The invention relates to a cleaning method and a device for a mask plate. The cleaning method of the mask plate includes the following steps: the mask plate to be cleaned is soaked in ultrasonic immersion, and the mask plate after the organic cleaning agent is soaked and cleaned with organic cleaning agent for spray cleaning, and the first ultrasonic pure water is carried out by the mask board after the spray cleaning by the organic cleaning agent. The first ultrasonic pure water was washed in the electrolyte for electrolysis, and second ultrasonic pure water cleaning was carried out by the mask after electrolysis. The cleaning method of the masking board can basically remove the tiny particles precipitated on the surface of the mask plate, thereby improving the good rate of evaporation.
【技术实现步骤摘要】
掩膜板的清洗方法及装置
本专利技术涉及电子半导体元器件制造领域,特别是涉及一种掩膜板的清洗方法及装置。
技术介绍
有机电致发光显示器件(OLED)作为平板显示器的一大分支,具有面板厚度薄(小于2mm)、自发光、低操作电压(3V~10V)、可制作大尺寸面板及制程简单等特性,成为极具潜力的一项平面显示技术。在制作有机小分子发光二极管的过程中,目前大多采用的技术是真空蒸镀,在OLED器件蒸镀过程中,要用到掩膜板。掩膜板是指在镀膜工艺中,具有一定开口图案,用来实现特定区域镀膜图案的结构。一旦所使用的掩膜板受到污染,就会对图案造成非常不利的影响。所以需要对蒸镀掩膜板进行彻底的清洗,以保证良品率。传统的掩膜板的清洗方法为:先在纯净的能够溶解蒸镀有机材料的有机溶剂中浸泡,再放进纯水中浸泡。由于掩膜板的表面残留有蒸镀有机材料,残留有蒸镀有机材料的掩膜板在纯净的有机溶剂中浸泡之后,蒸镀有机材料能够溶解在有机溶剂中。将掩膜板从有机溶剂中拿出来之后,掩膜板的表面会留有溶解蒸镀有机材料的有机溶剂。然而,之后再将掩膜板放进纯水中浸泡时,有机溶剂遇水会将溶解在其内部的有机材料析出,从而在掩膜板上形成微小颗粒,而影响蒸镀的良品率,不利于应用。
技术实现思路
基于此,有必要针对传统的掩膜板的清洗方法影响蒸镀的良品率的问题,提供一种能够提高蒸镀的良品率的掩膜板的清洗方法。一种掩膜板的清洗方法,包括如下步骤:将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超声浸泡清洗;将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行喷淋清洗;将喷淋清洗后的掩膜板进行第一次超声纯水清洗;将第一次超声纯水清洗后的掩膜板放入电解液中进 ...
【技术保护点】
1.一种掩膜板的清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超声浸泡清洗;将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行喷淋清洗;将喷淋清洗后的掩膜板进行第一次超声纯水清洗;将第一次超声纯水清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理;以及将电解处理后的掩膜板进行第二次超声纯水清洗。
【技术特征摘要】
1.一种掩膜板的清洗方法,其特征在于,包括如下步骤:将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超声浸泡清洗;将浸泡清洗后的掩膜板采用所述有机清洗剂进行喷淋清洗;将喷淋清洗后的掩膜板进行第一次超声纯水清洗;将第一次超声纯水清洗后的掩膜板放入电解液中进行电解处理;以及将电解处理后的掩膜板进行第二次超声纯水清洗。2.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法,其特征在于,所述有机清洗剂为N-甲基吡咯烷酮。3.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法,其特征在于,将待清洗的掩膜板放入有机清洗剂中进行超声浸泡清洗的操作为:将待清洗的掩膜板先后放入均盛有有机清洗剂的第一超声浸泡槽、第二超声浸泡槽和第三超声浸泡槽,进行超声浸泡清洗。4.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法,其特征在于,将所述掩膜板采用所述有机清洗剂进行喷淋清洗的操作为:将所述掩膜板竖直放在有机清洗剂超声喷淋单元中,采用喷淋清洗设备均匀喷淋所述掩膜板的两个表面。5.根据权利要求1所述的掩膜板的清洗方法,其特征在于,将经过电解处理后的掩膜板进行第二次超声纯水清洗的操作为:将经过电解处理后的掩膜板先后放入第一纯水清洗槽、第二纯水清洗槽和第三纯水清洗槽,进行第二次超声纯水清洗。6....
【专利技术属性】
技术研发人员:彭兆基,蒋明华,
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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