抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构，其中，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。本实用新型专利技术所提出的抛光砖结构，其抛光面上设置有凹槽，并且在凹槽中设置有釉料层，通过凹槽和釉料层的结合在抛光砖的抛光面上形成丰富图案或者纹路，并且该凹槽对应的丰富图案或者纹路并不会受到抛光打磨的影响。

【技术实现步骤摘要】
抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构
本技术涉及瓷砖生产领域，尤其涉及的是一种抛光面带有凹槽的抛光砖及其模具结构。
技术介绍
瓷砖作为一种重要的建材，广泛应用到不同类型的建筑装修中。在实际应用中，瓷砖的铺贴需要配合一定的纹路图案，以提高瓷砖的美观性，例如墙裙砖、楼梯台阶砖等均要求铺贴后的瓷砖具有一定的纹路图案。传统的方式有两种，一种是直接通过不同种类/尺寸的瓷砖组合铺贴，形成纹路或图案；另一种是直接在单个瓷砖产品上设置纹路或图案。针对第二种方式，一般采用仿古砖、抛釉砖等釉面砖，因为釉面砖是在砖体表面通过丝网印刷或者喷涂等方式添加釉料，经过窑炉烧成后，釉料会形成色彩艳丽的纹路或图案。但是釉面砖硬度低、不耐磨，表面容易刮花(甚至施釉层被刮磨掉)，刮花后直接影响纹路或图案的美观性。而如果采用抛光砖，由于抛光砖是直接在胚体上直接打磨的砖，其生产过程中并不适合添加釉料(打磨抛光时会将釉料刮花)，因此难以在抛光砖上设置纹路或图案。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种抛光面带有凹槽的抛光砖。本技术的技术方案如下：一种抛光面带有凹槽的抛光砖，其中，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。所述的抛光砖，其中，所述凹槽为花纹槽或分隔槽。所述的抛光砖，其中，所述凹槽设置有两个，两个凹槽平行设置在所述抛光砖的抛光面。所述的抛光砖，其中，所述两个凹槽之间的距离为500-1200mm。所述的抛光砖，其中，所述抛光砖的吸水率不超过0.5％。本技术的另一个目的在于提供生产上述抛光砖的模具结构。一种生产抛光面带有凹槽的抛光砖的模具结构，用于对抛光砖粉料进行压制成型，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽，其中，包括上模、下模和压条；在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽。所述的模具结构，其中，所述下模包括基座和活动面；在抛光砖粉料送达到模具结构中后，所述活动面相对于所述基座下沉，形成压制凹腔，所述抛光砖粉料落入所述压制凹腔中，所述上模动作向压制凹腔中的抛光砖粉料进行挤压。所述的模具结构，其中，所述压条设置在所述上模的挤压面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料上表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料上表面形成凹槽。所述的模具结构，其中，所述压条设置在所述下模的活动面上，在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，设置在活动面上的压条对抛光砖粉料下表面进行挤压，使抛光砖粉料下表面形成凹槽。本技术的有益效果：本技术所提出的抛光砖结构，其抛光面上设置有凹槽，并且在凹槽中设置有釉料层，通过凹槽和釉料层的结合在抛光砖的抛光面上形成丰富图案或者纹路，并且该凹槽对应的丰富图案或者纹路并不会受到抛光打磨的影响。附图说明图1是本技术中抛光砖粉料送达模具结构的结构简图。图2是本技术中下模的俯视图。图3是本技术中下模的活动面下沉后的模具结构的结构简图。图4是本技术的楼梯台阶抛光砖的结构简图。图5是本技术的另一种楼梯台阶抛光砖的结构简图。图6是本技术的墙裙抛光砖的结构简图。图7是本技术的具有双凹槽的抛光砖的侧视图。图8是压条设置在下模的活动面上的模具结构的结构简图。图9是压条设置在下模的活动面上的下模俯视图。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本技术进一步详细说明。本技术公开了一种抛光面带有凹槽的抛光砖生产工艺，包括以下步骤：布料：将配制好的抛光砖粉料布设在栅格中；具体为，根据抛光砖的生产要求配制粉料，并将配制好的粉料布设在栅格中。实际应用中，如果抛光砖需要有多种颜色，则需要按照栅格的色块结构进行布料，即将栅格分隔形成多个独立的区域，每个区域布设不同颜色的粉料，以形成具有多种色块的抛光砖产品。压制成型：将布设好的抛光砖粉料送入模具结构中压制成型；具体为，通过栅格将布设好的抛光砖粉料送入模具结构中，所采用的模具结构简图参见图1至图3。模具包括上模10()和下模200，该上模100设置有凸起的压条110，下模200包括基座210和活动面220。在对抛光砖粉料进行压制成型时，栅格将抛光砖粉料400送达到活动面220上(参见图1)，然后活动面220相对于基座210下沉，形成压制凹腔300(参见图3)，抛光砖粉料400落入该压制凹腔300中，此时上模100动作下落向压制凹腔300中的抛光砖粉料400进行挤压，上模100表面设置的压条110对抛光砖粉料400表面进行挤压，使压制成型后的抛光砖粉料400表面形成凹槽(带有凹槽的抛光砖粉料400的表面在烧制后形成抛光砖的抛光面)。为了实现上模100和活动面220的动作，上模100和活动面220必然分别连接有动力机构(图中没画出)，该动力机构可以采用气缸、油缸、电机等已知的可以为上模100和活动面220提供动力的结构，在此不再赘述。淋釉：对抛光砖粉料表面的凹槽进行淋釉，使釉料覆盖所述凹槽。烧制：对淋釉后的抛光砖粉料进行高温烧制，形成抛光砖胚体。具体为，将压制成型后的抛光砖粉料送入窑炉中进行高温烧制，得到抛光砖胚体。经过烧制后的釉料在凹槽中固化，附着在凹槽中。抛光：对抛光砖胚体进行抛光。使用本技术的生产工艺生产得到的抛光砖，由于釉料经过烧制后在抛光砖的抛光面的凹槽中固化，附着在凹槽中，在抛光时，抛光设备只能打磨抛光砖表面，并不损坏凹槽的凹腔面，因此不会因为抛光而对凹槽的凹腔中的釉料产生影响(例如导致釉料脱落等)。而抛光砖的抛光面的凹槽与釉料(颜色)共同形成抛光砖的抛光面的纹路或图案，该纹路或图案并不会因为抛光砖抛光打磨而产生刮花、或者被刮除等不良效果。在某个实施例中，参见图8和图9，根据瓷砖生产工艺要求的不同，瓷砖压制成型又分为正压成型(即对应抛光砖粉料上表面为抛光面，正压模具结构参见图1至图3)和反压成型(即对应抛光砖粉料下表面为抛光面，反压模具参见图8和图9)，本实施例中，采用反压成型模具结构，具体为，将压条110设置在活动面220上，在上模100和下模200合模对抛光砖粉料进行压制成型时，设置在活动面220上的压条110对抛光砖粉料下表面进行挤压，使抛光砖粉料下表面形成凹槽，此时抛光砖粉料下表面为抛光面(实现在抛光砖的抛光面形成凹槽)。需要说明的是，本申请所公开的压条110可以采用不同形状的结构，例如长条形、圆形、弧形、多边形等，也可以通过采用多种不同形状尺寸的压条110组合形成压纹图案。实际应用中，利用本技术公开的工艺生产得到的抛光砖，其抛光面带有凹槽，凹槽内部设置有釉料层。更加具体的，根据实际生产要求，通过改变上模100的压条110的位置、尺寸、形状、数量等参数，可以在抛光砖的抛光面的不同位置形成尺寸不同、形状不同、数量不同的凹槽；更加具体的，通过这些凹槽可以组合形成不同的纹路图案，以下列举实施例进行详细说明。在某个实施例中，参见图4，图4是楼梯台阶抛光砖的结构简图，该抛光砖由两种色块组成，分别为第一色块11和第二色块12，第二色块12设置有两个，分别设置在第一色块11的两侧。第一色块11和第二色块12通本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光面带有凹槽的抛光砖，其特征在于，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。

【技术特征摘要】
1.一种抛光面带有凹槽的抛光砖，其特征在于，所述抛光砖的抛光面设置有至少一个凹槽，所述凹槽中设置有釉料层。2.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述凹槽为花纹槽或分隔槽。3.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述凹槽设置有两个，两个凹槽平行设置在所述抛光砖的抛光面。4.根据权利要求3所述的抛光砖，其特征在于，所述两个凹槽之间的距离为500-1200mm。5.根据权利要求1所述的抛光砖，其特征在于，所述抛光砖的吸水率不超过0.5％。6.一种生产抛光面带有凹槽的抛光砖的模具结构，用于对抛光砖粉料进行压制成型，使压制成型后的抛光砖粉料表面形成凹槽，其特征在于，包括上模、下模和压条；在所述上模和所述下模合模对抛光砖粉料进行压制成型时，所述压条对抛光砖粉料表面进行挤压，使...

【专利技术属性】
技术研发人员：李成蹊，
申请(专利权)人：佛山市金牛陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44