脱模片以及合成皮革制造技术

本发明专利技术提供一种合成皮革制造用脱模片，在由表面上具有微细凹凸的无光泽层和支承前述无光泽层用的基体材料构成的合成皮革制造用脱模片中，前述无光泽层由脱模性树脂层构成，并且以在前述凹凸部分的凹部的底部上残存具有脱模性透明树脂的方式设置。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无光泽风格合成皮革的脱模片，以及形成这种片用的组成物，更详细地说，涉及适合于即使不用进行压纹加工和起毛加工，就可以具有漆黑性高的无光泽面的无光泽风格合成皮革的制造的无光泽层形成用的组成物，以及利用该组成物制造的无光泽风格合成皮革制造用的脱模片。
技术介绍
作为合成皮革的制造方法之一，有如下方法，即，在脱模片上涂布合成皮革组成物，例如，氨基甲酸乙酯树脂，氯乙烯树脂，聚酰胺树脂，以及氨基酸树脂等之后，使之干燥或固化，然后在该组成物上涂布粘结剂，粘贴织物等底布等，通过将脱模片从合成皮革组成物上剥离获得合成皮革。用这种方法制造的合成皮革，通过控制脱模片的表面形态，可以获得具有各种表面形状的合成皮革。即，由于合成皮革的表面形状是通过复制所使用的脱模片的表面形态形成的，所以，为了获得所需的合成皮革，有必要控制脱模片的表面形态。在合成皮革中，特别是，作为要求无光泽型的合成皮革的品质，可以列举出没有淡茶色、并且具有漆黑性的所谓无光泽风格的合成皮革。作为获得这些无光泽型的合成皮革的方法，已知有以下各种方法，即，在制造脱模片时的挤压叠层工序中，通过利用压花辊作为冷却辊，并且，通过在已有的薄膜上粘贴形成脱模片的情况下，利用压花辊等作为在粘贴用薄膜的制膜工序中的冷却辊，制作表面上有凹凸形状的脱模片，将这种脱模片表面的凹凸形状复制到合成皮革上的方法，此外，通过对整个脱模片施加压花加工，制作赋予凹凸形状的压花的脱模片，将这种脱模片表面的凹凸形状复制到合成皮革上的方法，以及，通过将已制得的合成皮革进行起毛加工，得到具有无光泽面的合成皮革的方法等。用这样的方法获得的合成皮革，尽管进行了适当的无光泽处理，但由于利用压花加工等不能赋予微细的凹凸形状，所以，对于浓色的、例如黑色的合成皮革，不能赋予足够的漆黑性。此外，在进行起毛加工等方法中，由于必须设置一个新的工序，所以制制造工艺复杂，导致成本上升。另一方面，如特开昭60-158249号公报所述，作为获得无光泽型的所谓无光泽风格的合成皮革的方法，开发了在基体材料上涂布作为消光剂添加了二氧化硅，碳酸钙等无机颜料或消除亮光石蜡的脱模片用组成物，形成脱模片的方法(参照专利文献1)。但是，为了在涂布添加了消光剂的组成物的脱模片上获得充分的亮光消除效果，必须将规定量的无机颜料等添加到组成物中，但当添加量过多时，所述消光剂从脱模片上脱落，发生所谓掉粉。此外，为了提高消除亮光的效果，即使增加消光剂的添加量，消光剂彼此之间会发生凝聚，析出到脱模片的表面上，不能获得具有所需的微细凹凸形状的脱模片，对于合成皮革，也不能获得具有漆黑性的有无光泽感的制品。进而，在上述特开昭60-158249号公报所述的含有消除亮光用微粒子的脱模片用组成物中，通过含有微粒子，可以在一定程度上增加无光泽感，但是，仍然很难获得没有淡茶色的具有漆黑性的合成皮革。除这些问题之外，为了获得无光泽风格的合成皮革，有必要使用微细粒子作为消光剂，但当把微细粒子添加到脱模片用组成物中时，组成物的流动性降低，存在着涂布性能恶化的问题。此外，在缺乏平滑性的基体材料上涂布涂布液形成脱模片时，存在着干燥性能降低，或者由于强热干燥损伤脱模片的平滑性的问题。进而，在作为基体材料使用普通纸的情况下，在形成脱模片时容易产生静电，进而，在利用该脱模片制造合成皮革时，由于存在有将合成皮革从该脱模片上剥离的工序，不能避免静电的发生。这样，当制造脱模片等时产生静电时，存在着脱模片和合成皮革上发生微裂纹的问题。因此，本专利技术的目的是提供一种尽管不进行压花加工和起毛加工，也能适合于具有漆黑性高的无光泽面的无光泽风格合成皮革的制造的形成无光泽层用的组成物，以及利用这种组成物制成的、制造无光泽合成皮革用的脱模片。此外，作为本专利技术的另外一个目的，是提供一种能够制造平滑性优异，并且抑制静电的发生、没有微裂纹等缺陷的良好的合成皮革的、无光泽风格合成皮革制造用脱模片。
技术实现思路
为解决上述课题，本专利技术的形成无光泽层用的组成物是一种作为必须的成分而含有热固化性树脂和消光剂构成的形成无光泽层用的组成物，前述消光剂含有一种或两种以上的有机或/和无机的多孔性微粒子，前述多孔性微粒子，平均粒径在0.5～20μm的范围内，并且，比表面积在1～1000m2/g的范围内。通过利用含有这种有微粒子构成的消光剂的组成物制造脱模片，可以获得具有漆黑性、不发生淡茶色的无光泽风格的合成皮革。此外，作为本专利技术的形式，优选地，对前述多孔性微粒子进行表面处理，均匀地分散在形成无光泽层用组成物中。更优选地，前述表面处理在前述热固化性树脂是水溶性的情况下是无机表面处理，在前述热塑性树脂是非水溶性的情况下是有机表面处理。通过将这种进行了无机或有机表面处理的微粒子用作消光剂，由于可以提高在形成无光泽层用涂布液中的分散性，所以即使增加微粒子的含量也不会降低涂布性能。此外，由于微粒子均匀地分散，所以在形成无光泽层时，可以形成均匀的凹凸表面。进而，前述多孔性微粒子，以重量为基准，相对于形成无光泽层用组成物，其含量更优选地为5～50重量％。通过使之含有上述范围内的微粒子，可以获得均匀、漆黑性优异的无光泽风格的合成皮革。这种多孔性微粒子特别优选地是从二氧化硅，碳酸钙，滑石粉，或者它们一种以上的混合物中选择的微粒子。根据本专利技术的形成无光泽层用组成物，作为优选的形式，进一步含有脱模剂。由于通过形成无光泽层用组成物含有脱模剂，降低将脱模片从合成皮革上剥离时的剥离阻力，所以，可以很容易地将脱模片剥离。作为本专利技术的另外一种形式的合成皮革制造用脱模片，在涂布上述形成无光泽层用组成物构成的无光泽层，以及支承前述无光泽层用的基体材料构成的脱模片中，在前述无光泽层表面上形成微细凹凸部，前述凹凸部的算术平均粗糙度(Ra)为0.5～15μm。通过利用这种表面形态的脱模片，不用压花加工及起毛加工等手段，就可以制造无光泽风格的合成皮革。作为本专利技术的第二种形式的合成皮革制造用脱模片，在表面上具有微细的凹凸的无光泽层和支承前述无光泽层用的基体材料构成的合成皮革制造用脱模片中，前述无光泽层由脱模性树脂层构成，并以残存有脱模性的透明树脂的方式设置在前述凹凸部分的凹部的底部上。通过利用这样的脱模片制造合成皮革，可以在合成皮革的表面上更加可靠地赋予桃皮风格的外观和触感的同时，在反复制造不同颜色的合成皮革时，由于在微细凹凸的凸部的底部上残存着具有脱模性的透明合成树脂，所以脱模性优异，从而，可以反复使用脱模片。此外，作为优选的形式，前述凹凸部的算术平均粗糙度(Ra)为0.5～15μm，前述凹凸部的凸部与凸部的平均间隔(Sm)为0.5～15μm，并且，前述凹凸的平均倾斜度(θa)为，45°≤θa90°。具有这样的凹凸面的无光泽层，可以通过涂布上述形成无光泽层用组成物制成。进而，上述第一和第二种形式的合成皮革制造用脱模片优选地在前述无光泽层和前述基体材料之间设置平滑层。这样，通过在基体材料上设置平滑层，获得不受基体材料表面的影响、具有均匀微细凹凸表面的脱模片。前述平滑层优选地由从上述形成无光泽层用组成物中除去前述多孔性微粒子的组成物构成。作为形成平滑层用组成物，通过使用这种组成物，可以增加平滑层和无光泽层的紧密性，在层之间不会剥离。特别是，通过在平滑层中含本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种合成皮革制造用脱模片，在由表面上具有微细凹凸的无光泽层和支承前述无光泽层用的基体材料构成的合成皮革制造用脱模片中，前述无光泽层由脱模性树脂层构成，并且以在前述凹凸部分的凹部的底部上残存具有脱模性透明树脂的方式设置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：须藤健一郎，川越圭生，渡边浩，久保田毅，松平耕市郎，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]