A vacuum valve, including a seat, with a valve opening and a first cover, and a closed element, which has a second close cover with the first seal. The first sealing cover and / or second sealing mask have at least two component composite materials, which have metal supporting parts and polymer based sealing materials. The sealing material is hardened to the support parts by defining the contour along the sealing surface route. The metal support component defines the area of the inner supporting body and the external supporting body. The metal support member has a plurality of deepening portions extending into the inner supporting body region. The sealing material is applied to the supporting body component to provide a limited outline of the sealing material on the external support area, and a portion of the sealing material extends at least to a part of the deepening part of the supporting body part and fills the depth to at least half in volume and / or depth.
【技术实现步骤摘要】
真空阀的密封件及其制造方法
本专利技术涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的真空阀和根据权利要求11的前序部分所述的用于真空阀的密封元件,并且还涉及一种根据权利要求12所述的用于制造这种真空阀的密封面的方法。
技术介绍
一般地,在现有技术中以不同的实施方式已知了基本上气密地封闭或调节流动路径的真空阀,该流动路径穿过在阀壳体中成型的开口。真空滑阀特别使用在IC制造和半导体制造的领域中,所述IC制造或半导体制造必须在受保护的氛围中尽可能在不存在污染性颗粒的情况下进行。例如,在半导体晶片或液晶基板制造设备中,高度敏感的半导体元件或液晶元件依次经过多个处理室,在这些处理室中处于处理处理室内的半导体元件分别借助加工设备来加工。不仅在处理室之内的加工过程期间而且在从处理室到处理室的运输期间,高度敏感的半导体元件必须始终处于受保护的氛围中,特别是必须处于真空中。处理室例如经由连接通道彼此连接,其中处理室借助真空滑阀能够被打开以将部件从一个处理室转移到下一处理室,并且在执行相应的制造步骤之后能够被气密地封闭。这种阀基于所描述的应用领域也被称作真空转移阀并且基于其矩形的开口横截面也称作闸门阀。由于转移阀特别用在高度敏感的半导体元件的制造中,所以特别是必须将因致动阀而引起的颗粒生成和在阀腔中的自由颗粒保持得尽可能少。颗粒生成主要是由例如因金属-金属接触和因磨损而导致的摩擦所致。密封可以例如要么经由设置在封闭板的封闭侧的密封件进行,要么经由在阀座上的密封环进行,其中所述密封件被挤压到环绕开口的阀座上,封闭板的封闭侧被压靠到密封环上。现有技术中(例如在US6,629,682B2( ...
【技术保护点】
1.一种真空阀,特别是真空调节阀,用于调节体积流或质量流和/或用于气密地中断流动路径,所述真空阀包括:‑阀座(3),其具有:‑限定了开口轴线(13)的阀开口(2),和‑周向围绕阀开口(2)的第一密封面,以及‑封闭元件(20,20’),其具有与所述第一密封面对应的第二密封面(22),特别地在所述密封面的路线和尺寸方面对应,其中‑所述第一密封面和/或所述第二密封面(22)具有至少双组分的材料复合物并且所述材料复合物具有金属支承体部件(31,41)和基于聚合物的密封材料(25,45),并且‑所述密封材料(25,45)以限定的轮廓、特别以沿着所述支承体部件的面法线上限定的高度沿着所述密封面路线施加、特别地被硬化到所述支承体部件(31,41)上,其特征在于,‑所述金属支承体部件(31,41)限定内部支承体区域(41a)和外部支承体区域(41b),‑所述金属支承体部件(31,41)在相应的密封面(32,22)的区域中具有多个延伸到所述内部支承体区域(41a)中的加深部(32a‑32f,42),其中每个所述加深部(32a‑32f,42)分别限定体积和深度(t),并且‑所述密封材料(25,45)被施加 ...
【技术特征摘要】
2017.01.16 EP 17151657.81.一种真空阀,特别是真空调节阀,用于调节体积流或质量流和/或用于气密地中断流动路径,所述真空阀包括:-阀座(3),其具有:-限定了开口轴线(13)的阀开口(2),和-周向围绕阀开口(2)的第一密封面,以及-封闭元件(20,20’),其具有与所述第一密封面对应的第二密封面(22),特别地在所述密封面的路线和尺寸方面对应,其中-所述第一密封面和/或所述第二密封面(22)具有至少双组分的材料复合物并且所述材料复合物具有金属支承体部件(31,41)和基于聚合物的密封材料(25,45),并且-所述密封材料(25,45)以限定的轮廓、特别以沿着所述支承体部件的面法线上限定的高度沿着所述密封面路线施加、特别地被硬化到所述支承体部件(31,41)上,其特征在于,-所述金属支承体部件(31,41)限定内部支承体区域(41a)和外部支承体区域(41b),-所述金属支承体部件(31,41)在相应的密封面(32,22)的区域中具有多个延伸到所述内部支承体区域(41a)中的加深部(32a-32f,42),其中每个所述加深部(32a-32f,42)分别限定体积和深度(t),并且-所述密封材料(25,45)被施加到所述支承体部件(31,41)上,使得-在所述外部支承体区域(41b)上提供所述密封材料(25,45)的限定轮廓,并且-所述密封材料(41’)的一部分至少延伸到所述支承体部件(31,41)的加深部(32a-32f,42)的一部分中并且将所述一部分加深部在体积和/或深度方面填充达到至少50%,特别地,其中所述双组分材料复合物根据按照权利要求12至14中任一项所述的方法来制造。2.根据权利要求1所述的真空阀,其特征在于,-在用所述密封材料(41’)填充其中一个或多数加深部(32a-32f,42)或特别是所有加深部(32a-32f,42)方面的填充度平均为至少50%、特别是至少75%或至少90%,和/或-由所述加深部(32a-32f,42)限定的体积的至少50%、特别是至少75%或至少90%被用密封材料填充到至少50%、特别是至少75%或至少90%。3.根据权利要求1或2所述的真空阀,其特征在于,在所述内部支承体区域中的加深部(32a-32f,42)中的至少一个、特别是多个或基本上所有加深部被成型为:-单侧限界的柱形凹进部(32a-32b),其具有限定的深度(t),或-单侧限界的柱形凹进部,其具有限定的深度(t),具有相对于所述凹进部直径增大的端部区域(32c),特别地具有椭圆形的端部体积,特别是存储体积,或-具有底切部的加深部(32e),或-具有随着深度增加而宽度减小或增加的锥形或楔形的加深部(32f)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的真空阀,其特征在于,所述加深部(32a-32f,42)中的至少一个特别是多个或基本上所有加深部:-在所述内部支承体区域中具有的深度(t)在200μm到500μm之间的范围内,特别是在300μm到400μm之间的范围内,和/或-特别地在其表面上具有内径(d),所述内径在80μm到200μm之间的范围内,特别地在100μm到130μm之间的范围内,和/或-在所述内部支承体区域中内以直径d与深度t的比例成型,所述比例为d:t<1:2,特别地d:t<1:3或d:t<1:4。5.根据权利要求1至4中任一项所述的真空阀,其特征在于,-多个所述加深部(32a-32f,42)的平均深度(t)在200μm到500μm之间的范围内,特别是在300μm到400μm之间的范围内,和/或-多个所述加深部(32a-32f,42)的平均内径(d)在80μm到200μm之间的范围内,特别在100μm到130μm之间的范围内,和/或-多个加深部(32a-32f,42)的内径d与深度t的平均比例为d:t<1:2,特别地设置为d:t<1:3或d:t<1:4。6.根据权利要求1至5中任一项所述的真空阀,其特征在于,-所述密封材料在所述支承体部件上的粘附基本上通过将所述密封材料(25,45)机械夹紧到所述加深部(32a-32f,42)中而提供,和/或-所述材料复合物不具有助粘剂。7.根据权利要求1至6中任一项所述的真空阀,其特征在于,相应相邻的加深部(32a-32f,42)的间距(a)、特别是从中点到中点的间距为100μm<a<250μm。8.根据权利要求1至7中任一项所述的真空阀,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:B·弗兰克,M·桑德克,M·莫德,J·柏斯特博纳,
申请(专利权)人:VAT控股公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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