The invention relates to a thin layer deposition method and a product obtained, in particular to a method for obtaining a substrate covered with a low emissivity thin layer stack on at least one surface, including the following steps: a thin layer stack including at least one silver layer is deposited between two thin dielectric layers on the at least one surface of the substrate; Using at least one laser radiation heat treatment of at least one wavelength emitted at 500 to 2000 nm, the at least one covered surface reduces the emissivity and/or surface resistance of the stack body by at least 5%; according to the present invention, the stack body includes at least one layer that partially absorbs laser radiation before processing, so as to The absorption of the stack at least one wavelength of the laser radiation causes the absorption of the 4 mm thick glass substrate covered with the stack at least one wavelength of the laser radiation to be greater than or equal to 10%.
【技术实现步骤摘要】
薄层的沉积方法和获得的产品本申请是国际申请日为2010年6月11日，PCT申请号为PCT/FR2010/051172，进入国家阶段的申请号为201080025936.X，专利技术名称为“薄层的沉积方法和获得的产品”的PCT申请的分案申请。
本专利技术涉及无机薄层，特别地沉积在玻璃基材上的无机薄层的领域。
技术介绍
许多薄层沉积在基材上，特别地由平面或者稍微弯曲的玻璃制成的基材，以便为获得的材料提供特别的性质：光学性质，例如给定波长范围的辐射的反射或者吸收；特定的导电性质；或与清洁容易性有关的性质或与对于自清洁材料的可能性。这些薄层最通常基于无机化合物：氧化物、氮化物或金属。它们的厚度通常从几纳米变化至几百纳米，因此被定性为"薄的"。基于金属银的薄层(其具有导电和红外辐射的反射性质)最大好处是因此它们用在日光控制窗玻璃中，特别地防晒窗玻璃(为了降低进入的太阳能的量)和/或低发射率(为了降低消散到建筑物或车辆外面的能量的量)窗玻璃。特别地为了避免银的氧化和减弱它在可见光中的反射性质，所述或每个薄银层通常插入在层堆叠体中。在日光控制或低发射率窗玻璃的情况下，所述或每个银...
【技术保护点】
1.用于获得在至少一个面上用低发射率薄层堆叠体覆盖的基材的方法，包括以下步骤：‑在所述基材的所述至少一个面上沉积薄层堆叠体，该堆叠体在至少两个薄介电层之间包括至少一个薄银层，‑使用至少一种在500‑2000nm之间的至少一个波长发射的激光辐射来热处理该至少一个被覆盖的面使得该堆叠体的发射率和/或薄膜电阻减少至少5%，所述方法使得所述堆叠体在处理之前包括至少一个至少部分吸收激光辐射的薄层，以便所述堆叠体在该至少一个激光辐射波长的吸收使得用所述堆叠体覆盖的4mm厚的透明玻璃基材在所述至少一个激光辐射波长的吸收大于或等于10%。
【技术特征摘要】
2009.06.12 FR 09539561.用于获得在至少一个面上用低发射率薄层堆叠体覆盖的基材的方法，包括以下步骤：-在所述基材的所述至少一个面上沉积薄层堆叠体，该堆叠体在至少两个薄介电层之间包括至少一个薄银层，-使用至少一种在500-2000nm之间的至少一个波长发射的激光辐射来热处理该至少一个被覆盖的面使得该堆叠体的发射率和/或薄膜电阻减少至少5%，所述方法使得所述堆叠体在处理之前包括至少一个至少部分吸收激光辐射的薄层，以便所述堆叠体在该至少一个激光辐射波长的吸收使得用所述堆叠体覆盖的4mm厚的透明玻璃基材在所述至少一个激光辐射波长的吸收大于或等于10%。2.根据权利要求1的方法，其中在与用该至少一种激光辐射处理的面相对面上的该基材面的温度在热处理期间不超过100℃，特别地50℃，甚至30℃。3.根据前述权利要求之一的方法，其中该堆叠体的薄膜电阻和/或发射率通过该热处理降低至少15%或20%。4.根据前述权利要求之一的方法，其中该堆叠体包括至少两个银层，所述堆叠体在该至少一个激光辐射波长的吸收使得用所述堆叠体覆盖的4mm厚的透明玻璃基材在所述至少一个激光辐射波长的吸收大于或等于11%，和热处理使得该堆叠体的选择性相对提高至少1%，特别地至少2%。5.根据前述权利要求之一的方法，其中该基材是由玻璃或者聚合有机材料制成。6.根据前述权利要求之一的方法，其中至少部分地吸收该激光辐射的薄层是直接地沉积在该银层上方或直接地沉积在该银层下方的金属层，其厚度为2-5nm，特别地3-5nm，该金属层尤其选自基于钛、镍、铬、铌的金属或它们任一种的合金的层。7.根据前述权利要求之一的方法，其中至少部分地吸收该激光辐射的薄层是氮化物层，特别地选自铌或钛的化学计量氮化物或其任一种混合物，或亚化学计量氮的硅、铝、铌或钛氮化物，或它们的任一种混合物。8.根据前述权利要求之一的方法，其中至少部分地吸收该激光辐射的薄层是与空气接触的并且由金属、亚化学计量氧的金属氧化物或金属氮化物组成的层。9.根据前述权利要求之一的方法，其中至少部分地吸收该激光辐射的薄层是亚化学计量氧的金属氧化物的层，其位于在所述或每个银层下方并且优选地与其接触，或位于所述或每个银层的上方并且优选地与其接触。10.根据前述权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：V雷蒙，A卡申科，N纳多，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：法国,FR
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