基板搬运装置、基板搬运方法以及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板搬运装置、基板搬运方法以及基板处理装置，不需要在以浮起状态搬运的基板的上方设置较大的空间，就能够搬入或搬出基板。在本发明专利技术的基板搬运装置(1)中，在夹具(51)保持基板W搬运时，出口浮起载物台(33)和辊柱式输送机(41)处于比搬运的基板W的下表面更低的位置。当夹具(51)到达搬运结束位置时，则出口浮起载物台(33)和辊柱式输送机(41)上升，来使基板W与夹具(51)分离。通过使辊柱式输送机41旋转来搬出基板W。

Substrate conveying device, substrate conveying method and substrate processing device

The present invention relates to a substrate handling device, a substrate handling method, and a substrate treatment device, which does not require a larger space above the base of a substrate carried in a floating state, and can move or move out of the substrate. In the base plate handling device (1) of the invention, when the fixture (51) keeps the base plate W handling, the exit floating carrier (33) and the roller conveyor (41) are in a lower position than the lower surface of the base plate W that is moved than. When the jig (51) reaches the end of the moving position, the floating lifting platform (33) and the roller conveyor (41) rise to separate the substrate W from the clamp (51). The roller base conveyor 41 is rotated to remove the substrate W.

【技术实现步骤摘要】
基板搬运装置、基板搬运方法以及基板处理装置
本专利技术涉及一种一边借助来自基板的下方的浮力使该基板浮起一边沿着水平方向搬运该基板的基板搬运装置、以及对这样搬运的基板进行处理的基板处理装置。此外，上述基板包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机EL(ElectroLuminescence：电致发光)显示用基板、等离子显示用基板、FED(FieldEmissionDisplay，场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板等。
技术介绍
在半导体装置、液晶显示装置等电子部件等的制造工序中的搬运基板的技术中，在从基板的下方向基板提供浮力来使该基板浮起的状态下，进行搬运。这样的浮起搬运技术具有如下等优点：以非接触方式进行搬运，从而抑制来自机构部件的污染；能够一边通过控制浮力来补正基板的弯曲，一边以水平姿势进行搬运。因此，例如在大型基板的表面形成均匀的涂敷膜的基板处理装置中，存在应用该技术的例子。例如在专利文献1(日本特开2010－227850号公报)所记载的基板处理装置中，在水平的浮起载物台上使基板浮起，并且使保持基板的周边部的夹具沿着水平方向行进，从而搬运基板。而且，使配置于基板搬运路径的上方的狭缝喷嘴喷出涂敷液，由此在基板的上表面形成涂敷液的均匀的膜。在该现有技术的基板处理装置中，浮起载物台沿着基板搬运方向分割成多个。其中，在能够高精度地控制基板的高度(铅垂方向位置)的涂敷载物台，相向地配置有喷嘴。而且，对经过涂敷载物台与喷嘴之间的基板进行涂敷。涂敷后的基板搬运至与涂敷载物台相邻设置的涂敷后载物台，利用设置于涂敷后载物台的升降销，从涂敷后载物台抬起涂敷后的基板。搬运机械手手部进入这样完成的基板与载物台之间来搬出基板。在搬出或搬入基板时利用升降销抬起基板的结构中，需要在搬出或搬入时，在载置基板的载物台的上部确保较大的空间。然而，根据处理的多样化和装置的小型化的要求，难以确保这样的空间。因此，需要能够在高度方向上不使用较大的空间就能够搬入或搬出基板的技术。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述课题而提出的，其目的在于提供一种技术，不需要在以浮起状态搬运的基板的上方设置较大的空间，就能够搬入或搬出基板。为了实现所述目的，本专利技术的一方式的基板搬运装置，具有：搬运部，该搬运部的保持部位移动来搬运所述基板，所述保持部位保持基板的下表面的一部分；移载部，具有与所述基板抵接来赋予水平方向的推动力的抵接部位，所述移载部进行向所述搬运部搬入所述基板的动作以及从所述搬运部搬出所述基板的动作中的至少一种；切换部，通过变更所述搬运部的所述保持部位与所述移载部的所述基板抵接部位之间的相对高度，来在第一状态与第二状态之间进行切换；以及，浮起部，在所述第一状态和所述第二状态下，分别从所述基板的下方向所述基板提供浮力来使该基板浮起，从而将所述基板控制为水平姿势。在此，所述第一状态为，在比所述抵接部位与所述基板抵接的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述保持部位保持所述基板的状态，所述第二状态为，在比被所述保持部位保持的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述抵接部位与所述基板抵接的状态。另外，本专利技术的其它的方式的基板搬运方法，使保持基板的下表面的一部分的搬运部移动来搬运所述基板，从搬运的所述基板的下方提供浮力来控制所述基板的姿势，为了达到上述目的，在所述基板搬运方法中，在所述搬运部搬运所述基板的搬运路径上设置移载部，所述移载部与所述基板抵接来赋予水平方向的推动力，并且能够变更所述搬运部中的保持所述基板的保持部位与所述移载部中的与所述基板抵接的抵接部位之间的相对高度；在第一状态下，通过所述搬运部搬运所述基板，所述第一状态为，在比所述抵接部位与所述基板抵接的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述保持部位保持所述基板的状态；在第二状态下，进行向所述搬运部搬入所述基板的动作以及从所述搬运部搬出所述基板的动作中的至少一种，所述第二状态为，在比被所述保持部位保持的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述抵接部位与所述基板抵接的状态；而且，在所述第一状态和所述第二状态下，分别从所述基板的下方提供浮力来控制所述基板的姿势。在这样构成的方案中，在第一状态下，通过使搬运部的保持部位保持基板，来规定基板的铅垂方向位置，在第二状态下，通过使移载部的抵接部位与基板抵接，来规定基板的铅垂方向位置。无论在第一状态还是第二状态，都借助从下方提供的浮力来控制基板的姿势。即，在第一状态下，通过搬运部的保持部位规定基板的高度，借助来自下方的浮力来控制基板的姿势。因此，不需要将移载部用于基板的支撑。而且，能够在利用搬运部的保持和浮力的作用支撑基板的状态下，使搬运部移动来搬运基板。另一方面，在第二状态下，通过移载部的抵接部位规定基板的高度，借助来自下方的浮力来控制基板的姿势。因此，不需要将搬运部用于基板的支撑。而且，能够在利用移载部的抵接部位的抵接与浮力的作用支撑基板的状态下，借助移载部所提供的水平方向的推动力来搬运基板。能够通过变更搬运部的保持部位与移载部的抵接部位之间的相对的高度，来切换第一状态和第二状态。这里，在第一状态下，只要使基板与移载部的抵接部位稍微分离即可，相反，在第二状态下，只要使基板与搬运部的保持部位稍微分离即可。因此，能够使切换第一状态和第二状态所需的保持部位与抵接部位之间的相对的位移量也变得极其小。这样，根据本专利技术，通过在搬运部的保持部位与移载部的抵接部位之间稍微变更相对的铅垂方向位置，切换：通过搬运部搬运基板的状态；能够通过移载部向搬运部搬入基板或从搬运部搬出基板的状态。因此，不需要基板在高度方向上进行较大的位置变更，即使在基板的上下方向没有空间的情况下，也能够良好地进行搬入/搬出。另外，本专利技术的其它方式的基板处理装置，具有：上述结构的基板搬运装置；以及，喷出部，与由所述搬运部搬运的所述基板的上表面相向地配置，所述喷出部向基板喷出处理液。在这样构成的方案中，能够向以浮起状态搬运的基板喷出涂敷液，来在基板的表面均匀地涂敷涂敷液。在这样搬运的基板的上方配置有喷出部等处理机构的基板处理装置中，在搬入/搬出基板时，有时难以在基板的上方确保较大的空间。通过适用本专利技术的基板搬运装置的结构，不需要这样的空间。因此，能够在不使装置变大、控制变复杂的情况下，在基板搬运路径的上方设置各种处理机构。如上所述，根据本专利技术，通过在搬运部的保持部位与移载部的抵接部位之间稍微变更相对的铅垂方向位置，能够切换：通过搬运部搬运基板的状态；能够通过移载部向搬运部搬入基板或从搬运部搬出基板的状态。因此，在基板的搬运路径上，不需要基板在铅垂方向上进行较大的位置变更，即使在基板的上方没有较大的空间的情况下，也能够良好地搬入或搬出基板。附图说明图1是示意性地表示作为本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的涂敷装置的整体结构的图。图2是从铅垂上方观察涂敷装置的俯视图。图3是从图2取下涂敷机构后的俯视图。图4是图2的A－A线剖视图。图5A、图5B是表示升降驱动机构的结构的图。图6是表示该涂敷装置进行的涂敷处理的流程的流程图。图7A、图7B、图7C、图7D是示意性地表示处理过程中的各部的位置关系的图。图8A、图8B、图8C、图8D是示意性地表示处理过程中的各部的位置关系的图。图9A、图9本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板搬运装置，其特征在于，具有：搬运部，该搬运部的保持部位移动来搬运所述基板，所述保持部位对基板的下表面进行局部保持；移载部，具有与所述基板抵接并对所述基板施加水平方向的推动力的抵接部位，所述移载部进行向所述搬运部搬入所述基板的动作以及从所述搬运部搬出所述基板的动作中的至少一种；切换部，通过变更所述搬运部的所述保持部位与所述移载部的所述基板抵接部位之间的相对高度，来在第一状态与第二状态之间进行切换，所述第一状态为，在比所述抵接部位与所述基板抵接的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述保持部位保持所述基板的状态，所述第二状态为，在比被所述保持部位保持的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述抵接部位与所述基板抵接的状态；以及，浮起部，在所述第一状态和所述第二状态下，分别从所述基板的下方向所述基板提供浮力来使该基板浮起，从而将所述基板控制为水平姿势。

【技术特征摘要】
2017.01.11 JP 2017-0026831.一种基板搬运装置，其特征在于，具有：搬运部，该搬运部的保持部位移动来搬运所述基板，所述保持部位对基板的下表面进行局部保持；移载部，具有与所述基板抵接并对所述基板施加水平方向的推动力的抵接部位，所述移载部进行向所述搬运部搬入所述基板的动作以及从所述搬运部搬出所述基板的动作中的至少一种；切换部，通过变更所述搬运部的所述保持部位与所述移载部的所述基板抵接部位之间的相对高度，来在第一状态与第二状态之间进行切换，所述第一状态为，在比所述抵接部位与所述基板抵接的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述保持部位保持所述基板的状态，所述第二状态为，在比被所述保持部位保持的情况下的所述基板的位置更高的位置，所述抵接部位与所述基板抵接的状态；以及，浮起部，在所述第一状态和所述第二状态下，分别从所述基板的下方向所述基板提供浮力来使该基板浮起，从而将所述基板控制为水平姿势。2.根据权利要求1所述的基板搬运装置，其特征在于，所述浮起部具有：载物台，所述载物台的上表面与所述基板的下表面相向；浮力产生机构，通过使气体在所述载物台的上表面与所述基板的下表面之间流通，来向所述基板提供浮力；以及，升降机构，根据所述切换部的切换，使所述载物台进行升降。3.根据权利要求1或2所述的基板搬运装置，其特征在于，所述切换部通过使所述抵接部位进行升降，来切换所述第一状态和所述第二状态。4.根据权利要求1或2所述的基板搬运装置，其特征在于，所述切换部通过使所述保持部位进行升降，来切换所述第一状态和所述第二状态。5.根据权利要求1或2所述的基板搬运装置，其特征在于，所述移载部具有辊构件，所述辊构件一边与所述基板的下表面抵接一边旋转，向所述基板赋予所述推动力。6.一种基板处理装置，其特征在于，具有：权利要求1所述的基板搬运装置；以及，喷出部，与由所述搬运部搬运的所述基板的上表面相向地配置，所述喷出部向所述基板喷出处理液。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述浮起部具有：位置控制载物台，所述位置控制载物台的上表面与由所述搬运部搬运的所述基板的下表面相向，所述位置控制载物台控制所述基板的铅垂方向位置，转接载物台，...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻雅夫，池田文彦，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP