真空吸附底座制造技术

本发明专利技术提供一种真空吸附底座，用于真空吸附玻璃基板。所述真空吸附底座包括：基台、主底座和至少一个副底座；所述主底座固定于所述基台的表面，所述主底座包括远离所述基台的第一表面，所述第一表面设有第一吸附槽，所述主底座上设有与外部真空源连接的第一真空管道，所述第一吸附槽与所述第一真空管道连通；至少一个所述副底座可相对于所述主底座移动，至少一个所述副底座包括远离所述基台的表面设有第二吸附槽，至少一个所述副底座上设有与外部真空源连接的第二真空管道，所述第二吸附槽与所述第二真空管道连通。本发明专利技术所述真空吸附底座可灵活吸附各种不同尺寸的玻璃基板，节省了进行底座更换所需要的时间和人力，降低了成产成本。

Vacuum adsorption base

The invention provides a vacuum adsorption base for vacuum adsorption of glass substrates. The vacuum adsorption base comprises a base, a main base and at least one sub-base, the main base is fixed on the surface of the base, the main base comprises a first surface far from the base, the first surface is provided with a first adsorption groove, and the main base is provided with a first vacuum pipe connected with an external vacuum source. The first adsorption groove is connected with the first vacuum pipe; at least one of the sub-bases is movable relative to the main base; at least one of the sub-bases includes a second adsorption groove on the surface away from the base, and at least one of the sub-bases is provided with a second vacuum pipe connected with an external vacuum source, and the sub-base is movable relative to the main base. Two the adsorption tank communicates with the second vacuum pipeline. The vacuum adsorption base of the invention can flexibly adsorb various glass substrates of different sizes, save the time and manpower needed for substrates replacement, and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
真空吸附底座
本专利技术涉及显示面板生产制造领域，特别涉及一种真空吸附底座。
技术介绍
在显示面板的生产制备过程中，需要将母版切割成对应的显示尺寸，而母版切割后玻璃基板的边缘存在着微裂纹，需要对玻璃的边缘进行磨边处理，避免后续制程中发生破裂。目前的磨边制程是将玻璃基板放置到比玻璃基板尺寸略小的真空吸附底座上，真空吸附底座通过真空吸附力将玻璃基板固定，然后再对玻璃的边缘进行磨边。一般来说，真空吸附底座的尺寸是固定的，针对不同的玻璃基板需要替换不同尺寸的真空吸附底座，且真空吸附底座的拆卸和重装需要消费大量的人力物力，使得显示面板的生产成本增加。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种真空吸附底座，可灵活吸附不同尺寸的产品，节省底座更换所需的人力物力，降低生产成本。本专利技术所述真空吸附底座，用于真空吸附玻璃基板，包括：基台、主底座和至少一个副底座；所述主底座固定于所述基台的表面，所述主底座包括远离所述基台的第一表面，所述第一表面设有第一吸附槽，所述主底座上设有与外部真空源连接的第一真空管道，所述第一吸附槽与所述第一真空管道连通；至少一个所述副底座可相对于所述主底座移动，至少一个所述副底座本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附底座，用于真空吸附玻璃基板，其特征在于，包括：基台、主底座和至少一个副底座；所述主底座固定于所述基台的表面，所述主底座包括远离所述基台的第一表面，所述第一表面设有第一吸附槽，所述主底座上设有与外部真空源连接的第一真空管道，所述第一吸附槽与所述第一真空管道连通；至少一个所述副底座可相对于所述主底座移动，至少一个所述副底座包括远离所述基台的表面设有第二吸附槽，至少一个所述副底座上设有与外部真空源连接的第二真空管道，所述第二吸附槽与所述第二真空管道连通。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附底座，用于真空吸附玻璃基板，其特征在于，包括：基台、主底座和至少一个副底座；所述主底座固定于所述基台的表面，所述主底座包括远离所述基台的第一表面，所述第一表面设有第一吸附槽，所述主底座上设有与外部真空源连接的第一真空管道，所述第一吸附槽与所述第一真空管道连通；至少一个所述副底座可相对于所述主底座移动，至少一个所述副底座包括远离所述基台的表面设有第二吸附槽，至少一个所述副底座上设有与外部真空源连接的第二真空管道，所述第二吸附槽与所述第二真空管道连通。2.如权利要求1所述的真空吸附底座，其特征在于，所述基台的表面设有至少一个由所述主底座周缘向外延伸的滑轨，至少一个所述滑轨与至少一个所述副底座滑动连接。3.如权利要求2所述的真空吸附底座，其特征在于，所述滑轨上设有标尺，所述标尺用于定位所述副底座。4.如权利要求2或3所述的真空吸附底座，其特征在于，所述副底座包括支撑柱和与所述支撑柱固定连接的承载板，所述支撑柱滑动连接于所述滑轨上，所述承载板包括远离所述支撑柱的第二表面，所述第二吸附槽设于所述第二表面，所述第二表面与所述基台之间的距离...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈皓，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44