显示基板及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示基板及其制备方法和显示装置，包括：衬底基板，衬底基板上设置有像素界定层和有机发光二极管，有机发光二极管的顶电极背向衬底基板的一侧设置有导电图形，导电图形在像素界定层所处平面的正投影位于像素界定层所设置的区域内且与顶电极位于像素界定层上的部分连接，顶电极背向衬底基板的一侧设置有平坦化层，平坦化层背向衬底基板的一侧设置有辅助电极，辅助电极与导电图形连接。在本发明专利技术中，辅助电极的形成无须依靠封装盖板，因而可有效避免OLED显示装置盒厚的增大，有利于OLED显示装置的轻薄化；此外，本发明专利技术中可采用转印工艺来形成辅助电极，此时由于像素区域中已填充平坦化层，因而可防止转印过程中辅助电极遭到破坏。

Display substrate, preparation method and display device thereof

The invention discloses a display substrate, a preparation method and a display device thereof, including a substrate substrate substrate, a pixel boundary layer and an organic light-emitting diode arranged on the substrate substrate substrate, a conductive pattern arranged on the side of the top electrode back of the organic light-emitting diode to the substrate substrate, and an orthogonal projection of the conductive pattern on the plane of the pixel boundary layer. The shadow is located in the area set by the pixel definition layer and is connected with a part of the top electrode located on the pixel definition layer. A flattening layer is arranged on the side of the top electrode back to the substrate substrate, and an auxiliary electrode is arranged on the side of the flattening layer back to the substrate substrate, and the auxiliary electrode is connected with the conductive pattern. In the invention, the auxiliary electrode does not need to rely on the encapsulation cover plate, so the increase of the box thickness of the OLED display device can be effectively avoided and the lightening of the OLED display device can be facilitated. In addition, the transfer printing process can be used to form the auxiliary electrode, at this time, because the pixel area has been filled with a flat layer, the transfer printing can be prevented. The auxiliary electrode was destroyed during the process.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制备方法和显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)面板是近年来逐渐发展起来的显示照明技术，尤其在显示行业，由于其具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，被视为拥有广泛的应用前景。其中，顶发射型OLED结构，由于具有更高的开口率和利用微腔效应实现光取出优化等优点，成为研究的主要方向。对于顶发射OLED结构，作为OLED出光面的顶电极(OLED的阴极)必须具备良好的光透过率。目前，顶发射OLED结构的顶电极多为薄金属或透明导电材料(例如ITO、IZO)，其中金属材料由于透过率较差，薄化后作为大面积电极使用容易造成电阻增大，不利于大尺寸器件的开发；ITO、IZO等透明导电材料，在低温制成下，其本身的导电性能弱于金属。在现有技术中，将金属作为ITO、IZO的辅助电极，采用光刻的方法制作于背板的非发光区域，以提高顶电极的整体导电性，达到降低电阻的作用。但是这种光刻技术需要复杂的工艺，涉及多道掩膜板和曝光工序，而且由于其需要高温、光刻胶冲刷等工艺特点，会对OLED器件的发光层造成损害，不适合作为量产手段。作为另一种提高顶电极导电性的方式是在封装盖板上制作辅助电极，使用该种方式可以避免上述制作工艺中存在的问题，但是由于辅助电极依托于封装盖板，因而会导致最终成型的OLED显示装置盒厚增大，不利于OLED显示装置的轻薄化。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显示基板及其制备方法和显示装置。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示基板，包括：衬底基板，所述衬底基板上设置有像素界定层和若干个有机发光二极管，所述有机发光二极管的顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有若干个导电图形，所述导电图形在所述像素界定层所处平面的正投影位于所述像素界定层所设置的区域内且与所述顶电极位于所述像素界定层上的部分连接，所述顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有平坦化层，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧设置有辅助电极，所述辅助电极与所述导电图形连接以与所述顶电极构成并联。可选地，还包括：胶黏剂层，所述胶黏剂层位于所述平坦化层和所述辅助电极之间。可选地，所述胶黏剂层背向所述衬底基板的一侧的表面与所述导电图形背向所述衬底基板的一侧的表面平齐。可选地，还包括：薄膜封装层，所述薄膜封装层位于所述辅助电极背向所述衬底基板的一侧。为实现上述目的，本专利技术还提供了一种显示装置，包括：如上述的显示基板。为实现上述目的，本专利技术还提供了一种显示基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成像素界定层和若干个有机发光二极管；在所述有机发光二极管的顶电极背向所述衬底基板的一侧形成若干个导电图形，所述导电图形在所述像素界定层所处平面的正投影位于所述像素界定层所设置的区域内；在所述顶电极背向所述衬底基板的一侧形成平坦化层；在所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧形成辅助电极，所述辅助电极与所述导电图形连接以与所述顶电极构成并联。可选地，所述在所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧形成辅助电极的步骤包括：通过溅射工艺在转印脱模设备上形成辅助电极；通过转印工艺将所述辅助电极转印于所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧。可选地，还包括：在所述平坦化层和所述辅助电极之间形成胶黏剂层。可选地，所述在所述平坦化层和所述辅助电极之间形成胶黏剂层的步骤包括：在形成所述平坦化层之后，通过打印工艺在所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧形成可固化的胶黏剂材料；在形成所述辅助电极之后，对所述胶黏剂材料进行固化处理以形成所述胶黏剂层。可选地，还包括：在所述辅助电极背向所述衬底基板的一侧形成薄膜封装层。本专利技术具有以下有益效果：本专利技术提供了一种显示基板及其制备方法和显示装置，其中该显示基板包括：衬底基板，衬底基板上设置有像素界定层和若干个有机发光二极管，有机发光二极管的顶电极背向衬底基板的一侧设置有若干个导电图形，导电图形在像素界定层所处平面的正投影位于像素界定层所设置的区域内，顶电极背向衬底基板的一侧设置有平坦化层，平坦化层背向衬底基板的一侧设置有辅助电极，辅助电极与导电图形连接以与顶电极构成并联。该显示基板中辅助电极的形成无须依靠封装盖板，因而可有效避免OLED显示装置盒厚的增大，有利于OLED显示装置的轻薄化。此外，为避免光刻工艺损害已完成制备的OLED器件，本专利技术中可采用转印工艺来形成辅助电极，此时由于像素区域中已填充平坦化层，因而可防止转印过程中辅助电极遭到破坏。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的一种显示基板的截面示意图；图2为本专利技术实施例二提供的一种显示基板的制备方法的流程图；图3为本专利技术实施例三提供的一种显示基板的制备方法的流程图；图4a～图4f为采用图3所示制备方法制备显示基板的中间结构的截面示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术提供的一种显示基板及其制备方法和显示装置进行详细描述。其中，显示基板具体为OLED显示基板。图1为本专利技术实施例一提供的一种显示基板的截面示意图，如图1所示，该显示基板包括：衬底基板1，衬底基板1上设置有像素界定层2(PixelDefinitionLayer，简称PDL)和若干个有机发光二极管；其中，像素界定层2限定出若干个像素区域，有机发光二极管位于像素区域内。有机发光二极管一般包括底电极(阳极，未示出)、发光层3和顶电极(阴极)4，全部有机发光二极管共用同一顶电极4(顶电极4可以为整层铺设的结构)；当然，为提升发光层3的发光效率，还可在发光层3和底/顶电极4之间设置其他功能膜层，例如电子/空穴传输层(未示出)、电子/空穴阻挡层(未示出)。在本专利技术中，有机发光二极管的顶电极4背向衬底基板1的一侧设置有若干个导电图形5，导电图形5在像素界定层2所处平面的正投影位于像素界定层2所设置的区域内且与顶电极4位于像素界定层2上的部分连接，顶电极4背向衬底基板1的一侧设置有平坦化层6，平坦化层6背向衬底基板1的一侧设置有辅助电极8，辅助电极8与导电图形5连接，以与顶电极4构成并联。需要说明的是，导电图形5的形状可以为柱状、台状等形状，本专利技术的技术方案对导电图形的形状不作限定。辅助电极8的材料可以为金属材料或者为透明导电材料；其中，当辅助电极8的材料为金属材料时，辅助电极8为网状电极且其在像素界定层2所处平面的正投影位于像素界定层2所设置的区域内；当辅助电极8的材料为透明导电材料时，辅助电极8可以为整层铺设的板状电极，此时电阻最小。在本专利技术中，辅助电极8的形成无须依靠封装盖板，因而可有效避免OLED显示装置盒厚的增大，有利于OLED显示装置的轻薄化。此外，为避免光刻工艺损害已完成制备的OLED器件，本专利技术中可采用转印工艺来形成辅助电极8，此时由于像素区域中已填充平坦化层6，因而可防止转印过程中辅助电极8遭到破坏。优选地，在平坦化层6和辅助电极8之间设置有胶黏剂层7，胶黏剂层7可使得平坦化层6与辅助电极8之间固定的更为牢固。进一步优选地，胶黏剂层7背向衬底基板1的一侧的表面与导电图形5背向衬底基板1的一侧的表面平齐，有利于后续通过转印工艺形成辅助电极8的工序的顺利实施。优本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括：衬底基板，所述衬底基板上设置有像素界定层和若干个有机发光二极管，其特征在于，所述有机发光二极管的顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有若干个导电图形，所述导电图形在所述像素界定层所处平面的正投影位于所述像素界定层所设置的区域内且与所述顶电极位于所述像素界定层上的部分连接，所述顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有平坦化层，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧设置有辅助电极，所述辅助电极与所述导电图形连接。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括：衬底基板，所述衬底基板上设置有像素界定层和若干个有机发光二极管，其特征在于，所述有机发光二极管的顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有若干个导电图形，所述导电图形在所述像素界定层所处平面的正投影位于所述像素界定层所设置的区域内且与所述顶电极位于所述像素界定层上的部分连接，所述顶电极背向所述衬底基板的一侧设置有平坦化层，所述平坦化层背向所述衬底基板的一侧设置有辅助电极，所述辅助电极与所述导电图形连接。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：胶黏剂层，所述胶黏剂层位于所述平坦化层和所述辅助电极之间。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述胶黏剂层背向所述衬底基板的一侧的表面与所述导电图形背向所述衬底基板的一侧的表面平齐。4.根据权利要求1-3中任一所述的显示基板，其特征在于，还包括：薄膜封装层，所述薄膜封装层位于所述辅助电极背向所述衬底基板的一侧。5.一种显示装置，其特征在于，包括：如上述权利要求1-4中任一所述的显示基板。6.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成像素界定层和若干个有机发光二极管；在所述有机发光二极管的顶电极背向所述衬底基板的一侧形成若干个导...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗程远，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11