光刻设备和器件制造方法技术

描述了一种平台和水平传感器的组合，配置成感测物体上的目标部位(T)处的高度水平，所述平台包括：配置成保持物体的物体台；和定位装置，该定位装置用于沿第一方向(Y)相对于水平传感器移位所述物体台，所述水平传感器包括：投影系统，配置成将测量束(820)投影到所述物体的测量区域上，所述测量区域具有沿所述第一方向的测量区域长度(L)；检测器系统(850)，配置成在所述测量束的不同部分被测量区域内的不同子区域反射离开之后接收所述测量束的不同部分(P11、P12、P21、P22、P31、P32)，所述不同子区域沿所述第一方向布置，并且配置成提供代表所接收的不同部分的输出信号；信号处理系统(890)，配置成处理来自所述检测器系统的输出信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备和器件制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2015年12月15日递交的欧洲申请15200110.3的优先权，该欧洲专利申请的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及平台和水平传感器的组合、光刻设备和用于制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是将所需的图案施加至衬底(通常为衬底的目标部分)上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生要在IC的单层上形成的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或多个管芯)上。通常通过成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上实现图案的转移。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器；在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐射每一个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。另外，能够通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。为了精确本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平台和水平传感器的组合，配置成感测物体上的目标部位处的高度水平，所述平台包括：‑配置成保持所述物体的物体台；和‑定位装置，所述定位装置用于沿第一方向相对于所述水平传感器移位所述物体台；所述水平传感器包括：‑投影系统，所述投影系统配置成将测量束投影到所述物体的测量区域上，所述测量区域具有沿所述第一方向的测量区域长度；‑检测器系统，所述检测器系统配置成在所述测量束的不同部分被所述测量区域内的不同子区域反射离开之后接收所述测量束的不同部分，所述不同子区域沿所述第一方向布置，并且所述检测器系统配置成提供代表所接收的不同部分的输出信号；‑信号处理系统，所述信号处理系统被配置成处理来自所述检测器系...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.15 EP 15200110.31.一种平台和水平传感器的组合，配置成感测物体上的目标部位处的高度水平，所述平台包括：-配置成保持所述物体的物体台；和-定位装置，所述定位装置用于沿第一方向相对于所述水平传感器移位所述物体台；所述水平传感器包括：-投影系统，所述投影系统配置成将测量束投影到所述物体的测量区域上，所述测量区域具有沿所述第一方向的测量区域长度；-检测器系统，所述检测器系统配置成在所述测量束的不同部分被所述测量区域内的不同子区域反射离开之后接收所述测量束的不同部分，所述不同子区域沿所述第一方向布置，并且所述检测器系统配置成提供代表所接收的不同部分的输出信号；-信号处理系统，所述信号处理系统被配置成处理来自所述检测器系统的输出信号，其中所述信号处理系统配置成在所述平台使所述物体沿所述第一方向移位期间：-对于所述不同子区域中的每一个子区域，在所述目标部位在所述子区域中时，连续地获取代表所述测量束的所接收的部分的输出信号；和-基于所述输出信号的组合确定所述目标部位的高度水平。2.根据权利要求1所述的组合，其中所述检测器系统包括：-多个检测器，所述多个检测器中的每个检测器配置成分别接收所述测量束的所述不同部分中的一不同部分。3.根据权利要求1所述的组合，其中所述信号处理系统配置成：-基于所述输出信号确定各个不同子区域的多个高度水平；和-通过组合所述多个高度水平确定所述目标部位的高度水平。4.根据权利要求3所述的组合，其中所述信号处理系统配置成确定所述目标部位的高度水平为所述多个高度水平的平均值。...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·范霍夫，J·科塔尔，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL