沉积用掩模的制造方法技术

本发明专利技术涉及沉积用掩模的制造方法，其使得沉积用图案的精度得到提升，该方法包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将第一电极和掩模基材布置到激光加工装置；对掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从第一电极分离沉积用掩模。

Manufacturing method for deposition mask

The invention relates to a manufacturing method for a deposition mask to improve the precision of a deposition pattern, which includes the following steps: forming a mask substrate by electroplating on the first electrode, arranging the first electrode and the mask substrate to the laser processing device, and making a laser processing for the mask substrate to form a deposition use. A mask for patterning deposition; and a mask for separating deposition from the first electrode.

【技术实现步骤摘要】
沉积用掩模的制造方法
本专利技术涉及沉积用掩模的制造方法。
技术介绍
显示装置根据发光方式分类为液晶显示装置(liquidcrystaldisplay；LCD)、有机发光显示装置(organiclightemittingdiodedisplay；OLEDdisplay)、等离子体显示装置(plasmadisplaypanel；PDP)和电泳显示装置(electrophoreticdisplay)等。其中，有机发光显示装置具有对比度(ContrastRatio)和响应速度(responsetime)等优秀的显示特性，且容易实现柔性显示器(FlexibleDisplay)，因此作为理想的下一代显示器而备受瞩目。通常，有机发光显示装置形成为由阴极和阳极围绕衬底上的由有机材料构成的多层薄膜的结构，并且当向阴极和阳极施加电压时，产生流动的电流并在有机薄膜内产生发光现象。即，有机分子因电流的注入而跃迁至激态(excitedstate)之后再返回到原来的基态(groundstate)，从而将多余的能量以光的形式排出。如上所述，为了形成包括多个层的有机薄膜的有机发光显示装置，在整个衬底上以均匀的厚度沉积有机薄膜是重要的。有机薄膜可通过使用沉积用掩模的沉积工艺形成。通常，沉积用掩模具有包括多个开口的沉积用图案。最近，应对显示装置的高分辨率化，沉积用图案逐渐被精细化。因此，正在研究能够提高沉积用图案的精度的沉积用掩模的制造方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供沉积用掩模的制造方法，该方法能够提高沉积用图案的精度。用于实现如上所述目的的、根据本专利技术的沉积用掩模的制造方法包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将第一电极和掩模基材布置到激光加工装置；对掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从第一电极分离沉积用掩模。在第一电极上形成掩模基材的步骤之后，还包括以下步骤：对第一电极和掩模基材进行洗涤。在对第一电极和掩模基材进行洗涤的步骤中，采用将洗涤液喷射到第一电极和掩模基材上的喷射(Spray)方式或者将第一电极和掩模基材浸渍在洗涤液中的浸渍(Dip)方式。在将第一电极和掩模基材布置到激光加工装置的步骤中，第一电极和掩模基材被安装到台上。台由玻璃构成。台还包括静电吸盘，静电吸盘吸附第一电极和掩模基材。激光加工装置包括激光振荡部、分光部和扫描器，其中，激光振荡部对激光进行振荡，分光部将经振荡的激光分光成多个激光束，并且扫描器对激光束的照射位置进行调节。激光束在与掩模基材垂直的方向上照射。第一电极由不锈钢(SUS)、因瓦(Invar)合金、镍(Ni)、钴(Co)、镍合金、镍钴合金、铁(Fe)合金中的任一种构成。掩模基材由30％以上且50％以下的镍(Ni)和50％以上且70％以下的铁(Fe)构成。掩模基材还包括钴(Co)、铜(Cu)、碳(C)中的至少任一种物质。沉积用掩模的厚度为0.1μm至50μm。根据本专利技术的沉积用掩模的制造方法能够提高沉积用图案的精度。附图说明图1是示出根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模组件的分解立体图。图2a至图2c是示出根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模的制造方法的视图。图3是示出根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模的制造方法的顺序图。图4是示出根据本专利技术另一实施方式的沉积用掩模的制造方法的视图。图5是示出根据本专利技术又一实施方式的沉积用掩模组件的分解立体图。图6是用于说明使用根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模组件的显示装置的沉积工艺的剖视图。图7是示出使用根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模组件制造的有机发光显示装置的剖视图。具体实施方式参照在下文中结合附图详细描述的实施方式，本专利技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得明确。然而，本专利技术并不限于下文中所公开的实施方式，而是可实现为彼此不同的各种形态。本实施方式仅仅是为了使本专利技术的公开完整并且将专利技术的范围完整地告知给本专利技术所属
的普通技术人员而被提供的。本专利技术仅由权利要求书的范围来限定。因此，在一些实施方式中，为了避免模糊地解释本专利技术，将不具体说明众所周知的工艺步骤、众所周知的器件结构和众所周知的技术。在整个说明书中，相同的附图标记指示相同的构成要素。在附图中，为了明确地表现多个层和区域，厚度被放大示出。在整个说明书中，对相似的部分指定了相同的附图标记。当层、膜、区域、板等部分被称为位于其它部分“上”时，不仅包括“直接”位于其它部分“上”的情况，而且也包括其中间存在另外的其它部分的情况。相反，当某一部分被称为“直接”位于其它部分“上”时，则意味着中间不存在其它部分。此外，当层、膜、区域、板等部分被称为位于其它部分“下”时，不仅包括“直接”位于其它部分“下”的情况，而且也包括其中间存在另外的其它部分的情况。相反，当某一部分被称为“直接”位于其它部分“下”时，则意味着中间不存在其它部分。“下方(below)”、“之下(beneath)”、“下部(lower)”、“上方(above)”、“上部(upper)”等空间相对用语如图中所示可用于容易地阐述一个器件或构成要素与其它器件或构成要素的相关关系。空间相对用语应理解为包括图中所示的方向以及器件在使用时或操作时的彼此不同的方向的用语。例如，在图中所示的器件被翻转的情况下，被记载为位于其它器件“下方(below)”或“之下(beneath)”的器件可放置在其它器件“上方(above)”。因此，作为示例性用语的“下方”可包括上方向和下方向两者。器件也可定向在其它方向上，因此空间相对用语可根据定向进行解释。虽然第一、第二、第三等用语可在本说明书中用于说明各种构成要素，但是这些构成要素并不由上述用语限定。上述用语用于将一个构成要素与其它构成要素区分开的目的。例如，在不背离本专利技术的权利范围的情况下，第一构成要素可被命名为第二构成要素或第三构成要素等，且类似地，第二构成要素或第三构成要素也可相互交换命名。除非另有定义，否则本说明书中所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)可以以本专利技术所属
的普通技术人员所能够共同理解的含义来使用。此外，除非明确地特别定义，否则不应理想化地或过度地解释常用词典中所定义的术语。在下文中，参照图1至图3对本专利技术一实施方式进行说明。图1是示出根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模组件10的分解立体图。参照图1，根据本专利技术一实施方式的沉积用掩模组件10包括沉积用掩模101和固定沉积用掩模101的框架102。在下文中，出于说明的便利，将框架102的短边方向称为第一方向D1，将框架102的长边方向称为第二方向D2，并且将框架102的厚度方向称为第三方向D3。沉积用掩模101包括沉积用图案PA。即，沉积用掩模101在与待后述的框架102的开口区域OP重叠的部分处具有沉积用图案PA。沉积用图案PA可包括多个开口。多个开口可在作为各沉积用掩模101的厚度方向的第三方向D3上完全贯穿，并且也可仅对一部分进行加工而不贯穿。多个开口可根据待沉积到显示装置上的有机薄膜的图案被加工成条形状、点形状等多种形态。沉积用掩模101可由不锈钢(SUS)、因瓦(Invar)合金、镍(Ni)、钴(Co)、镍合金、镍钴合金、铁(Fe)合金中的任一种构成。沉积用掩模101可具有约0.1μm至50μm的厚度。框架本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.沉积用掩模的制造方法，包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将所述第一电极和所述掩模基材布置到激光加工装置；对所述掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从所述第一电极分离所述沉积用掩模。

【技术特征摘要】
2017.01.31 KR 10-2017-00141181.沉积用掩模的制造方法，包括以下步骤：通过电镀在第一电极上形成掩模基材；将所述第一电极和所述掩模基材布置到激光加工装置；对所述掩模基材进行激光加工，以形成具有沉积用图案的沉积用掩模；以及从所述第一电极分离所述沉积用掩模。2.如权利要求1所述的沉积用掩模的制造方法，在所述第一电极上形成掩模基材的步骤之后，还包括以下步骤：对所述第一电极和所述掩模基材进行洗涤。3.如权利要求2所述的沉积用掩模的制造方法，其中，在对所述第一电极和所述掩模基材进行洗涤的步骤中，采用将洗涤液喷射到所述第一电极和所述掩模基材上的喷射方式或者将所述第一电极和所述掩模基材浸渍在洗涤液中的浸渍方式。4.如权利要求1所述的沉积用掩模的制造方法，其中，在将所述第一电极和所述掩模基材布置到激光加工装置的步骤中，所述第一电极和所述掩模基材被安装到台上。5.如权利要求4所述的沉积用掩模的制造方法，其中，所述台由玻...

【专利技术属性】
技术研发人员：任星淳，文英慜，黄圭焕，金圣哲，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR