一种柔性触控元件及其制备方法技术

本发明专利技术是一种柔性触控元件及其制备方法，该柔性触控元件包括基材、连接在基材上表面的触控层和连接在触控层上表面是保护层，所述触控层包括由下到上依次层叠的第一阻挡层、第一触控电极、第二阻挡层、第二触控电极和阻水层，所述保护层包括由下到上依次层叠的光学补偿层、支撑层和抗反射层，所述柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：a清洗基材、b形成触控层、c形成保护层。本发明专利技术采用碳纳米管制成的触控层具有较高的电导率和较低的方块电阻，不仅使触控元件具有很好的触控性能，还能降低该触控产品的成本，本发明专利技术具有良好的抗弯曲、耐刮擦和抗敲击特性，而且具有较低的光反射率。

Flexible touch element and preparation method thereof

The invention relates to a flexible touch element and a preparation method thereof. The flexible touch element comprises a substrate, a touch layer connected to the upper surface of the substrate and a protective layer connected to the upper surface of the touch layer. The touch layer comprises a first barrier layer, a first touch electrode, a second barrier layer and a second touch electrode stacked successively from bottom to top. The protective layer comprises an optical compensation layer, a support layer and a reflective layer successively stacked from bottom to top. The preparation method of the flexible touch element comprises the following steps: a cleaning substrate, B forming a touch layer, and C forming a protective layer. The touch layer made of carbon nanotubes has high conductivity and low square resistance, which not only makes the touch element have good touch performance, but also reduces the cost of the touch product. The touch layer has good bending resistance, scratch resistance and knock resistance, and has low light reflectivity.

【技术实现步骤摘要】
一种柔性触控元件及其制备方法
本专利技术涉及触摸屏领域，尤其涉及一种柔性触控元件及其制备方法。
技术介绍
随着显示技术的飞速发展，柔性可触控显示已经成为显示领域的发展方向，现有技术通常采用透明导电材料ITO、金属网格等作为触控显示产品中的触控元件，但是这些材料形成的触控元件的机械强度和柔韧性较差，由此决定了其不能很好地应用于柔性显示产品。同时，上述材料的触控元件电导率较低，方块电阻较高，要确保柔性触控显示产品的良好性能，不可避免地也会增加柔性触控显示产品的制作成本。
技术实现思路
本专利技术旨在解决现有技术的不足，而提供一种柔性触控元件及其制备方法。本专利技术为实现上述目的，采用以下技术方案：一种柔性触控元件，包括基材、连接在基材上表面的触控层和连接在触控层上表面是保护层，所述触控层包括由下到上依次层叠的第一阻挡层、第一触控电极、第二阻挡层、第二触控电极和阻水层，所述保护层包括由下到上依次层叠的光学补偿层、支撑层和抗反射层。特别的，所述基材为硬化处理的光学级PET基材。特别的，所述第一阻挡层和所述第二阻挡层均为由氧化硅绝缘材质制成的阻挡层。特别的，所述第一触控电极和所述第二触控电极均为由碳纳米管膜制成。特别的，所述阻水层为由表面涂覆有氧化硅的PET基材制成的阻水层。特别的，所述支撑层为有机膜。特别的，所述抗反射层为由硅氧化物组成的无机复合膜。一种柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：a清洗基材用丙酮和无水乙醇混合溶剂对基材进行处理和清洗，清洗后用离子水对基材进行冲洗，然后用氮气吹干；b形成触控层在基材上沉积第一阻挡层，在第一阻挡层上沉积并图案化形成第一触控电极，然后在第一触控电极上沉积第二阻挡层，在第二阻挡层上沉积并图案化形成第二触控电极，在第二触控电极上形成阻水层；c形成保护层利用湿法涂布方法，在阻水层上形成光学补偿层，所述光学补偿层的折射率范围为0.8-2.5，所述光学补偿层的厚度为120-280nm；利用湿法涂布将支撑层转印到所述光学补偿层上，所述支撑层的厚度为30-70um；在支撑层上形成抗反射层，所述抗反射层的折射率为0.8-3，所述抗反射层的厚度为120-280nm。特别的，每层形成后需要采用离子水进行清洗并用氮气干燥。特别的，所述步骤b在强氧化性材料的环境中进行操作，所述强氧化性材料为二氧化氮或溴。本专利技术的有益效果是：本专利技术采用碳纳米管制成的触控层具有较高的电导率和较低的方块电阻，不仅使触控元件具有很好的触控性能，还能降低该触控产品的成本，本专利技术具有良好的抗弯曲、耐刮擦和抗敲击特性，而且具有较低的光反射率。附图说明图1为本专利技术的结构示意图；图中：1-基材；2-触控层；201-第一阻挡层；202-第一触控电极；203-第二阻挡层；204-第二触控电极；205-阻水层；3-保护层；301-光学补偿层；302-支撑层；303-抗反射层；以下将结合本专利技术的实施例参照附图进行详细叙述。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步说明：如图1所示，一种柔性触控元件，包括基材1、连接在基材1上表面的触控层2和连接在触控层2上表面是保护层3，所述触控层2包括由下到上依次层叠的第一阻挡层201、第一触控电极202、第二阻挡层203、第二触控电极204和阻水层205，所述保护层3包括由下到上依次层叠的光学补偿层301、支撑层302和抗反射层303。特别的，所述基材1为硬化处理的光学级PET基材。特别的，所述第一阻挡层201和所述第二阻挡层203均为由氧化硅绝缘材质制成的阻挡层。特别的，所述第一触控电极202和所述第二触控电极204均为由碳纳米管膜制成。特别的，所述阻水层205为由表面涂覆有氧化硅的PET基材制成的阻水层。特别的，所述支撑层302为有机膜。特别的，所述抗反射层303为由硅氧化物组成的无机复合膜。一种柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：a清洗基材用丙酮和无水乙醇混合溶剂对基材1进行处理和清洗，清洗后用离子水对基材1进行冲洗，然后用氮气吹干；b形成触控层在基材1上沉积第一阻挡层201，在第一阻挡层201上沉积并图案化形成第一触控电极202，然后在第一触控电极202上沉积第二阻挡层203，在第二阻挡层203上沉积并图案化形成第二触控电极204，在第二触控电极204上形成阻水层205；c形成保护层利用湿法涂布方法，在阻水层205上形成光学补偿层301，所述光学补偿层301的折射率范围为0.8-2.5，所述光学补偿层301的厚度为120-280nm；利用湿法涂布将支撑层302转印到所述光学补偿层301上，所述支撑层302的厚度为30-70um；在支撑层302上形成抗反射层303，所述抗反射层303的折射率为0.8-3，所述抗反射层303的厚度为120-280nm。特别的，每层形成后需要采用离子水进行清洗并用氮气干燥。特别的，所述步骤b在强氧化性材料的环境中进行操作，所述强氧化性材料为二氧化氮或溴。实施例一一种柔性触控元件，包括基材1、连接在基材1上表面的触控层2和连接在触控层2上表面是保护层3，所述触控层2包括由下到上依次层叠的第一阻挡层201、第一触控电极202、第二阻挡层203、第二触控电极204和阻水层205，所述保护层3包括由下到上依次层叠的光学补偿层301、支撑层302和抗反射层303。特别的，所述基材1为硬化处理的光学级PET基材。特别的，所述第一阻挡层201和所述第二阻挡层203均为由氧化硅绝缘材质制成的阻挡层。特别的，所述第一触控电极202和所述第二触控电极204均为由碳纳米管膜制成。特别的，所述阻水层205为由表面涂覆有氧化硅的PET基材制成的阻水层。特别的，所述支撑层302为有机膜。特别的，所述抗反射层303为由硅氧化物组成的无机复合膜。一种柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：a清洗基材用丙酮和无水乙醇混合溶剂对基材1进行处理和清洗，清洗后用离子水对基材1进行冲洗，然后用氮气吹干；b形成触控层在基材1上沉积第一阻挡层201，在第一阻挡层201上沉积并图案化形成第一触控电极202，然后在第一触控电极202上沉积第二阻挡层203，在第二阻挡层203上沉积并图案化形成第二触控电极204，在第二触控电极204上形成阻水层205；c形成保护层利用湿法涂布方法，在阻水层205上形成光学补偿层301，所述光学补偿层301的折射率为0.8，所述光学补偿层301的厚度为120nm；利用湿法涂布将支撑层302转印到所述光学补偿层301上，所述支撑层302的厚度为30um；在支撑层302上形成抗反射层303，所述抗反射层303的折射率为0.8，所述抗反射层303的厚度为120nm。特别的，每层形成后需要采用离子水进行清洗并用氮气干燥。特别的，所述步骤b在强氧化性材料的环境中进行操作，所述强氧化性材料为二氧化氮或溴。实施例二一种柔性触控元件，包括基材1、连接在基材1上表面的触控层2和连接在触控层2上表面是保护层3，所述触控层2包括由下到上依次层叠的第一阻挡层201、第一触控电极202、第二阻挡层203、第二触控电极204和阻水层205，所述保护层3包括由下到上依次层叠的光学补偿层301、支撑层302和抗反射层303。特别的，所述基材1为硬化处理的光学级PET基材。特别的，所述第一阻挡层201和所述第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性触控元件，其特征在于，包括基材(1)、连接在基材(1)上表面的触控层(2)和连接在触控层(2)上表面是保护层(3)，所述触控层(2)包括由下到上依次层叠的第一阻挡层(201)、第一触控电极(202)、第二阻挡层(203)、第二触控电极(204)和阻水层(205)，所述保护层(3)包括由下到上依次层叠的光学补偿层(301)、支撑层(302)和抗反射层(303)。

【技术特征摘要】
1.一种柔性触控元件，其特征在于，包括基材(1)、连接在基材(1)上表面的触控层(2)和连接在触控层(2)上表面是保护层(3)，所述触控层(2)包括由下到上依次层叠的第一阻挡层(201)、第一触控电极(202)、第二阻挡层(203)、第二触控电极(204)和阻水层(205)，所述保护层(3)包括由下到上依次层叠的光学补偿层(301)、支撑层(302)和抗反射层(303)。2.根据权利要求1所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述基材(1)为硬化处理的光学级PET基材。3.根据权利要求2所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述第一阻挡层(201)和所述第二阻挡层(203)均为由氧化硅绝缘材质制成的阻挡层。4.根据权利要求3所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述第一触控电极(202)和所述第二触控电极(204)均为由碳纳米管膜制成。5.根据权利要求4所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述阻水层(205)为由表面涂覆有氧化硅的PET基材制成的阻水层。6.根据权利要求5所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述支撑层(302)为有机膜。7.根据权利要求6所述的一种柔性触控元件，其特征在于，所述抗反射层(303)为由硅氧化物组成的无机复合膜。8.一种如权利要求7所述的柔性触控元件的制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员：司荣美，潘中海，刘彩风，
申请(专利权)人：天津宝兴威科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12