树脂组合物、膜及共聚物制造技术

本发明专利技术涉及树脂组合物、膜及共聚物。树脂组合物，其包含树脂(A)和溶剂，所述树脂(A)为包含来自具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物的结构单元(Aa)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)的共聚物。

Resin composition, membrane and copolymer

The invention relates to resin composition, membrane and copolymer. Resin compositions comprising resins (A) and solvents comprising structural units (Aa) from unsaturated compounds with cyclic ether structures of 2 to 4 carbon atoms and copolymers containing structural units (Ab) with substitutable carbazole rings.

【技术实现步骤摘要】
树脂组合物、膜及共聚物
本专利技术涉及树脂组合物、膜及共聚物。
技术介绍
近年来的液晶显示装置中，为了形成外涂层(overcoat)等膜，使用了树脂组合物。作为这样的树脂组合物，JP2006-171160号公报中记载了包含使甲基丙烯酸和丙烯酸3,4-环氧三环[5.2.1.02,6]癸酯聚合而得到的共聚物的树脂组合物。
技术实现思路
本专利技术包含以下的专利技术。〔1〕树脂组合物，其包含树脂(A)和溶剂，前述树脂(A)为包含来自具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物的结构单元(Aa)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)的共聚物。〔2〕如〔1〕所述的树脂组合物，其中，前述结构单元(Aa)具有不饱和脂环式烃经环氧化而成的结构。〔3〕如〔2〕所述的树脂组合物，其中，前述不饱和脂环式烃经环氧化而成的结构包含选自由式(Aa-1)表示的结构单元和式(Aa-2)表示的结构单元组成的组中的至少1种。[式(Aa-1)和式(Aa-2)中，Rb1和Rb2表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，该烷基中包含的氢原子可被羟基取代。Xb1和Xb2表示单键、*-Rb3-、*-Rb3-O-、*-Rb3-S-或*-Rb3-NH-。Rb3表示碳原子数1～6的烷二基(alkanediyl)。*表示与O的键合位点。]〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一项所述的树脂组合物，其中，前述树脂(A)为由结构单元(Aa)、结构单元(Ab)、和结构单元(Ac1)构成的共聚物，所述结构单元(Ac1)是利用属于由不饱和羧酸和不饱和羧酸酐组成的组的化合物衍生的。〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一项所述的树脂组合物，其中，前述结构单元(Ab)为式(Ab-1)表示的结构单元。[式(Ab-1)中，R1表示氢原子、甲基、或羟基甲基。R2～R9相互独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～20的饱和烃基或碳原子数6～20的芳基，该饱和烃基中包含的氢原子可以被烷氧基或芳基取代。X表示单键、碳原子数1以上的烷二基、或者直链状或支链状的下述式(V)表示的基团。(式(V)中，前述l表示0以上的整数。m表示1以上的整数。)]〔6〕如〔1〕～〔5〕中任一项所述的树脂组合物，所述树脂组合物包含聚合引发剂。〔7〕膜，其是由〔1〕～〔6〕中任一项所述的树脂组合物形成的。〔8〕共聚物，其包含来自具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物的结构单元(Aa)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)。附图说明[图1]为示意性地表示玻璃基板上的线图案与膜层叠而成的状态的截面图。附图标记说明1玻璃基板2线与间隔图案2a间隔2b线3膜具体实施方式本说明书中，对于作为各成分而例举的化合物而言，只要没有特别说明，可单独使用或组合多种而使用。[树脂组合物]本专利技术的树脂组合物包含树脂(以下，称为树脂(A)。)和溶剂(以下，称为溶剂(E)。)，树脂(A)是包含具有碳原子数2～4的环状醚结构的结构单元(Aa)(以下，称为“结构单元(Aa)”。)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)(以下，称为“结构单元(Ab)”。)的共聚物。对于本专利技术的树脂组合物而言，通过使树脂(A)为包含结构单元(Aa)和结构单元(Ab)的共聚物，从而可形成对基底基板的形状的追随性高的膜。本专利技术的树脂组合物可包含聚合性化合物(以下，称为聚合性化合物(C)。)。在包含聚合性化合物(C)的情况下，优选还包含聚合引发剂(以下，称为聚合引发剂(D)。)。另外，本专利技术的树脂组合物还可包含其他成分，例如，聚合引发助剂(以下，称为聚合引发助剂(H)。)、流平剂(levelingagent)(以下，称为流平剂(B)。)、抗氧化剂(以下，称为抗氧化剂(F)。)、固化剂(以下，称为固化剂(G)。)等。作为固化剂(G)，可例举多元羧酸(以下，称为多元羧酸(G1)。)、咪唑化合物(以下，称为咪唑化合物(G2)。)等。＜树脂(A)＞树脂(A)为包含结构单元(Aa)和结构单元(Ab)的共聚物。该共聚物进一步还可包含能与结构单元(Aa)或(Ab)共聚的除结构单元(Aa)及(Ab)以外的结构单元(以下，称为结构单元(Ac)。)。需要说明的是，本说明书中，所谓“(甲基)丙烯酸”，表示选自由丙烯酸和甲基丙烯酸组成的组中的至少1种化合物。“(甲基)丙烯酰基”和“(甲基)丙烯酸酯”等表述也具有同样的含义。树脂(A)中包含的结构单元(Aa)及结构单元(Ab)分别可以是2种以上。〔1〕结构单元(Aa)结构单元(Aa)可由具有碳原子数2～4的环状醚结构(例如，选自由氧杂环丙烷环、氧杂环丁烷环和四氢呋喃环组成的组中的至少1种)的不饱和化合物衍生。所谓由具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物衍生的结构单元，可通过使用该不饱和化合物作为单体来制造共聚物从而得到。或者，也可通过使其他结构单元(以下，称为结构单元(Aa’)。)与具有碳原子数2～4的环状醚结构的化合物进行反应而得到。关于衍生结构单元(Aa)的具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物，可举出例如具有氧杂环丙基和烯键式不饱和键的单体(以下，称为单体(Aa1)。)、具有氧杂环丁基和烯键式不饱和键的单体(以下，称为单体(Aa2)。)、具有四氢呋喃基和烯键式不饱和键的单体(以下，称为单体(Aa3)。)。关于单体(Aa1)，可举出例如具有直链状或支链状的不饱和脂肪族烃经环氧化而成的结构的单体(以下，称为单体(Aa1-1)。)、及具有不饱和脂环式烃经环氧化而成的结构的单体(以下，称为单体(Aa1-2)。)。作为衍生结构单元(Aa)的单体，从能进一步提高得到的膜的耐热性、耐化学药品性等可靠性的方面考虑，优选为单体(Aa1)。此外，从树脂组合物的保存稳定性优异这方面考虑，更优选单体(Aa1-2)。作为单体(Aa1-1)，可举出(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸β-甲基缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸β-乙基缩水甘油酯、缩水甘油基乙烯基醚、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基间乙烯基苄基缩水甘油基醚、α-甲基对乙烯基苄基缩水甘油基醚、2,3-双(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,4-双(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,5-双(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,6-双(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,3,4-三(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,3,5-三(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,3,6-三(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、3,4,5-三(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯、2,4,6-三(缩水甘油基氧基甲基)苯乙烯等。作为单体(Aa1-2)，可举出乙烯基环己烯单氧化物(vinylcyclohexenemonoxide)、1,2-环氧-4-乙烯基环己烷(例如，CELLOXIDE2000；(株)Daicel制)、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯(例如，CYCLOMERA400；(株)Daicel制)、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯(例如，CYCLOMERM100；(株)Daicel制)、式(I)表示的化合物和式(II)表示的化合物等。[式(I)和式(II)中，Rb1和Rb2表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，该烷基中包含的氢原子可被羟基取代。Xb1和Xb2表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.树脂组合物，其包含树脂(A)和溶剂，所述树脂(A)为包含来自具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物的结构单元(Aa)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)的共聚物。

【技术特征摘要】
2017.02.21 JP 2017-0305031.树脂组合物，其包含树脂(A)和溶剂，所述树脂(A)为包含来自具有碳原子数2～4的环状醚结构的不饱和化合物的结构单元(Aa)、和含有可具有取代基的咔唑环的结构单元(Ab)的共聚物。2.如权利要求1所述的树脂组合物，其中，所述结构单元(Aa)具有不饱和脂环式烃经环氧化而成的结构。3.如权利要求2所述的树脂组合物，其中，所述不饱和脂环式烃经环氧化而成的结构包含选自由式(Aa-1)表示的结构单元和式(Aa-2)表示的结构单元组成的组中的至少1种，式(Aa-1)和式(Aa-2)中，Rb1和Rb2表示氢原子或碳原子数1～4的烷基，所述烷基中包含的氢原子可被羟基取代，Xb1和Xb2表示单键、*-Rb3-、*-Rb3-O-、*-Rb3-S-或*-Rb3-NH-，Rb3表示碳原子数1～6的烷二基，*表示与O的键合位点。4.如权利要求1～3中任一项所述的树脂...

【专利技术属性】
技术研发人员：河西裕，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP