除静电装置及除静电方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种除静电装置，能够根据基板主面的各区域适当地降低基板主面上积累的电荷的量。除静电装置(10)对带静电基板(W1)进行降低带静电量的处理。除静电装置(10)具有基板保持机构(1)和紫外线照射机构(2)。基板保持机构(1)保持基板(W1)。紫外线照射机构(2)能够以对基板(W1)的主面进行划分而成的多个区域互不相同的照射量对基板的主面照射紫外线。

Removal of electrostatic and electrostatic methods

The invention provides an electrostatic eliminating device, which can appropriately reduce the amount of electric charge accumulated on the main surface of the substrate according to the regions of the main surface of the substrate. In addition to the electrostatic device (10), the electrostatic discharge substrate (W1) is applied to reduce the electrostatic quantity. The electrostatic removal device (10) has a substrate holding mechanism (1) and an ultraviolet irradiation mechanism (2). The substrate holding mechanism (1) holds a substrate (W1). The ultraviolet irradiation mechanism (2) can irradiate ultraviolet rays on the main surface of the substrate by dividing the different faces of different regions of the substrate (W1).

【技术实现步骤摘要】
除静电装置及除静电方法
本专利技术涉及除静电装置及除静电方法。
技术介绍
以往，在半导体基板(以下，简称“基板”)的制造工序中，利用基板处理装置对具有氧化膜等绝缘膜的基板进行各种处理。例如，通过对在表面上形成有抗蚀剂图案的基板供给处理液，从而对基板的表面进行蚀刻等处理。此外，蚀刻等结束后，还进行用于除去基板上的抗蚀剂的处理。对由基板处理装置处理的基板，在被搬入基板处理装置前进行干式蚀刻、等离子体CVD(ChemicalVaporDeposition：化学气相沉淀)等干式工序。在这样的干式工序中，由于器件内产生电荷而带静电，因此基板以带静电状态被搬入基板处理装置(即所谓的携入带静电)。并且，在基板处理装置中，当对基板上供给如SPM液那样的电阻率较小的处理液时，器件内的电荷从器件向处理液急剧移动(即，向处理液中放电)，伴随该移动的发热可能会导致器件发生损坏。因此，通常使用除静电装置(例如专利文献1)。该除静电装置具有一对放电针，通过对该一对放电针施加电压而生成离子，将包含该离子的空气向除静电对象物供给。此外，在该除静电装置中设置有表面测量计，该表面测量计对除静电对象物的一处测量表面电位。除静电装置基于这一处的表面电位来控制向一对放电针施加的电压。由此，能够将包含与表面电位对应的适当离子的空气供给到除静电对象物。此外，通常也使用具有紫外线的除静电装置。该除静电装置通过对基板照射紫外线来进行除静电处理。另外，专利文献2、3也公开了作为与本专利技术关联的技术。专利文献1：日本特开2012-186148号公报专利文献2：日本特开2009-158375号公报专利文献3：日本特开平11-329783号公报图28是概略地示出基板的主面上的表面电位的分布的一例的图。图28示出紫外线照射前的表面电位的分布V1、紫外线照射后的表面电位的分布V2以及分布V2的平均分布V3。图29是概略地示出基板的主面的中心附近的表面电位随时间变化的一例的图。在图28及图29的例子中，紫外线照射前，表面电位为负值。这意味着基板的主面上积累负电荷。在紫外线照射前的分布V1中，表面电位在基板的主面的中央附近较低，随着朝向基板的周缘而增大。即，表面电位的绝对值(以下，称为带静电量)在基板的主面的中央附近较大，随着朝向基板的周缘而降低。表面电位的分布V1具有盘状的形状。通过对基板的主面照射紫外线，表面电位随着时间的推移而增大(即，带静电量降低)。即，电荷被除去。然而，如图28所示，在紫外线照射后，该表面电位根据主面上的位置为正值或负值。具体而言，就表面电位的分布V3(空心方块)而言，在基板的主面的周缘附近为负值，但在中央附近为正值。这意味着基板的主面在中央附近带正电。即，在对基板的主面一律照射了紫外线的情况下，基板的主面上的表面电位并未收敛为零，而是根据基板的主面的位置，残留负电荷，或积累正电荷。因此，即使对基板的主面一律照射紫外线，也不能在基板的主面的整个区域内均匀地降低表面电位。以往，这一现象是未知的，由本申请的申请人首次证实。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种除静电装置，其能够根据基板的主面的各区域来适当减低基板的主面上所积累的电荷的量。为了解决上述问题，除静电装置的第一技术方案是一种除静电装置，对基板进行除去电荷的处理，具有基板保持机构和紫外线照射机构。基板保持机构保持基板。紫外线照射机构能够以对基板的多个区域以多个区域彼此间互不相同的照射量照射紫外线，多个区域是对基板的主面进行划分而形成的。除静电装置的第二技术方案，根据第一技术方案的除静电装置，从紫外线照射机构对多个区域照射的紫外线的照射量能够改变。除静电装置还具有多个表面电位测量机构和照射量控制机构。多个表面电位测量机构分别测量该多个区域内的表面电位。照射量控制机构根据由多个表面电位测量机构测量的表面电位，控制多个区域各自的照射量。除静电装置的第三技术方案，根据第一或第二技术方案的除静电装置，紫外线照射机构具有多个单位照射机构。多个单位照射机构分别对多个区域照射紫外线。除静电装置的第四技术方案，根据第二技术方案的除静电装置，具有控制紫外线照射机构的紫外线控制机构。紫外线照射机构具有多个单位照射机构。多个单位照射机构分别对多个区域照射紫外线。在所述紫外线照射机构照射紫外线的过程中，多个表面电位测量机构测量基板的主面的表面电位。紫外线控制机构对由多个表面电位测量机构中的一个表面电位测量机构测量的多个区域中的一个区域的表面电位的绝对值是否低于基准值进行判断，紫外线控制机构在判断为多个区域中的一个区域的表面电位的绝对值低于基准值时，使多个单位照射机构中的与多个区域中的一个区域对应的单位照射机构停止照射。除静电装置的第五技术方案，根据第三或第四技术方案的除静电装置，多个单位照射机构呈直径互不相同的圆弧状或环状的形状，并且多个单位照射机构配置为同心圆状。除静电装置的第六技术方案，根据第三或第四技术方案的除静电装置，还具有旋转机构。该旋转机构使基板保持机构以与基板的主面垂直的轴作为旋转轴进行旋转。多个单位照射机构具有沿着与基板的主面平行的第一方向延伸的棒状的形状，并且沿与基板的主面平行且与第一方向垂直的第二方向排列配置。除静电装置的第七技术方案，根据第三至第六中任一技术方案的除静电装置，还具有开关控制机构。开关控制机构对多个单位照射机构中的每个单位照射机构照射紫外线及停止照射进行切换，来控制对多个区域中的每个区域的紫外线的照射量。除静电装置的第八技术方案，根据第三至第七中任一技术方案的除静电装置，还具有强度控制机构。强度控制机构控制多个单位照射机构，来控制从多个单位照射机构中的每个单位照射机构照射的紫外线的强度。除静电装置的第九技术方案，根据第二技术方案的除静电装置，还具有第一移动机构、旋转机构和速度控制机构。第一移动机构使紫外线照射机构及基板保持机构在沿基板的主面的方向上相对移动。旋转机构使基板保持机构以与基板的主面垂直的轴作为旋转轴进行旋转。速度控制机构控制第一移动机构，基于由多个表面电位测量机构测量的表面电位，控制紫外线照射机构与基板保持机构之间的相对移动速度的图案。除静电装置的第十技术方案，根据第九技术方案的除静电装置，还具有第二移动机构。第二移动机构使多个表面电位测量机构和基板保持机构在多个表面电位测量机构与基板的主面相对的位置和多个表面电位测量机构不与基板的主面相对的位置之间相对移动。除静电方法的第十一技术方案是一种降低带静电基板的带静电量的除静电方法，包括第一工序和第二工序。在第一工序中，将基板配置在基板保持机构。在第二工序中，紫外线照射机构以对基板的多个区域以所述多个区域彼此间互不相同的照射量照射紫外线，多个区域是对基板的主面进行划分而形成的。除静电方法的第十二技术方案，根据第十一技术方案的除静电方法，第二工序包括：使紫外线照射器所具有的多个单位照射机构开始分别对多个区域照射紫外线的工序；在由紫外线照射机构照射紫外线的过程中，多个表面电位测量机构测量基板的主面的表面电位的工序；判断由多个表面电位测量机构中的一个表面电位测量机构所测量的多个区域中的一个区域的表面电位的绝对值是否低于基准值的工序；以及在判断为多个区域中的一个区域的表面电位的绝对值低于基准值时，使多个单位照射机构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种除静电装置，对带静电的基板进行降低带静电量的处理，其特征在于，具有：基板保持机构，保持基板；以及紫外线照射机构，能够对基板的多个区域以所述多个区域彼此间互不相同的照射量照射紫外线，所述多个区域是对基板的主面进行划分而形成的。

【技术特征摘要】
2016.12.28 JP 2016-2552821.一种除静电装置，对带静电的基板进行降低带静电量的处理，其特征在于，具有：基板保持机构，保持基板；以及紫外线照射机构，能够对基板的多个区域以所述多个区域彼此间互不相同的照射量照射紫外线，所述多个区域是对基板的主面进行划分而形成的。2.根据权利要求1所述的除静电装置，其特征在于，从所述紫外线照射机构对所述多个区域照射的紫外线的照射量能够改变，所述除静电装置还具有：多个表面电位测量机构，分别测量所述多个区域内的表面电位；以及照射量控制机构，根据由所述多个表面电位测量机构测量的表面电位，控制所述多个区域各自的照射量。3.根据权利要求1或2所述的除静电装置，其特征在于，所述紫外线照射机构具有多个单位照射机构，所述多个单位照射机构分别对所述多个区域照射紫外线。4.根据权利要求2所述的除静电装置，其特征在于，该除静电装置具有对所述紫外线照射机构进行控制的紫外线控制机构，所述紫外线照射机构具有多个单位照射机构，所述多个单位照射机构分别对所述多个区域照射紫外线，在所述紫外线照射机构照射紫外线的过程中，所述多个表面电位测量机构测量基板的主面的表面电位，所述紫外线控制机构对由所述多个表面电位测量机构中的一个表面电位测量机构测量的所述多个区域中的一个区域的表面电位的绝对值是否低于基准值进行判断，所述紫外线控制机构在判断为所述多个区域中的所述一个区域的表面电位的绝对值低于所述基准值时，使所述多个单位照射机构中的与所述多个区域中的所述一个区域对应的单位照射机构停止照射。5.根据权利要求3所述的除静电装置，其特征在于，所述多个单位照射机构呈直径互不相同的圆弧状或环状的形状，并且所述多个单位照射机构配置为同心圆状。6.根据权利要求3所述的除静电装置，其特征在于，该除静电装置还具有旋转机构，该旋转机构使所述基板保持机构以与基板的主面垂直的轴作为旋转轴进行旋转，所述多个单位照射机构具有沿着与基板的主面平行的第一方向延伸的棒状的形状，并且沿与基板的主面平行且与所述第一方向垂直的第二方向排列配置。7.根据权利要求3所述的除静电装置，其特征在于，该除静电装置还具有开关控制机构，该开关控制机构对所述多个单位照射机构中的每个单位照射机构照射紫外线及停止照射进行切换，来控制对所述多个区域中的每个区域的紫外线的照射量。8.根据权利要求3所述的除静电装置，其特征在于，该除静电装置还具有强度控制机构，该强度控制机构控制所述多个单位照射机构，来控制从所述多个单位照射机构中的每个单位照射机构照射的紫外线的强度。9.根据权利要求2所述的除静电装置，其特征在于，该除静电装置还具有：第一移动机构，使所述紫外线照射机构及所述基板保持机构在沿基板的主面的方向上相对移动；旋转机构，使所述基板保持机构以与基板的主面垂直的轴作为旋转轴进行旋转；以及速度控制机构，控制所述第一移动机构，基于由所述多个表面电位测量机构测量的表面电位，控制所述紫外线照射机构与所述基板保持机构之间的相对移动速度的图案。10.根据权利要求9所述的除静电装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：田中孝佳，阿野诚士，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本,JP