一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，属于瓷砖浇淋上釉技术领域，包括泵体、圆盘、输送线，所述泵体用于输送釉浆，所述圆盘上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘上还设置有一外形呈弧状的凸台，所述凸台位于所述泵体输出端的下方，所述输送线用于传输瓷砖，所述输送线位于所述圆盘的下方，这样本技术方案通过泵体输送釉浆到凸台上，釉浆通过凸台流至圆盘的外表面，进而流至位于圆盘下方的输送线上的瓷砖上，由于本技术方案的圆盘上设置有一向上拱起的弧面，从而可以实现瓷砖均匀浇淋上釉，不仅结构简单、性能好、效率高，而且无形中也降低了厂家的生产成本，从而增强了生产厂家的市场竞争力。

【技术实现步骤摘要】
一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构
本技术属于瓷砖浇淋上釉
，尤其涉及一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构。
技术介绍
目前，现有技术的瓷砖浇淋上釉产线机构在瓷砖浇淋上釉时，会出现浇淋上釉不均匀的情况发生，或者现有技术通过人工进行瓷砖浇淋上釉，但是需要耗费大量的人力，无形中增加了厂家的生产成本，从而降低了生产厂家的市场竞争力。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术的目的在于提供一种结构简单、性能好、效率高的瓷砖均匀浇淋上釉产线机构。本技术为解决其技术问题而采用的技术方案是：一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，包括：泵体，所述泵体用于输送釉浆；圆盘，所述圆盘上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘上还设置有一外形呈弧状的凸台，所述凸台位于所述泵体输出端的下方；输送线，所述输送线用于传输瓷砖，所述输送线位于所述圆盘的下方。作为上述技术方案的改进，所述圆盘上还设置有一条软性挡块，所述软性挡块能够与所述凸台的外侧壁相抵接，且所述软性挡块的两端分别对应延伸至所述输送线的两侧。优选地，所述凸台上设置有带缺口的圆形挡块，所述圆形挡块在对应缺口的一侧外周还设置有一半圆形挡块，所述半圆形挡块内壁与圆形挡块外壁之间形成用于有用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，其特征在于，包括：泵体(10)，所述泵体(10)用于输送釉浆；圆盘(20)，所述圆盘(20)上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘(20)上还设置有一外形呈弧状的凸台(21)，所述凸台(21)位于所述泵体(10)输出端的下方；输送线(30)，所述输送线(30)用于传输瓷砖(31)，所述输送线(30)位于所述圆盘(20)的下方。

【技术特征摘要】
1.一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，其特征在于，包括：泵体(10)，所述泵体(10)用于输送釉浆；圆盘(20)，所述圆盘(20)上设置有一向上拱起的弧面，所述圆盘(20)上还设置有一外形呈弧状的凸台(21)，所述凸台(21)位于所述泵体(10)输出端的下方；输送线(30)，所述输送线(30)用于传输瓷砖(31)，所述输送线(30)位于所述圆盘(20)的下方。2.根据权利要求1所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，其特征在于：所述圆盘(20)上还设置有一条软性挡块(40)，所述软性挡块(40)能够与所述凸台(21)的外侧壁相抵接，且所述软性挡块(40)的两端分别对应延伸至所述输送线(30)的两侧。3.根据权利要求2所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，其特征在于：所述凸台(21)上设置有带缺口的圆形挡块(21A)，所述圆形挡块(21A)在对应缺口的一侧外周还设置有一半圆形挡块(21B)，所述半圆形挡块(21B)内壁与圆形挡块(21A)外壁之间形成用于有用于承接泵体(10)输出的釉浆的第一釉浆流道(22)。4.根据权利要求3所述的一种瓷砖均匀浇淋上釉产线机构，其特征在于：所述输送...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵国涛，
申请(专利权)人：恩平市一箭陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44