偏振片及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种算术平均高度(Sa)为21.0nm以下的偏振片。

Polarizer and its manufacturing method

The invention provides a polarizer with an arithmetic mean height (Sa) of less than 21.0nm.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振片及其制造方法
本专利技术涉及偏振片及其制造方法，更具体而言，涉及吸收轴(拉伸)方向的收缩力小、伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均少的偏振片及其制造方法。
技术介绍
液晶显示装置(LCD)、场致发光(EL)显示装置、等离子体显示装置(PDP)、场发射显示装置(FED)、OLED等之类的各种图像显示装置中所用的偏振板通常包含在聚乙烯醇系(polyvinylalcohol、PVA)膜上吸附碘系化合物或二色性偏振物质并取向而得的偏振片，具有在偏振片的一面依次层叠偏振片保护膜、在偏振片的另一面依次层叠偏振片保护膜、与其他构件接合的粘合剂层和脱模膜的多层结构。构成偏振板的偏振片适用于图像显示装置，为了提供色彩重现性优异的图像，基本上被要求兼具高的透射率及偏振度。为了实现这一点，采用将聚乙烯醇系膜自身改性、或取代具有升华性的碘系偏振元件而使用非升华性二色性染料的方法来制造出偏振片。另一方面，通常为了对偏振片赋予偏振功能，需要拉伸工序，然而会有在被制造后因内在的拉伸(吸收轴)方向的收缩力而在使用中发生变形的问题。偏振片的变形引起偏振片的光学功能降低及图像显示装置的不良。另外，在拉伸工序中还有在偏振片中产生伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均的问题。日本公开专利第2010－145866号中公开过收缩应力小的偏振片的制造方法，然而无法提出针对上述的问题的令人满意的程度的替代方案。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010－145866号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术的目的在于，提供吸收轴方向的收缩力小的偏振片及其制造方法。另外，本专利技术的目的在于，提供伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均得到减少的偏振片及其制造方法。用于解决问题的方法1.一种偏振片，其算术平均高度(Sa)为21.0nm以下。2.根据上述1中记载的偏振片，其中，厚度为5至30μm。3.根据上述1或2中记载的偏振片，吸收轴方向的收缩力为3N/2mm以下。4.一种偏振片的制造方法，该制造方法包括偏振片形成用膜的溶胀、染色、拉伸、交联、以及干燥步骤，所述干燥步骤包括使偏振片形成用膜接触热辊而干燥的步骤，使所述偏振片形成用膜接触热辊的时间为全部干燥时间的50％以上。5.根据上述4中记载的偏振片的制造方法，其中，所述干燥步骤还包括热风干燥步骤。6.根据上述5中记载的偏振片的制造方法，其中，所述热辊的温度为热风的温度以上。7.根据上述4～6中任一项记载的偏振片的制造方法，其中，以下述的数学式1定义的干燥缩幅(neck-in)值为10至15％：[数学式1]干燥缩幅＝{(W1－W2)/W1}×100(％)。(式中，W1为干燥步骤前的偏振片形成用膜的宽度，W2为干燥步骤后的偏振片形成用膜的宽度)。8.一种偏振板，其包含上述1至3中任一项记载的偏振片及接合于所述偏振片的至少一面的偏振片保护膜。9.一种图像显示装置，其包含上述9中记载的偏振板。专利技术效果本专利技术的偏振片具有低的算术平均高度，由此在吸收轴方向上显示出低收缩力，可以明显地减少伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均。本专利技术的偏振片的制造方法在特定的时间期间使偏振片形成用膜接触热辊而干燥，由此将干燥缩幅值调节为特定的范围，可以制造出在吸收轴方向上显示出低收缩力、伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均得到明显减少的偏振片。具体实施方式本专利技术涉及偏振片及其制造方法，所述偏振片的算术平均高度(Sa)为21.0nm以下，由此在吸收轴方向上收缩力低，伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均的发生得到减少。以下，对本专利技术进行详细说明。通常，拉伸偏振片形成用膜而制造的偏振片在制造过程中的干燥时会发生收缩，在此种收缩过程中发生过度的干燥缩幅，从而会有产生伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均的问题。另外，当其后应用于图像显示装置等中的偏振片从外部受热时，无法充分地消除的吸收轴方向的收缩力就会显现出来，会有带来偏振片的变形的问题。因而，通过将本专利技术的偏振片的算术平均高度(Sa)调节为21.0nm以下，可以明显地减少吸收轴方向的收缩力及伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均。本专利技术的专利技术人通过使偏振片形成用膜与热辊接触而被干燥时，利用热辊来支撑偏振片形成用膜，控制偏振片的宽度方向(与拉伸方向垂直的方向)的收缩，而抑制因偏振片的宽度方向的变形产生的凹凸，因此伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均得到抑制。另外，通过控制偏振片的宽度方向的收缩，偏振片形成用膜的厚度以此程度进一步减少，使得偏振片的拉伸(吸收轴)方向的收缩力减少。虽然如上所述地判断，然而并不限定于此地解释。另外，本专利技术的专利技术人将偏振片的算术平均高度(Sa)调节为21.0nm以下，减少吸收轴方向的收缩力，并且使伴随着凹凸沿着拉伸方向延伸的条纹状的不均明显地减少。由于只要偏振片的算术平均高度为21.0nm以下，就可以实现作为本专利技术的目的的效果，因此其下限没有特别限定，例如可以为1.0nm以上、或0.1nm以上、或大于0nm。偏振片的算术平均高度为21.0nm以下即可，然而优选为19.0nm以下，更优选为17.0nm以下。算术平均高度(Sa)例如可以基于ISO25178测定。本专利技术中，为了将偏振片的算术平均高度(Sa)调整为21.0nm以下，可以通过将全部干燥时间中的热辊干燥时间的比率控制为50％以上来进行调整。算术平均高度得到调节的本专利技术的偏振片可以与通常的偏振片相比具有相对低的厚度，从这些方面考虑，偏振片的厚度的下限值可以为5μm，也可以为7μm。偏振片的厚度的上限值可以为30μm，也可以为28μm，也可以为23μm。本专利技术中，为了将偏振片的厚度调整为上述的范围，可以通过将全部干燥时间中的热辊干燥时间的比率控制为50％以上来进行调整。另一方面，本专利技术的偏振片如前所述具有低的吸收轴方向的收缩力，例如吸收轴方向的收缩力可以为3N/2mm以下。在吸收轴方向的收缩力为3N/2mm以下的情况下，可以有效地防止偏振片的变形。由于吸收轴方向的收缩力越低越好，因此其下限没有特别限定，例如可以为2N/2mm以上、或1N/2mm以上、或0.1N/2mm以上。本专利技术中，为了将偏振片的收缩力调整为上述的范围，可以通过将全部干燥时间中的热辊干燥时间的比率控制为50％以上来进行调整。另外，本专利技术提供前述的偏振片的制造方法。本专利技术的偏振片的制造方法包括偏振片形成用膜的溶胀、染色、拉伸、交联及干燥步骤，所述干燥步骤包括使偏振片形成用膜接触热辊而干燥的步骤，使所述偏振片形成用膜接触热辊的时间为全部干燥时间的50％以上。如果对本专利技术的偏振片的制造方法进行更具体的说明，则如下所示。用于制造偏振片的偏振片形成用膜只要是偏振板的制造中所用的高分子膜，则可以没有特别限制地使用该领域中公知的、可以利用二色性物质(例如碘)染色的膜，例如可以使用聚乙烯醇膜、被部分地皂化了的聚乙烯醇膜；聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯－乙烯醇共聚物膜、纤维素膜、它们的被部分地皂化了的膜等之类的亲水性高分子膜；或经过脱水处理的聚乙烯醇系膜、经过脱盐酸处理的聚氯乙烯系膜等之类的聚烯取向膜；等。它们当中，从不仅在面内强化偏振度的均匀性的效果优异、而且对碘的染色亲和性优异的方面考虑，优本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振片，其算术平均高度Sa为21.0nm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.11.05 KR 10-2015-01551961.一种偏振片，其算术平均高度Sa为21.0nm以下。2.根据权利要求1所述的偏振片，其厚度为5μm至30μm。3.根据权利要求1或2所述的偏振片，其吸收轴方向的收缩力为3N/2mm以下。4.一种偏振片的制造方法，该制造方法包括偏振片形成用膜的溶胀、染色、拉伸、交联以及干燥步骤，所述干燥步骤包括使偏振片形成用膜接触热辊而干燥的步骤，使所述偏振片形成用膜接触热辊的时间为全部干燥时间的50％以上。5.根据权利要求4所述的偏...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴重万，权容铉，赵天熙，崔正宁，矢可部公彦，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP