掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板制造技术

本发明专利技术涉及一种主掩膜板、配合掩膜板及掩膜组件，该掩膜组件包括具有蒸镀区的主掩膜板，具有配合区的配合掩膜板，主掩膜板的有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，配合掩膜板的第一配合区内布设有第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板上的正投影，且配合掩膜板的第二配合区遮挡主掩膜板无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。上述掩膜组件中，主掩膜板上在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，可以通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，制得具有开槽区的异形显示面板。

Mask assembly, main mask plate and mask plate.

The present invention relates to a main mask plate, a matching mask plate and a mask assembly. The mask assembly includes a main mask plate with an evaporation zone and a matching mask plate with a matching zone. The effective evaporation zone of the main mask plate corresponds to the display area of the display panel. A first matching opening is arranged in the first matching zone of the matching mask plate. The positive projection of the effective evaporation opening on the matching mask plate is completely covered by the positive projection of the matching opening on the matching mask plate, and the second matching area of the matching mask plate blocks the ineffective evaporation opening in the ineffective evaporation area of the main mask plate. In the mask assembly, the main mask plate is provided with an invalid evaporation opening outside the special-shaped effective evaporation zone, which can average the stress at the edge of the effective evaporation zone, prevent the edge of the effective evaporation zone from wrinkling due to uneven force, and improve the evaporation yield. At the same time, the special-shaped display panel with slotted area can be made by matching the second matching area on the mask to block the invalid plating opening in the invalid plating area.

【技术实现步骤摘要】
掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板
本专利技术涉及显示器制备
，特别是涉及掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板。
技术介绍
目前OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀沉积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，需要使用高精度金属掩膜板，掩膜板(即高精度金属掩膜板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。随着开槽的异形显示屏日渐占据主流市场，相应异形屏体的需求日渐增加。但是在制备异形屏的过程中，掩膜板容易褶皱而影响与玻璃基板的贴合，最终导致蒸镀良率较低。
技术实现思路
基于此，本专利技术提供了一种掩膜组件，解决了异形显示屏制备过程中掩膜板容易褶皱的问题，提高了蒸镀工艺的良率。为了实现以上目的，本专利技术提供了一种掩膜组件。一种掩膜组件，包括具有蒸镀区的主掩膜板，所述主掩膜板包括蒸镀面和玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；所述蒸镀区具有多个蒸镀开口，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：具有蒸镀区的主掩膜板，所述蒸镀区具有多个蒸镀开口，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，位于所述有效蒸镀区内的所述蒸镀开口为有效蒸镀开口，位于所述无效蒸镀区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口；具有配合区的配合掩膜板，所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区与所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述无效蒸镀区对应；其中，所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，所述第一配合区内布设有第一配合开口，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影完全覆盖所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，且所述第二配合区遮挡所述无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜组件，其特征在于，包括：具有蒸镀区的主掩膜板，所述蒸镀区具有多个蒸镀开口，所述蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，位于所述有效蒸镀区内的所述蒸镀开口为有效蒸镀开口，位于所述无效蒸镀区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口；具有配合区的配合掩膜板，所述配合区包括第一配合区和/或第二配合区，所述第一配合区与所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述无效蒸镀区对应；其中，所述有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，所述第一配合区内布设有第一配合开口，所述第一配合开口在所述配合掩膜板上的正投影完全覆盖所述有效蒸镀开口在所述配合掩膜板上的正投影，且所述第二配合区遮挡所述无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括蒸镀面和玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；所述配合掩膜板与所述主掩膜板的所述蒸镀面层叠。3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少两个子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第一无效蒸镀区，所述第一无效蒸镀区位于所述主掩膜板的相邻两个所述子掩膜板之间，且所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分未设置异形开口区，所述第一无效蒸镀区内分布有多个所述无效蒸镀开口；所述配合掩膜板包括第一配合掩膜板，所述第一配合掩膜板的所述第一配合区与所述相邻两个所述子掩膜板上靠近所述第一无效蒸镀区的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第一无效蒸镀区对应，且遮挡所述第一无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。4.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少一个所述子掩膜板，所述子掩膜板具有异形开口区，所述异形开口区内布设有所述蒸镀开口，且所述异形开口区内的所述蒸镀开口为无效蒸镀开口。5.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述无效蒸镀区包括第二无效蒸镀区，所述第二无效蒸镀区位于所述主掩膜板一端，且与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；所述配合掩膜板包括第二配合掩膜板，所述第二配合掩膜板的所述第一配合区，与位于所述主掩膜板一端的子掩膜板的所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第二无效蒸镀区对应，且遮挡所述第二无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。6.根据权利要求4所述的掩膜组件，其特征在于，所述主掩膜板包括至少两个所述子掩膜板，所述无效蒸镀区包括第三无效蒸镀区，所述第三无效蒸镀区包括第三主无效蒸镀区和第三辅无效蒸镀区，所述第三主无效蒸镀区位于相邻两个所述子掩膜板之间，所述第三辅无效蒸镀区与所述子掩膜板的所述异形开口区对应；所述配合掩膜板包括第三配合掩膜板，所述第三配合掩膜板的所述第一配合区，与所述相邻两个所述子掩膜板的部分所述有效蒸镀区对应，所述第二配合区与所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区对应，且遮挡所述第三主无效蒸镀区及所述第三辅无效蒸镀区内的所述无效蒸镀开口。7.根据权利要求6所述的掩膜组件，其特征在于，位于所述第三主无效蒸镀区两侧的所述子掩膜板中，任意一个所述子掩膜板...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩冰，王徐亮，张玄，甘帅燕，高峰，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32