BPS型阵列基板的制作方法及BPS型阵列基板技术

本发明专利技术提供一种BPS型阵列基板的制作方法及BPS型阵列基板。本发明专利技术的BPS型阵列基板的制作方法，利用第一色阻层和第二色阻层形成的双层色阻结构分别用于垫高主隔垫物和辅助隔垫物的主衬垫部和辅助衬垫部，使得所述主衬垫部和辅助衬垫部凸起明显，从而使得主隔垫物和辅助隔垫物自身的厚度减小，进而可以减少形成主隔垫物和辅助隔垫物的BPS材料用量，降低生产成本，通过半曝光工艺减薄辅助衬垫部下方第一色阻层的厚度即可实现所述主隔垫物和辅助隔垫物之间的高度差，制作方法简单。

Method for manufacturing BPS type array substrate and BPS type array substrate

The invention provides a method for manufacturing a BPS type array substrate and a BPS type array substrate. The BPS type array substrate of the invention is fabricated by using a double-layer color barrier structure formed by the first color barrier layer and the second color barrier layer for padding the main pad and the auxiliary pad, respectively, so as to make the main pad and the auxiliary pad protrude obviously, thereby making the main pad and the auxiliary pad protrude obviously. By reducing the thickness of the first color barrier layer below the auxiliary pad part, the height difference between the main pad and the auxiliary pad can be realized, and the manufacturing method is simple.

【技术实现步骤摘要】
BPS型阵列基板的制作方法及BPS型阵列基板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种BPS型阵列基板的制作方法及BPS型阵列基板。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品，其生产工艺技术十分成熟，产品良率高，生产成本相对较低，市场接受度高。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组。通常液晶显示面板由彩膜(ColorFilter，CF)基板、阵列(Array)基板、夹于彩膜基板与阵列基板之间的液晶及密封框胶(Sealant)组成，其中，CF基板主要包括用于通过色阻单元(R/G/B)形成有色光的彩色滤光层、用于防止像素边缘漏光的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)、以及用于维持盒厚的隔垫物(PhotoSpacer，PS)，在大尺寸液晶显示面板中，通常会使用两种类型以上的隔垫物，如在CF基板上设置主隔垫物(MainPS)、及辅助隔垫物(SubPS)，起到多级缓冲的作用，以防止各种Mura或者不良的发生。黑色隔垫物(BlackPhotoSpacer，BPS)材料是一种新型材料，它既具有传统技术中隔垫物材料的特性，如较优秀的弹性回复力及对液晶较低的污染等，而且还具有黑色矩阵材料的特性，如较高的光学密度(opticaldensity，OD)值，可以起到遮光作用，因此，能够用于将BM与PS两种工艺制程合二为一，减少一道黄光制程，减少材料成本及生产时间(tacttime)，从而降低整个生产成本。COA(ColorFilteronArray)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。由于COA结构的显示面板不存在彩膜基板与阵列基板的对位问题，因此可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，因此黑色矩阵可以设计为窄线宽，提高了开口率。一种新型的BM-Less技术是基于COA技术上将BM与PS集合于同一BPS材料且同一制程完成并设计在Array基板上的一种技术，与传统的液晶显示技术比较，将黑色矩阵、主隔垫物、辅助隔垫物、及彩色滤光膜全部设计在阵列基板侧，这样不仅可以避免对组制程中由于对组精度的误差，或者曲面显示技术中由于面板弯曲造成的平移带来的露光，更重要的是节省一道材料及制程，缩短生产时间，降低了产品成本。但是目前BPS材料的技术难度较大，尚未大量量产，价格昂贵，而现有BPS型产品结构中，如图1所示，主隔垫物101和辅助隔垫物102下方使用单层的第一色阻201和第二色阻202作为衬垫载台，主隔垫物101和辅助隔垫物102之间的高度差由第一色阻201和第二色阻202的厚度差所构成，主隔垫物101和辅助隔垫物102自身的厚度h1与液晶面板的盒厚(Cellgap)H1相近，主隔垫物101和辅助隔垫物102对BPS材料的用量较大，成本较高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种BPS型阵列基板的制作方法，主隔垫物和辅助隔垫物自身的厚度较小，从而可以减少BPS材料的用量，降低生产成本。本专利技术的目的在于提供一种BPS型阵列基板，主隔垫物和辅助隔垫物自身的厚度较小，从而可以减少BPS材料的用量，降低生产成本。为实现上述目的，本专利技术提供一种BPS型阵列基板的制作方法，包括如下步骤：步骤S1、提供一衬底基板，在衬底基板上形成TFT层，在所述衬底基板上形成覆盖TFT层的保护层；步骤S2、在所述保护层上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层包括不同颜色的第一色阻层和第二色阻层，所述第一色阻层包括并列的第一像素单元、第一主衬垫单元及第一辅助衬垫单元，所述第二色阻层包括并列的第二像素单元、第二主衬垫单元及第二辅助衬垫单元，其中，所述第一像素单元、第二像素单元并列排布于保护层上，所述第一主衬垫单元和第二主衬垫单元堆叠于保护层上并共同构成主衬垫部，所述第一辅助衬垫单元和第二辅助衬垫单元堆叠于保护层上并共同构成辅助衬垫部，通过半曝光工艺制作所述第一色阻层，经一次曝光得到厚度不同的第一主衬垫单元和第一辅助衬垫单元，使得所述第一辅助衬垫单元的厚度小于所述第一主衬垫单元的厚度，从而使得所述主衬垫部的高度大于所述辅助衬垫部的高度；步骤S3、在所述保护层上形成覆盖所述彩色光阻层的有机绝缘层，在所述有机绝缘层上涂布BPS材料，并对所述BPS材料进行曝光、显影，得到BPS遮光层，所述BPS遮光层包括黑色矩阵、以及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物，所述主隔垫物和辅助隔垫物分别对应位于所述主衬垫部和辅助衬垫部的上方，所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度，所述副隔垫物的高度大于所述黑色矩阵的高度。所述步骤S2中，采用半透式掩膜板或灰色调掩膜板进行半曝光工艺制作所述第一色阻层，从而经一次曝光得到厚度不同的第一主衬垫单元和第一辅助衬垫单元；所述步骤S3中，采用全曝光方式对所述BPS材料进行曝光，得到黑色矩阵、主隔垫物与辅助隔垫物，所述第一主衬垫单元和第一辅助衬垫单元之间的厚度差构成所述主衬垫部和辅助衬垫部之间的高度差。所述步骤S2中，所述第一主衬垫单元对应位于第二主衬垫单元之上，所述第一辅助衬垫单元对应位于第二辅助衬垫单元之上；或者，所述第二主衬垫单元对应位于第一主衬垫单元之上，所述第二辅助衬垫单元对应位于第一辅助衬垫单元之上。所述步骤S2中，所述彩色光阻层还包括第三色阻层；所述第三色阻层包括与所述第一像素单元和第二像素单元并列排布于保护层上的第三像素单元；所述第一色阻层、第二色阻层及第三色阻层分别为红色色阻层、绿色色阻层及蓝色色阻层中的一种。所述步骤1中，所述的TFT层包括扫描线及与所述扫描线垂直交叉且绝缘的数据线；所述黑色矩阵对应设于所述扫描线上方。本专利技术还提供一种BPS型阵列基板，包括衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、覆盖所述衬底基板及TFT层的保护层、设于所述保护层上的彩色光阻层、覆盖于所述彩色光阻层和保护层上的有机绝缘层及设于所述有机绝缘层上的BPS遮光层；所述BPS遮光层包括黑色矩阵及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物；所述彩色光阻层包括不同颜色的第一色阻层和第二色阻层，所述第一色阻层包括并列的第一像素单元、第一主衬垫单元及第一辅助衬垫单元，所述第二色阻层包括并列的第二像素单元、第二主衬垫单元及第二辅助衬垫单元，其中，所述第一像素单元、第二像素单元并列排布于保护层上，所述第一主衬垫单元和第二主衬垫单元堆叠于保护层上并共同构成主衬垫部，所述第一辅助衬垫单元和第二辅助衬垫单元堆叠于保护层上并共同构成辅助衬垫部，所述第一辅助衬垫单元的厚度小于所述第一主衬垫单元的厚度，所述主衬垫部的高度大于所述辅助衬垫部的高度；所述主隔垫物和辅助隔垫物分别对应位于所述主衬垫部和辅助衬垫部的上方，所述主隔垫物的高度大于所述副隔垫物的高度，所述副隔垫物的高度大于所述黑色矩阵的高度。所述第一主衬垫单元和第一辅助衬垫单元之间的厚度差构成所述主衬垫部和辅助衬垫部之间的高度差。所述第一主衬垫单元对应位于第二主衬垫单元之上，所述第一辅助衬垫单元对应位于第二辅助衬垫单元之上；或者，所述第二主衬垫单元对应位于第一主衬垫单元之上，所述第二辅助衬垫单元对应位于第一辅助衬垫单元之上。所述彩色光阻层还包括第三色阻层；所述第三色阻层包括与所述第一像素单元和第二像素本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一衬底基板(10)，在衬底基板(10)上形成TFT层(20)，在所述衬底基板(10)上形成覆盖TFT层(20)的保护层(30)；步骤S2、在所述保护层(30)上形成彩色光阻层(40)，所述彩色光阻层(40)包括不同颜色的第一色阻层(41)和第二色阻层(42)，所述第一色阻层(41)包括并列的第一像素单元(411)、第一主衬垫单元(412)及第一辅助衬垫单元(413)，所述第二色阻层(42)包括并列的第二像素单元(421)、第二主衬垫单元(422)及第二辅助衬垫单元(423)，其中，所述第一像素单元(411)、第二像素单元(421)并列排布于保护层(30)上，所述第一主衬垫单元(412)和第二主衬垫单元(422)堆叠于保护层(30)上并共同构成主衬垫部(45)，所述第一辅助衬垫单元(413)和第二辅助衬垫单元(423)堆叠于保护层(30)上并共同构成辅助衬垫部(46)，通过半曝光工艺制作所述第一色阻层(41)，经一次曝光得到厚度不同的第一主衬垫单元(412)和第一辅助衬垫单元(413)，使得所述第一辅助衬垫单元(413)的厚度小于所述第一主衬垫单元(412)的厚度，从而使得所述主衬垫部(45)的高度大于所述辅助衬垫部(46)的高度；步骤S3、在所述保护层(30)上形成覆盖所述彩色光阻层(40)的有机绝缘层(50)，在所述有机绝缘层(50)上涂布BPS材料，并对所述BPS材料进行曝光、显影，得到BPS遮光层(60)，所述BPS遮光层(60)包括黑色矩阵(61)、以及设于所述黑色矩阵(61)上的主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)，所述主隔垫物(62)和辅助隔垫物(63)分别对应位于所述主衬垫部(45)和辅助衬垫部(46)的上方，所述主隔垫物(62)的高度大于所述副隔垫物(63)的高度，所述副隔垫物(63)的高度大于所述黑色矩阵(61)的高度。...

【技术特征摘要】
1.一种BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一衬底基板(10)，在衬底基板(10)上形成TFT层(20)，在所述衬底基板(10)上形成覆盖TFT层(20)的保护层(30)；步骤S2、在所述保护层(30)上形成彩色光阻层(40)，所述彩色光阻层(40)包括不同颜色的第一色阻层(41)和第二色阻层(42)，所述第一色阻层(41)包括并列的第一像素单元(411)、第一主衬垫单元(412)及第一辅助衬垫单元(413)，所述第二色阻层(42)包括并列的第二像素单元(421)、第二主衬垫单元(422)及第二辅助衬垫单元(423)，其中，所述第一像素单元(411)、第二像素单元(421)并列排布于保护层(30)上，所述第一主衬垫单元(412)和第二主衬垫单元(422)堆叠于保护层(30)上并共同构成主衬垫部(45)，所述第一辅助衬垫单元(413)和第二辅助衬垫单元(423)堆叠于保护层(30)上并共同构成辅助衬垫部(46)，通过半曝光工艺制作所述第一色阻层(41)，经一次曝光得到厚度不同的第一主衬垫单元(412)和第一辅助衬垫单元(413)，使得所述第一辅助衬垫单元(413)的厚度小于所述第一主衬垫单元(412)的厚度，从而使得所述主衬垫部(45)的高度大于所述辅助衬垫部(46)的高度；步骤S3、在所述保护层(30)上形成覆盖所述彩色光阻层(40)的有机绝缘层(50)，在所述有机绝缘层(50)上涂布BPS材料，并对所述BPS材料进行曝光、显影，得到BPS遮光层(60)，所述BPS遮光层(60)包括黑色矩阵(61)、以及设于所述黑色矩阵(61)上的主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)，所述主隔垫物(62)和辅助隔垫物(63)分别对应位于所述主衬垫部(45)和辅助衬垫部(46)的上方，所述主隔垫物(62)的高度大于所述副隔垫物(63)的高度，所述副隔垫物(63)的高度大于所述黑色矩阵(61)的高度。2.如权利要求1所述的BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，采用半透式掩膜板或灰色调掩膜板进行半曝光工艺制作所述第一色阻层(41)，从而经一次曝光得到厚度不同的第一主衬垫单元(412)和第一辅助衬垫单元(413)；所述步骤S3中，采用全曝光方式对所述BPS材料进行曝光，得到黑色矩阵(61)、主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)，所述第一主衬垫单元(412)和第一辅助衬垫单元(413)之间的厚度差构成所述主衬垫部(45)和辅助衬垫部(46)之间的高度差。3.如权利要求1所述的BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述第一主衬垫单元(412)对应位于第二主衬垫单元(422)之上，所述第一辅助衬垫单元(413)对应位于第二辅助衬垫单元(423)之上；或者，所述第二主衬垫单元(422)对应位于第一主衬垫单元(412)之上，所述第二辅助衬垫单元(423)对应位于第一辅助衬垫单元(413)之上。4.如权利要求1所述的BPS型阵列基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述彩色光阻层(40)还包括第三色阻层(43)；所述第三色阻层(43)包括与所述第一像素单元(411)和第二像素单元(421)并列排布于保护层(30)上的第三像素单元(431)；所述第一色阻层(41)、...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓竹明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44