一种激光全息金属纪念章制造技术

一种激光全息金属纪念章，属于纪念章，主要解决现有金属纪念章存在的采用铸币工艺制造的纪念章没有色彩，采用彩银工艺制造的纪念章破坏了金属纯净的缺点。本实用新型专利技术包括章体，其特征在于所说章体的表面平面度和光洁度为达到亚纳米级标准的表面，其上刻有激光全息图像层。本实用新型专利技术具有章体中未添加任何杂质、图像层立体感强、色彩丰富并极具动感的优点。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于纪念章，具体地说是一种刻有激光全息图像的金属纪 念章。
技术介绍
现有各种式样和款式的金属纪念章多是采用铸币工艺制造，通过凹凸 的方式(即通常称的浮雕方式)展现字体和图案，尽管可以保持金属的纯净， 但由于表面没有色彩，因此，表现形式很单一，缺乏新意，不能充分满足 市场的需要。现也有采用称为"彩银"的新工艺制造的金属纪念章，主要 做法是结合了印刷工艺，可以在金属纪念章表面印刷各种颜色的图案，这 种方法虽然改变了上述铸币工艺所存在的缺陷，受到市场欢迎。但是这种 方法同样存在明显地缺点，这是因为印刷工艺必然用到油墨，即使得金属 纪念章表面印上了油墨，从而破坏了金属纪念章的金属纯净。尽管这一缺 点对普通金属纪念章影响不大，但对贵金属纪念章就成为很大缺陷了，这是因为贵金属本身价值就很高，其含量往往达到999，甚至是9999的纯金 或纯银，如果印上了油墨，虽然金属纪念章表面的色彩丰富了，但使得原 高纯度的贵金属中添力n了杂质，也是不可接受的。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述不足提供一种不在章体中添加任何杂 质、图像层立体感强、色彩丰富并极具动感的激光全息金属纪念章。本技术是这样实现的包括章体，其特征在于所说章体的表面平 面度和光洁度为达到亚纳米级标准的表面，其上刻有激光全息图像层。上述激光全息图像层的表面还设有具有高折射率的纳米透明介质材料层。所说章体为金、银和柏金，所说纳米透明介质材料层为硅化合物或硫 化合物。本技术采用纳米陶瓷抛光对章体的表面进行加工，使其平面度和 光洁度达到亚纳米级标准，并通过模压工艺转移模板上的全息图象,从而在 章体表面获得高分辨率、高清晰度的激光全息图像层。激光全息图像层的 表面增加具有高折射率的纳米透明介质材料层，不仅可使激光全息图像层 得到有效的保护，而且由于透明介质材料层的高折射效果，可以大大增加激光全息图像的亮度。附图说明附图为本技术结构示意图，1一一章体、2 ——激光全息图像层、3 —一纳米透明介质材料层。具体实施方式以下结合附图和实施例进一步说明本技术。实施例先制作镍版作为模压用的模板，然后采用纳米陶资抛光工艺 对章体1的表面进行加工，使其平面度和光洁度达到亚纳米级标准，最后 在压力设备上进行图象模压工艺，使镍版的全息图象转移到章体1的表面 形成激光全息图象层2即成为本技术，还可采用真空镀膜技术在激光 全息图像层2的表面设置具有高折射率的纳米透明介质材料层3，其中，纳 米透明介质材料层3可采用氧化硅。按上述方式所得到的激光全息金属纪念章不仅图像层立体感强、色彩 丰富并极具动感，而且由于章体中未添加任何杂质，从而保证了金属的纯 净。权利要求1、一种激光全息金属纪念章，包括章体，其特征在于所说章体的表面平面度和光洁度为达到亚纳米级标准的表面，其上刻有激光全息图像层。2、 按权利要求1所述一种激光全息金属纪念章，其特征在于所说激光 全息图像层的表面还设有具有高折射率的纳米透明介质材料层。3、 按权利要求1或2所述一种激光全息金属纪念章，其特征在于所说 章体为金、银和柏金，所说纳米透明介质材料层为硅化合物或硫化合物。专利摘要一种激光全息金属纪念章，属于纪念章，主要解决现有金属纪念章存在的采用铸币工艺制造的纪念章没有色彩，采用彩银工艺制造的纪念章破坏了金属纯净的缺点。本技术包括章体，其特征在于所说章体的表面平面度和光洁度为达到亚纳米级标准的表面，其上刻有激光全息图像层。本技术具有章体中未添加任何杂质、图像层立体感强、色彩丰富并极具动感的优点。文档编号A44C3/00GK201073039SQ200720086829公开日2008年6月18日 申请日期2007年9月6日 优先权日2007年9月6日专利技术者张肇群 申请人:张肇群本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光全息金属纪念章，包括章体，其特征在于所说章体的表面平面度和光洁度为达到亚纳米级标准的表面，其上刻有激光全息图像层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张肇群，
申请(专利权)人：张肇群，
类型：实用新型
国别省市：83[中国|武汉]