The method of hair treatment of the present invention includes the following procedure: a process (I): a process with a carboxylic acid containing an inorganic value of 250~450 and an organic value of 50~250, or the salt of the carboxylic acid as the first composition of the composition (A), a process (II): placing the hair of the first composition at 15~100 C for 15 seconds to 60 minutes at 15~100. Sequence, process (III): after the process (II), the process of applying the aromatic sulfonic acid containing less than 300 or its salt as the second composition of the composition (B) is applied to the hair after the process.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】毛发处理方法
本专利技术涉及一种毛发处理方法。
技术介绍
现有在希望缓和卷发的情形、或希望直发化的情形时,一般会进行被称为平板烫发处理(straightpermanenttreatment)或直发处理(relaxertreatment)的处理。在平板烫发处理中,通过硫代乙醇酸等还原剂将毛发内部的角蛋白所具有的双硫键切断,视需要一面亦使用高温的烫发器等一面将卷发强制性地变形为笔直形状后,通过过氧化氢、溴酸钾等氧化剂进行处理,使双硫键再次键结。又,在直发处理中,通过pH值12~14的强碱性毛发处理剂将毛发蛋白质的双硫键切断并取代为羊毛硫氨酸键,由此强制性地变形、固定为笔直形状。然而,已知这些方法由于使用较强的化学反应或高温的热,因此有对毛发造成严重损伤的情况。因此,研究出不进行平板烫发处理或直发处理,以非加热的方式矫正卷发、或赋予毛发的整齐性的各种方法。例如在专利文献1中,记载有通过将含有选自焦谷氨酸、羟基羧酸、二羧酸中的化合物及苄醇等渗透促进剂且呈酸性的毛发变形剂组合物涂抹在卷发上,并在40℃下加温1小时,可不损伤卷发而简单地直发化,且耐高湿性亦优异。在专利文献2中,记载有如果将含有4重量%以上的二元或三元的羧酸且pH值为3以下的组合物涂抹在干燥的毛发上并放置20分钟,则毛发直发化。在专利文献3中,公开有通过将含有特定的羧酸、特定的磺酸及有机溶剂且呈酸性的组合物涂抹在卷发上并在40℃下加温1小时,可不损伤卷发而简单地直发化,且也不会因湿度或洗发而失去变形效果。(专利文献1)日本专利特开平6-298629号公报(专利文献2)日本专利特表2015-517539号 ...
【技术保护点】
1.一种毛发处理方法,其中,包含以下工序(i)~(iii):工序(i):对毛发应用含有无机性值为250以上且450以下并且有机性值为50以上且250以下的羧酸、或该羧酸的盐作为成分(A)的第一组合物的工序;工序(ii):将已应用第一组合物的毛发在15℃以上且100℃以下放置15秒以上且60分钟以下的工序;工序(iii):在工序(ii)后,对毛发应用含有分子量为300以下的芳香族磺酸或其盐作为成分(B)的第二组合物的工序。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.25 JP 2015-2539971.一种毛发处理方法,其中,包含以下工序(i)~(iii):工序(i):对毛发应用含有无机性值为250以上且450以下并且有机性值为50以上且250以下的羧酸、或该羧酸的盐作为成分(A)的第一组合物的工序;工序(ii):将已应用第一组合物的毛发在15℃以上且100℃以下放置15秒以上且60分钟以下的工序;工序(iii):在工序(ii)后,对毛发应用含有分子量为300以下的芳香族磺酸或其盐作为成分(B)的第二组合物的工序。2.如权利要求1所述的毛发处理方法,其中,在工序(iii)后包含冲洗毛发的工序,且在工序(iii)与冲洗毛发的工序之间进而包含工序(iv),工序(iv):将涂抹有第二组合物的毛发在15℃以上且100℃以下放置1分钟以上且60分钟以下的工序。3.如权利要求1或2所述的毛发处理方法,其中,第一组合物中的(D)以下的通式(D-1)所表示的有机溶剂的含量小于5质量%,R2-(OCH2CH2)q-R3(D-1)式中,R2表示氢原子或碳原子数1以上且5以下的烷基,R3表示氢原子或羟基,q表示0以上且5以下的整数;但是,在q为0...
【专利技术属性】
技术研发人员:庭野悠,板谷美季,大林小林,
申请(专利权)人:花王株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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