蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法，其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备：蒸镀掩模(20)，其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22)；和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15)，该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60)，多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列，在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法
本专利技术涉及在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中所使用的蒸镀掩模装置、和该蒸镀掩模装置的制造方法。
技术介绍
近年，对于在智能手机或平板电脑等可移动设备中使用的显示装置，要求高精细化，例如要求像素密度为400ppi以上。另外，即使对于可移动设备，应对超全高清的需要也在不断高涨，这种情况下，要求显示装置的像素密度为例如800ppi以上。在显示装置中，由于响应性良好、能耗低且对比度高，有机EL显示装置正在受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知这样的方法：使用包含有以所希望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以所希望的图案形成像素。具体来说，首先，将有机EL显示装置用的基板(有机EL基板)放入蒸镀装置中，接下来，在蒸镀装置内使蒸镀掩模紧密贴合于有机EL基板，执行使有机材料蒸镀于有机EL基板上的蒸镀工序。在使用蒸镀掩模来使蒸镀材料在被蒸镀基板上成膜的情况下，蒸镀材料不仅附着于基板上，也附着于蒸镀掩模上。例如，在蒸镀材料中，也存在沿着相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料，但这样的蒸镀材料在到达被蒸镀基板之前会到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上。这种情况下，在被蒸镀基板的位于蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的区域中，蒸镀材料难以附着，其结果是，可以想到：附着的蒸镀材料的厚度比其它部分小，或者产生未附着蒸镀材料的部分。即，可以认为，蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的蒸镀变得不稳定。因此，在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下，像素的尺寸精度或位置精度低下，其结果是，有机EL显示装置的发光效率变得低下。作为能够解决这样的问题的蒸镀掩模的一例，可以列举出JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模。JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模是利用镀覆处理而制造出来的。首先，在绝缘性的基板上形成导电性图案，然后利用电镀法在导电性图案上形成第1金属层。接下来，在第1金属层上形成具有开口的抗蚀剂图案，利用电镀法在该开口内形成第2金属层。然后，将抗蚀剂图案、导电性图案和基板除去，由此得到具有第1金属层和第2金属层的蒸镀掩模。在JP2016-148112A所公开的技术中，由于利用镀覆处理来制造蒸镀掩模，因此具有可得到厚度薄的蒸镀掩模这样的优点。通过厚度薄的蒸镀掩模，能够降低从相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料中的、到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上的蒸镀材料的比例。即，能够使从相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料恰当地附着于在蒸镀掩模的贯通孔内露出的被蒸镀基板上。因此，在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下，具有能够有效防止下述情况的优点：像素的尺寸精度和位置精度低下而导致有机EL显示装置的发光效率低下。在JP2016-148112A所公开的技术中，在利用镀覆处理制造出蒸镀掩模后，将该蒸镀掩模安装于框架而制造出蒸镀掩模装置。此时，蒸镀掩模装置的框架将蒸镀掩模保持成张紧的状态。即，在固定于框架的状态下，对蒸镀掩模赋予有张力。由此，抑制了在蒸镀掩模上产生挠曲的情况。可是，发现了下述问题：由于对厚度薄的蒸镀掩模赋予张力，而在该蒸镀掩模上产生皱褶或变形。另外，在JP2016-148112A所公开的技术中，通过镀覆处理在基板上形成金属层后，将该金属层从基板剥离，由此由该金属层制造出蒸镀掩模。这种情况下，在将金属层从基板剥离时，由于对金属层赋予张力而局部地产生较高的应力，由此，还存在在剥离出的蒸镀掩模上产生皱褶或变形这样的担忧。
技术实现思路
本专利技术是考虑了这样的问题而完成的，目的在于提供能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形的蒸镀掩模装置和该蒸镀掩模装置的制造方法。本专利技术的蒸镀掩模装置具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，所述蒸镀掩模装置具有使所述蒸镀掩模和所述框架互相接合的多个接合部，所述多个接合部沿着所述蒸镀掩模的外缘排列，在所述蒸镀掩模的所述外缘上的与相邻的两个所述接合部之间对应的位置处形成有切口。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，所述蒸镀掩模具有位于相邻的两个所述切口之间的接合片，在所述外缘上，所述切口沿着所述外缘的延伸方向具有第1宽度，所述接合片沿着所述外缘的延伸方向具有第2宽度，所述第1宽度大于所述第2宽度。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，在俯视观察所述蒸镀掩模时，所述切口延伸成超过所述框架的内缘。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，在俯视观察时，所述蒸镀掩模具有多边形形状，沿着构成所述多边形的一条边形成有多个所述切口。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，所述蒸镀掩模装置具有多个所述切口，多个所述切口包含在俯视观察所述蒸镀掩模时具有互不相同的形状和/或尺寸的两个切口。本专利技术的蒸镀掩模装置具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，所述蒸镀掩模装置具有使所述蒸镀掩模和所述框架互相接合的多个接合部，所述多个接合部沿着所述蒸镀掩模的外缘排列，所述蒸镀掩模在所述多个接合部与所述有效区域之间具有在俯视观察时与所述框架的内缘重合的多个第2贯通孔，各第2贯通孔被配置在与相邻的两个所述接合部之间对应的位置。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，在俯视观察时与所述框架的内缘重合的区域中，所述第2贯通孔沿着所述内缘的延伸方向具有第3宽度，位于在所述内缘的延伸方向上相邻的两个所述第2贯通孔之间的所述蒸镀掩模的金属层沿着所述内缘的延伸方向具有第4宽度，所述第3宽度大于所述第4宽度。在本专利技术的蒸镀掩模装置中，可以是，所述蒸镀掩模在所述多个接合部与所述有效区域之间具有在俯视观察时不与所述框架重合的多个第3贯通孔。关于本专利技术的蒸镀掩模装置的制造方法，所述蒸镀掩模装置具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，其中，所述蒸镀掩模装置的制造方法具有：接合工序，将具有基材、导电性图案以及金属层的层叠体的所述金属层通过多个接合部接合于框架，所述导电性图案被设置于所述基材上，所述金属层被设置于所述导电性图案的与所述基材相反的一侧；和分离工序，蚀刻去除所述导电性图案而使所述基材从所述金属层分离，由所述金属层形成所述蒸镀掩模。在本专利技术的蒸镀掩模装置的制造方法中，可以是，使所述多个接合部沿着所述金属层的外缘排列，在所述金属层的所述外缘上的与在所述多个接合部的排列方向上相邻的两个所述接合部之间对应的位置处形成切口。在本专利技术的蒸镀掩模装置的制造方法中，可以是，使所述多个接合部沿着所述金属层的外缘排列，使所述金属层在所述多个接合部与所述有效区域之间具有在俯视观察时与所述框架的内缘重合的多个第2贯通孔，将各第2贯通孔配置于与在所述多个接合部的排列方向上相邻的两个所述接合部之间对应的位置处。根据本专利技术，能够提供可抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形的蒸镀掩模装置和该蒸镀掩模装置的制造方法。附图说明图1是用于说明本专利技术的一个实施方式的图，并且是概要性地示出蒸镀掩模装置的一例的俯视图。图2是用于说明使用了图1所示的蒸镀掩模装置的蒸镀方法的图。图3是示出图1所示的蒸镀掩模装置的部分俯视图。图4是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩模装置，其具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模装置具有使所述蒸镀掩模和所述框架互相接合的多个接合部，所述多个接合部沿着所述蒸镀掩模的外缘排列，在所述蒸镀掩模的所述外缘上的与相邻的两个所述接合部之间对应的位置处形成有切口。

【技术特征摘要】
2016.12.14 JP 2016-242400;2017.11.17 JP 2017-222061.一种蒸镀掩模装置，其具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模装置具有使所述蒸镀掩模和所述框架互相接合的多个接合部，所述多个接合部沿着所述蒸镀掩模的外缘排列，在所述蒸镀掩模的所述外缘上的与相邻的两个所述接合部之间对应的位置处形成有切口。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模装置，其特征在于，所述蒸镀掩模具有位于相邻的两个所述切口之间的接合片，在所述外缘上，所述切口沿着所述外缘的延伸方向具有第1宽度，所述接合片沿着所述外缘的延伸方向具有第2宽度，所述第1宽度大于所述第2宽度。3.根据权利要求1所述的蒸镀掩模装置，其特征在于，在俯视观察所述蒸镀掩模时，所述切口延伸成超过所述框架的内缘。4.根据权利要求1所述的蒸镀掩模装置，其特征在于，在俯视观察时，所述蒸镀掩模具有多边形形状，沿着构成所述多边形的一条边形成有多个所述切口。5.根据权利要求1所述的蒸镀掩模装置，其特征在于，所述蒸镀掩模装置具有多个所述切口，多个所述切口包含在俯视观察所述蒸镀掩模时具有互不相同的形状和/或尺寸的两个切口。6.一种蒸镀掩模装置，其具备：蒸镀掩模，其具有配置有多个第1贯通孔的有效区域；和框架，其被安装于所述蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模装置具有使所述蒸镀掩模和所述框架互相接合的多个接合部，所述多个接合部沿着所述蒸镀掩模的外缘排列，所述蒸镀掩模在所述多个接合部与所述有效区域之间具有在俯视观察时与所述框架的内缘重合的多...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村友祐，冈本英介，牛草昌人，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP