The invention relates to the technical field of silicon wafer polishing device, and discloses a pull-up silicon wafer polishing device which can be stably polished, including a working plate. The left and right sides of the top of the working plate are fixedly connected with an installation plate, the top of the two installation plates are fixedly connected with a horizontal plate, and the top of the horizontal plate is provided with five through holes. The invention solves the problem that the silicon wafer can not be polished steadily while polishing, and the uneven adjustment of the polishing force will damage the silicon wafer during the polishing process, which will lead to the reduction of the yield of the finished product when the silicon wafer is processed. The invention makes the rotating shaft B rotate, the rotating barrel rotates, and drives the rope on both sides to move, so that the annular base at the other end of the rope can move steadily upward, which is convenient for grinding, makes the grinding more stable and convenient for use, and protects the silicon chip from being broken when grinding. Bad, improve the stability of grinding silicon wafer.
【技术实现步骤摘要】
一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置
本专利技术涉及硅片打磨装置
,具体为一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置。
技术介绍
光伏:是太阳能光伏发电系统的简称,是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应,将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统,有独立运行和并网运行两种方式。而地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一,对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言,储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一。但是现在的硅片加工的时候需要进行打磨设置,而现在的硅片在进行打磨的时候,不能够稳定的进行打磨,同时在打磨过程中往往会存在打磨力度调整不均会损坏硅片,会导致硅片在加工的时候,成品率降低,不利于成为光伏的主要材料。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,解决了现在的硅片在进行打磨的时候,不能够稳定的进行打磨,同时在打磨过程中往往会存在打磨力度调整不均会损坏硅片,会导致硅片在加工的时候,成品率降低的问题。(二)技术方案为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,包括工作板,所述工作板顶部的左右两侧均固定连接有安装板,两个安装板的顶部固定连接有横板,横板的顶部开设有五个通孔,通孔的内部设置有移动打磨机构,横板的顶部的左右两侧均固定连接有侧板,两个侧板相互靠近的一侧设置有稳固机构,两个侧板的顶部设置有拉升机构,横板和工作板的右侧固定连接有固定板,固定板的右侧固定连接有把手,把手的表面上套接有橡胶条 ...
【技术保护点】
1.一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,包括工作板(1),其特征在于:所述工作板(1)顶部的左右两侧均固定连接有安装板(2),两个安装板(2)的顶部固定连接有横板(3),横板(3)的顶部开设有五个通孔(4),通孔(4)的内部设置有移动打磨机构(5),横板(3)的顶部的左右两侧均固定连接有侧板(13),两个侧板(13)相互靠近的一侧设置有稳固机构(6),两个侧板(13)的顶部设置有拉升机构(7),横板(3)和工作板(1)的右侧固定连接有固定板(8),固定板(8)的右侧固定连接有把手(9),把手(9)的表面上套接有橡胶条,工作板(1)底部的左右两侧均固定连接有万向轮(10),万向轮(10)的表面上设置有轮刹(11),工作板(1)的顶部设置有位于两个安装板(2)之间的放置机构(12)。
【技术特征摘要】
1.一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,包括工作板(1),其特征在于:所述工作板(1)顶部的左右两侧均固定连接有安装板(2),两个安装板(2)的顶部固定连接有横板(3),横板(3)的顶部开设有五个通孔(4),通孔(4)的内部设置有移动打磨机构(5),横板(3)的顶部的左右两侧均固定连接有侧板(13),两个侧板(13)相互靠近的一侧设置有稳固机构(6),两个侧板(13)的顶部设置有拉升机构(7),横板(3)和工作板(1)的右侧固定连接有固定板(8),固定板(8)的右侧固定连接有把手(9),把手(9)的表面上套接有橡胶条,工作板(1)底部的左右两侧均固定连接有万向轮(10),万向轮(10)的表面上设置有轮刹(11),工作板(1)的顶部设置有位于两个安装板(2)之间的放置机构(12)。2.根据权利要求1所述的一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,其特征在于:所述移动打磨机构(5)包括竖杆(501),竖杆(501)的数量为五个,且相对应的竖杆(501)的底部贯穿通孔(4)并固定连接有U型卡块(502),U型卡块(502)的内壁的底部固定连接有伺服电机A(503),伺服电机A(503)底部的输出端固定连接有转轴A(504),转轴A(504)的底部固定连接有打磨刀具(505),五个竖杆(501)的顶部固定连接有长杆(506),且长杆(506)的底部固定连接有位于相邻两个竖杆(501)之间的伸缩弹簧A(507),伸缩弹簧A(507)的底部与横板(3)之间固定连接,长杆(506)顶部的左右两侧均固定连接有环形底座(508),两个环形底座(508)之间以长杆(506)的中垂线为对称轴对称设置。3.根据权利要求2所述的一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置,其特征在于:所述稳固机构(6)包括U型卡板(601),U型卡板(601)的数量为两个,且两个U型卡板(601)相靠近的一侧均与长杆(506)之间固定连接,U型卡板(601)内壁的两侧之间活动连接有转轴C(602),转轴C(602)的表面上固定连接有齿轮(603),齿轮(603)远离长杆(506)的一侧啮合有齿板(604),齿板(604)的远离齿轮(603)一侧与侧板(13)之间固定连接。4.根据权利要求3所述的一种拉升式可稳定...
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