The present invention discloses a device for detecting a shadow level and a control method, including an optical element, a spectral detector, and a controller connected to a spectral detector of a spectral detector, which are used for incident light emitted by a light source to a pattern area. The reflected light of the pattern region is incident to the spectral detector, and the light emitted by the light source is incident to the channel region, and the reflected light in the channel area is incident to the spectral detector. The spectral detector is used to detect the light coordinates of the reflected light in the pattern region, and sends the light coordinates of the reflected light to the controller, and the detection of the pattern region. The light coordinates of the reflected light in the channel area are sent to the controller, and the controller is used to determine the shadow level of the substrate to be measured according to the light coordinates of the reflected light in the pattern area and the channel area. The device realizes the data representation of macroscopic phenomena and can accurately get the extinction level of the substrate to be measured.
【技术实现步骤摘要】
一种检测消影等级的装置及其控制方法
本专利技术涉及显示
,尤指一种检测消影等级的装置及其控制方法。
技术介绍
随着显示技术的不断发展,显示屏或触摸屏已经广泛应用于人们的生活中,其中,液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在市场中占据重要地位。有机电致发光器件(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,也已经被广泛应用于市场中。在显示
中,制作显示面板的过程中经常会用到透明薄膜材料,例如,氧化铟锡(Indiumtinoxide,ITO)是制作透明电极最常用的薄膜材料。ITO薄膜的制备过程是通过在一定真空度下,采用磁控溅射工艺将ITO材料沉积在衬底基板的表面形成ITO膜层。由于溅射(Sputter)过程是整面性镀膜,在衬底基板表面无法形成通道,继而需要通过刻蚀(Etch)工艺将ITO膜层刻蚀成多条通道,因而在ITO膜层上形成图案(Pattern)区(有ITO)和刻蚀槽区(无ITO)。由于ITO膜层的透光率通常为80%~90%,图案区和刻蚀槽区的反射率不一致会导致显示面板表面的纹路在视觉上明显可见。通常采用IM(IndexMargin)前消影技术和SION后消影技术尽量减少图案区与刻蚀槽区的差异,但是这两种方法依然无法完全消除基板表面的视觉差异,因此,在制作显示面板的过程中,检测ITO膜层的消影水平,以防止不合格产品的产出至关重要。然而,现有技术中,一般通过人眼比对产出的显示面板与样品的差异,来确定消影水平,这种检测 ...
【技术保护点】
1.一种检测消影等级的装置,其特征在于,包括:光源,位于所述光源的光学路径上的光学元件,光谱检测器,以及与所述光谱检测器电信号连接的控制器;其中,所述光学元件,用于将所述光源出射的光线入射至待测基板的图案区,并将所述图案区的反射光入射至所述光谱检测器,以及将所述光源出射的光线入射至所述待测基板的沟道区,并将所述沟道区的反射光入射至所述光谱检测器;所述图案区为具有透明材料的区域;所述光谱检测器,用于检测所述图案区的反射光的光坐标,并将所述图案区的反射光的光坐标发送至所述控制器,以及检测所述沟道区的反射光的光坐标,并将所述沟道区的反射光的光坐标发送至所述控制器;所述控制器,用于接收所述图案区和所述沟道区的反射光的光坐标,并根据所述图案区和所述沟道区的反射光的光坐标,确定所述待测基板的消影等级。
【技术特征摘要】
1.一种检测消影等级的装置,其特征在于,包括:光源,位于所述光源的光学路径上的光学元件,光谱检测器,以及与所述光谱检测器电信号连接的控制器;其中,所述光学元件,用于将所述光源出射的光线入射至待测基板的图案区,并将所述图案区的反射光入射至所述光谱检测器,以及将所述光源出射的光线入射至所述待测基板的沟道区,并将所述沟道区的反射光入射至所述光谱检测器;所述图案区为具有透明材料的区域;所述光谱检测器,用于检测所述图案区的反射光的光坐标,并将所述图案区的反射光的光坐标发送至所述控制器,以及检测所述沟道区的反射光的光坐标,并将所述沟道区的反射光的光坐标发送至所述控制器;所述控制器,用于接收所述图案区和所述沟道区的反射光的光坐标,并根据所述图案区和所述沟道区的反射光的光坐标,确定所述待测基板的消影等级。2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:图像采集器;所述光学元件,用于将所述反射光分为第一光束和第二光束,并将所述第一光束入射至所述光谱检测器,以及将所述第二光束入射至所述图像采集器;所述图像采集器,用于获取所述反射光的反射位置对应的部分所述待测基板的图像。3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,还包括:位置控制器;所述位置控制器与所述光学元件固定连接,用于移动所述光学元件。4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述位置控制器,包括:用于控制所述光学元件的移动方向的按键。5.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述光学元件,包括:第一半透半反镜,以及位于所述第一半透半反镜透...
【专利技术属性】
技术研发人员:阳清,孟庆超,杨文娟,谈宜川,马力,王若鹏,尹奇,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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