。3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，在所述阻挡层中包含比率为1:1至3:1的所述第一金属和所述氧原子。4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述阻挡层具有10埃至200埃的厚度。5.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述第一金属层具有250埃至600埃的厚度。6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述有机绝缘层包括聚酰亚胺类化合物、聚丙烯酸类化合物、包括特氟纶的氟类聚合物化合物、聚有机硅氧烷类化合物、苯并环丁烯类化合物、酚类化合物、环氧类化合物、聚酰胺类化合物、聚苯醚类化合物和聚苯硫醚类化合物中的至少一种。7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一金属是钛，所述第二金属是铝。8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述多条线均还包括设置在所述第二金属层上并包括第三金属的第三金属层。9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第三金属是钛。10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述绝缘层以多个设置，所述多个绝缘层中的至少一个设置为所述有机绝缘层，所述多条线设置在所述多个绝缘层中的至少一个上，所述阻挡层设置在所述有机绝缘层与所述多条线之间。11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述多条线包括设置在所述多个绝缘层中的一个绝缘层上的第一线以及设置在所述多个绝缘层中的其它绝缘层中的一个绝缘层上的第二线，所述第一线和所述第二线通过接触孔彼此连接，所述接触孔限定在所述多个绝缘层中的设置在所述第一线与所述第二线之间的绝缘层中。12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述接触孔被限定为通过去除设置在所述第一线与所述第二线之间的所述绝缘层而设置的侧壁，当设置在所述第一线与所述第二线之间的所述绝缘层是所述有机绝缘层时，所述阻挡层设置在所述侧壁上。13.根据权利要求12所述的显示装置，其中，所述第一线和所述第二线在所述接触孔中彼此直接接触，所述阻挡层不设置在所述第一线与所述第二线之间。14.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述多个绝缘层包括顺序地设置在所述基底上的第一绝缘层至第四绝缘层。15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述非显示区域包括所述基底在其中被弯曲的弯曲区域，其中，通过其...

【专利技术属性】
技术研发人员：金基铉，李珍淑，朴英吉，徐贤尚，安娜理，赵诚赞，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR