化合物及其制造方法、组合物、光学部件形成用组合物、光刻用膜形成组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、辐射敏感组合物、非晶膜制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜制造方法、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、纯化方法技术

下述式(1)所示的化合物及其制造方法、以及组合物、光学部件形成用组合物、光刻用膜形成组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案的形成方法、辐射敏感组合物、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、以及纯化方法。(1)(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、下述式(A)所示的基团、下述式(B)所示的基团、硫醇基或羟基，此处，选自由R2～R5组成的组中的至少1个为选自由下述式(A)所示的基团和下述式(B)所示的基团组成的组中的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)(A)(式(A)中，R6各自独立地为碳数1～4的亚烷基，m’为1以上的整数。)(B)(式(B)中，R6与前述定义相同，R7为氢原子或甲基，m”为0或1以上的整数。)

Compound and manufacturing method, composition, optical component formation composition, photolithography film formation composition, corrosion inhibitor composition, etching pattern formation method, radiation sensitive composition, amorphous film manufacturing method, photolithography lower layer film forming material, lithography lower layer film forming composition, lithography lower layer film manufacture Method, resist pattern forming method, circuit pattern forming method and purification method

The compound and the manufacturing method of the following formula (1) and the composition, the composition of the optical component, the photolithography film formation composition, the anticorrosion composition, the formation method of the anticorrosion pattern, the radiation sensitive composition, the manufacturing method of the amorphous film, the lithography lower layer film forming material, and the formation of the lithography lower layer membrane. Compounds, fabrication methods of underlayer films for lithography, formation methods of corrosion resistant patterns, formation methods of circuit patterns, and purification methods. (1) (1) (1), R1 is a 2n valence group of 1~60 carbon or single bond, R2 ~ R5 is independently of a straight chain, branched or circular alkyl of carbon number 1~30, 6~30 aryl of carbon, 2~30 of carbon, the group shown in A, the group, thiol group, or hydroxyl shown in the following formula (B), here, free R2 to R5 At least 1 of the groups in the composition are groups in the group composed of the groups shown by A and the group shown by the following formula (B), M2 and M3 are independently of 0~8 integers, and M4 and M5 are independently 0~9 integers, of which m2, m3, M4, and M5 are not 0, n is an integer of 1~4. 0~2 of the integers. (A) (A), R6 is independent of the alkyl number of carbon number 1~4, M 'is an integer of more than 1. (B) (B), R6 is the same as the preceding definition, R7 is a hydrogen atom or a methyl, M is an integer of 0 or more than 1. )

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化合物及其制造方法、组合物、光学部件形成用组合物、光刻用膜形成组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、辐射敏感组合物、非晶膜制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜制造方法、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、纯化方法
本专利技术涉及具有特定结构的醇化合物和环氧化合物。另外，涉及它们的制造方法、以及组合物、光学部件形成用组合物、光刻用膜形成组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案的形成方法、辐射敏感组合物、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、以及纯化方法。
技术介绍
作为树脂原料、树脂固化剂，已知具有双酚骨架的醇化合物在各种特性(光学特性、耐热性、耐水性、耐湿性、耐化学药品性、电特性、机械特性、尺寸稳定性等)上是有用的(参见日本特开2006-36648号公报(以下称为专利文献1)、日本特开2009-155256号公报(以下称为专利文献2)、日本特开2011-68624号公报(以下称为专利文献3)、日本特开2011-105887号公报(以下称为专利文献4)、国际公开WO第2013/024778(以下称为专利文献5)。)。另外，关于环氧树脂，一般通过使用各种固化剂使其固化而形成机械性质、耐水性、耐化学药品性、耐热性、电性质等优异的固化物。因此，环氧树脂在粘接剂、涂料、层压板、成形材料、浇注成型材料等广泛的领域中得到利用。以往，这些之中，在需要耐热性的用途当中，提出了与双酚A型环氧树脂等以往的环氧化合物相比能够提高耐热性等特性的、具有双苯基芴骨架的环氧化合物(参见日本特许第3659533号公报(以下称为专利文献6)、日本特开2009-155256号公报(以下称为专利文献7)、日本特开2013-087173号公报(以下称为专利文献8)。)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006-36648号公报专利文献2：日本特开2009-155256号公报专利文献3：日本特开2011-68624号公报专利文献4：日本特开2011-105887号公报专利文献5：国际公开第2013/024778专利文献6：日本特许第3659533号公报专利文献7：日本特开2009-155256号公报专利文献8：日本特开2013-087173号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题近年，作为树脂原料、树脂固化剂，要求前述特性的进一步提高，因此，期望更新型的醇化合物。另外，对于作为半导体封装剂等电子材料用途而使用的环氧树脂等，要求高屈折率、高耐热化、低粘度化等各种高功能特性的结构，期望新型的环氧化合物。本专利技术的目的在于，提供能够用于热固性树脂、热塑性树脂的原料、树脂的固化剂或电子材料用途且具有高耐热性的化合物及其制造方法、以及组合物、光学部件形成用组合物、光刻用膜形成组合物、抗蚀剂组合物、抗蚀图案的形成方法、辐射敏感组合物、非晶膜的制造方法、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法、以及纯化方法。用于解决问题的方案本专利技术人为了解决前述课题而进行了深入研究，结果发现，具有特定结构的新型醇化合物和新型环氧化合物能够解决前述课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。＜1＞下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、下述式(A)所示的基团、下述式(B)所示的基团、硫醇基或羟基，此处，选自由R2～R5组成的组中的至少1个为选自由下述式(A)所示的基团和下述式(B)所示的基团组成的组中的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。(式(A)中，R6各自独立地为碳数1～4的亚烷基，m’为1以上的整数。)(式(B)中，R6与前述定义相同，R7为氢原子或甲基，m”为0或1以上的整数。))＜2＞根据前述＜1＞所述的化合物，其中，前述R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、前述式(A)所示的基团、硫醇基或羟基，前述选自由R2～R5组成的组中的至少1个为前述式(A)所示的基团。＜3＞根据前述＜2＞所述的化合物，其中，选自由R4和R5组成的组中的至少1个为前述式(A)所示的基团。＜4＞根据前述＜2＞或＜3＞所述的化合物，其中，选自由R2和R3组成的组中的至少1个为前述式(A)所示的基团。＜5＞根据前述＜1＞所述的化合物，其中，选自由前述R2～R5组成的组中的至少1个为前述式(B)所示的基团。＜6＞根据前述＜5＞所述的化合物，其中，选自由R4和R5组成的组中的至少1个为前述式(B)所示的基团。＜7＞根据前述＜5＞或＜6＞所述的化合物，其中，选自由R2和R3组成的组中的至少1个为前述式(B)所示的基团。＜8＞前述＜2＞所述的化合物的制造方法，其包括使下述式(1-A-p)所示的化合物与氧亚烷基导入试剂在碱催化剂存在下反应的工序。(式(1-A-p)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2a～R5a各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，选自由R2a～R5a组成的组中的至少1个为羟基，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)＜9＞前述＜5＞所述的化合物的制造方法，其包含使下述式(1-B-p)所示的化合物与环氧基导入试剂在碱催化剂存在下反应的工序。(式(1-B-p)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2b～R5b各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、下述式(A)所示的基团、硫醇基或羟基，此处，选自由R2b～R5b组成的组中的至少1个为选自由下述式(A)所示的基团和羟基组成的组中的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。(式(A)中，R6为碳数1～4的亚烷基，m’为1以上的整数。))＜10＞根据前述＜9＞所述的制造方法，其中，前述环氧基导入试剂为下述式(3)所示的化合物。(式(3)中，R7为氢原子或甲基，Z为卤素原子。)＜11＞根据前述＜2＞所述的化合物，其中，前述式(1)所示的化合物为下述式(X)所示的化合物。＜12＞根据前述＜7＞所述的化合物，其中，前述式(1)所示的化合物为下述式(Y)或(Z)所示的化合物。＜13＞一种树脂，其具有源自前述＜1＞～＜7＞、＜11＞～＜12＞中任一项所述的化合物的结构单元。＜14＞一种组合物，其含有选自由前述＜1＞～＜7＞、＜11＞～＜12＞中任一项所述的化合物和前述＜13＞所述的树脂组成的组中的1种以上。＜15＞一种光学部件形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.下述式(1)所示的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.03 JP 2015-1738491.下述式(1)所示的化合物，式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、下述式(A)所示的基团、下述式(B)所示的基团、硫醇基或羟基，此处，选自由R2～R5组成的组中的至少1个为选自由下述式(A)所示的基团和下述式(B)所示的基团组成的组中的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数，式(A)中，R6各自独立地为碳数1～4的亚烷基，m’为1以上的整数，式(B)中，R6与前述定义相同，R7为氢原子或甲基，m”为0或1以上的整数。2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述R2～R5各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、所述式(A)所示的基团、硫醇基或羟基，所述选自由R2～R5组成的组中的至少1个为所述式(A)所示的基团。3.根据权利要求2所述的化合物，其中，选自由R4和R5组成的组中的至少1个为所述式(A)所示的基团。4.根据权利要求2或3所述的化合物，其中，选自由R2和R3组成的组中的至少1个为所述式(A)所示的基团。5.根据权利要求1所述的化合物，其中，选自由R2～R5组成的组中的至少1个为所述式(B)所示的基团。6.根据权利要求5所述的化合物，其中，选自由R4和R5组成的组中的至少1个为所述式(B)所示的基团。7.根据权利要求5或6所述的化合物，其中，选自由R2和R3组成的组中的至少1个为所述式(B)所示的基团。8.权利要求2所述的化合物的制造方法，其包括使下述式(1-A-p)所示的化合物与氧亚烷基导入试剂在碱催化剂存在下反应的工序，式(1-A-p)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2a～R5a各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、硫醇基或羟基，此处，选自由R2a～R5a组成的组中的至少1个为羟基，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。9.权利要求5所述的化合物的制造方法，其包括使下述式(1-B-p)所示的化合物与环氧基导入试剂在碱催化剂存在下反应的工序，式(1-B-p)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2b～R5b各自独立地为碳数1～30的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的烯基、下述式(A)所示的基团、硫醇基或羟基，此处，选自由R2b～R5b组成的组中的至少1个为选自由下述式(A)所示的基团和羟基组成的组中的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数，式(A)中，R6为碳数1～4的亚烷基，m’为1以上的整数。10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述环氧基导入试剂为下述式(3)所示的化合物，式(3)中，R7为氢原子或甲基，Z为卤素原子。11.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述式(1)所示的化合物为下述式(X)所示的化合物，12.根据权利要求7所述的化合物，其中，所述式(1)所示的化合物为下述式(Y)或(Z)所示的化合物，13.一种树脂，其具有源自权利要求1～7、11～12中任一项所述的化合物的结构单元。14.一种组合物，其含有选自由权利要求1～7、11～12中任一项所述的化合物和权利要求13所述的树脂组成的组中的1种以上。15.一种光学部件形成用组合物，其含有选自由权利要求1～7、11～12中任一项所述的化合物和权利要求13所述的树脂组成的组中的1种以上。16.一种光刻用膜形成组合物，其含有选自由权利要求1～7、11～12中任一项所述的化合物和权利要求13所述的树脂组成的组中的1种以上。17.一种抗蚀剂组合物，其含有选自由权利要求1～7、11～12中任一项所述的化合物和权利要求13所述的树脂组成的组中的1种以上。18.根据权利要求17所述的抗蚀剂组合物，其还含有溶剂。19.根据权利要求17或18所述的抗蚀剂组合物，其还...

【专利技术属性】
技术研发人员：越后雅敏，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP