一种盖板的处理方法、控制器、盖板处理装置及存储介质制造方法及图纸

技术编号:18938413 阅读:426 留言:0更新日期:2018-09-15 10:39
本发明专利技术提出了一种盖板的处理方法、控制器、盖板处理装置及存储介质,主要通过控制扫描装置获取第一盖板和第二盖板的表面特征,对所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征进行傅里叶变换,得到所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线,以获得高解析度盖板的表面特征频率变化分布曲线,对获得高解析度盖板的表面特征频率变化分布曲线进行傅里叶逆变换,得到所述目标盖板的表面特征,使得加工出来的高解析度盖板实现了散斑和抗眩的平衡。

A cover plate processing method, controller, cover plate processing device and storage medium

The invention provides a cover plate processing method, a controller, a cover plate processing device and a storage medium. The surface features of the first cover plate and the second cover plate are obtained mainly by controlling the scanning device, and the surface features of the first cover plate and the second cover plate are Fourier transformed to obtain the first cover plate and the second cover plate. The surface characteristic frequency variation distribution curve of the cover plate is obtained to obtain the surface characteristic frequency variation distribution curve of the high resolution cover plate. The surface characteristic frequency variation distribution curve of the high resolution cover plate is obtained by inverse Fourier transform. The surface characteristic of the target cover plate is obtained, which makes the high resolution cover plate realized. The balance between speckle and anti glare.

【技术实现步骤摘要】
一种盖板的处理方法、控制器、盖板处理装置及存储介质
本专利技术涉及显示领域,特别涉及一种盖板的处理方法、控制器、盖板处理装置及存储介质。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品,其生产工艺技术十分成熟,产品良率高,生产成本相对较低,市场接受度高。而TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,薄膜晶体管液晶显示器)面板制造行业已经发展多年,对于产品的生产流程已经十分精炼与成熟。现阶段,人们在高亮环境中使用手机时常常饱受环境光的困扰,为此现有技术中大多对显示面板表面的盖板表面或偏光片表面进行特定的表面处理,减少显示面板表面眩光和反射,提高人们阅读的舒适度和可读性。然而,盖板表面常用的抗眩表面处理会使高解析度的面板显示画质造成一种模糊的感觉,甚至出现亮暗变化的闪烁,称之为散斑。目前,对于盖板的处理常采用物理方式进行处理,因此导致散斑现象无法完全避免。因此,对于显示面板在抗眩抗反射与散斑之间无法找到一个最佳的平衡位置,导致此类盖板在高解析度面板上使用的频率不高,不利于小尺寸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种盖板的处理方法,其特征在于,包括:控制扫描装置扫描第一盖板和第二盖板的表面以获取所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征;根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征,得到所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线;根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线,得到目标盖板的表面特征频率分布曲线;根据所述目标盖板的表面特征频率分布曲线,得到所述目标盖板的表面特征。

【技术特征摘要】
1.一种盖板的处理方法,其特征在于,包括:控制扫描装置扫描第一盖板和第二盖板的表面以获取所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征;根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征,得到所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线;根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线,得到目标盖板的表面特征频率分布曲线;根据所述目标盖板的表面特征频率分布曲线,得到所述目标盖板的表面特征。2.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于,根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征,得到所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线的步骤,包括:对所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征进行傅里叶变换,得到所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线;根据所述目标盖板的表面特征频率分布曲线,得到所述目标盖板的表面特征的步骤,包括:对所述目标盖板的表面特征频率分布曲线进行傅里叶逆变换,得到所述目标盖板的表面特征。3.根据权利要求1所述的处理方法,其特征在于,根据所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线,得到目标盖板的表面特征频率分布的步骤包括:根据所述第一盖板的表面特征频率变化分布曲线,得到所述第一盖板的表面特征频率变化分布曲线的最高点;根据所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线,得到所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线的最高点;获得所述第一盖板和所述第二盖板的表面特征频率变化分布曲线最高点连线的中点;将所述第一盖板的表面特征频率变化分布曲线整体移动,使得所述第一盖板的表面特...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨勇
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1