The invention provides a bearing device for carrying and fixing a workpiece to be processed. The bearing device comprises a conductive layer and an insulating layer overlapped on the conductive layer, the insulating layer comprises a center body, an annular edge body and a groove body; a groove is arranged on the upper surface of the center body; and the groove is arranged on the groove body; There are gas grooves connected to the gas source; the annular edge body is arranged around the side wall of the center body; the thermal conductivity of the annular edge body is less than that of the center body, and/or the thermal conductivity of the center body is less than that of the groove body. The invention also provides a technological chamber including the bearing device provided by the invention. The bearing device and the process chamber of the invention can improve the temperature uniformity of the workpiece to be processed, thereby improving the process uniformity (for example, the etching uniformity).
【技术实现步骤摘要】
承载装置及工艺腔室
本专利技术属于半导体加工
,具体涉及一种承载装置及工艺腔室。
技术介绍
在集成电路(IC)制造工艺过程中,特别是等离子刻蚀(ETCH)、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等工艺中,往往使用诸如静电卡盘(ElectroStaticChuck简称ESC)的承载装置来固定、支撑及传送被加工工件(Wafer)并实现温度控制,以避免在工艺过程中出现移动或错位现象。静电卡盘是采用静电引力的方式来固定被加工工件,包括库仑和Johnson-Rahbek两种类型,其相对其他固定方式具有以下优点:其一,可避免机械原因对被加工工件造成的不可修复的损伤;其二,可增大被加工工件的有效加工面积;其三,可减少机械碰撞产生的颗粒污染;其四,有力于静电卡盘与被加工工件之间的热传导;其五,克服了真空吸盘固定方式的致命缺陷,可以在高真空反应腔室中使用。工艺均匀性是评价工艺质量的一个重要因素,与工艺均匀性相关的一个重要因素是被加工工件的温度。诸如静电卡盘的承载装置为控制被加工工件的温度,请参阅图1a-图1c,在静电卡盘1的上表面设置有环形气体凹槽2,环形气体凹槽2与气源相连,用于输送气体在被加工工件和静电卡盘1之间进行热传导,通过调节气体压力来控制被加工工件的温度;并且,静电卡盘1的上表面包括环形边缘区域3和中心区域4,环形边缘区域3用于在被加工工件放置在静电卡盘1的上表面时与被加工工件的下表面密封固定。在实际应用中,由于环形边缘区域3相对中心区域4与被加工工件的接触更紧密,并且,环形边缘区域3的宽度一般在5mm左右,相对较宽,以保证较好地密封效果,因此,环 ...
【技术保护点】
1.一种承载装置,用于承载且固定被加工工件,所述承载装置包括导电层、和叠置于所述导电层上的绝缘层,其特征在于,所述绝缘层包括中心体、环形边缘体和凹槽体;在所述中心体的上表面设置有凹部,所述凹部用于放置所述凹槽体;所述凹槽体上设置有用于与气源相连的气体凹槽;所述环形边缘体环绕所述中心体的侧壁设置;所述环形边缘体的导热率小于所述中心体的导热率,和/或,所述中心体的导热率小于所述凹槽体的导热率。
【技术特征摘要】
1.一种承载装置,用于承载且固定被加工工件,所述承载装置包括导电层、和叠置于所述导电层上的绝缘层,其特征在于,所述绝缘层包括中心体、环形边缘体和凹槽体;在所述中心体的上表面设置有凹部,所述凹部用于放置所述凹槽体;所述凹槽体上设置有用于与气源相连的气体凹槽;所述环形边缘体环绕所述中心体的侧壁设置;所述环形边缘体的导热率小于所述中心体的导热率,和/或,所述中心体的导热率小于所述凹槽体的导热率。2.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,所述中心体的周向边缘下凹形成有台阶;所述环形边缘体设置在所述台阶上。3.根据权利要求1所述的承载装置,其特征在于,所述中心体采用Al2O3陶瓷制成。4.根据权利要求3所述的承载装置,其特征在于,所述环形边缘体采用CrO2陶瓷或Y2O3陶瓷制成。5.根据权利要求3或4所述的承载装置,其特征在于,所述凹槽体采用AlN陶瓷制成。6.一种工艺腔室,在其内设置有承载装置,用于承载且固定被加工工件,其特征在于,所述承载装置采用权利要求1-5任意一项...
【专利技术属性】
技术研发人员:王伟,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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