清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板清洗技术领域，公开的一种清洗装置包括用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构，与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。由此，该清洗装置通过多个清洗环节对待清洗基板进行清洗，能够彻底洗净基板表面残余的抛光液，提高了基板的良率，避免因基板上残留抛光液而导致有机电致发光器件使用效果变差。

Cleaning device

The invention relates to the technical field of substrate cleaning. A cleaning device includes an ultrasonic cleaning unit, a liquid cleaning unit, a two fluid cleaning unit, a pure water cleaning unit set in the first direction, which are arranged in a first direction and are arranged in a first direction and are arranged in a first direction. And the drying unit. Therefore, the cleaning device can clean the cleaning substrate through a plurality of cleaning links, thoroughly rinse the residual polishing liquid on the surface of the substrate, improve the good rate of the substrate, and avoid the poor use of the organic electroluminescent device due to the residual polishing liquid on the substrate.

【技术实现步骤摘要】
清洗装置
本专利技术涉及基板清洗
，具体涉及一种清洗装置。
技术介绍
随着信息技术的发展，有机电致发光器件因其具有高对比度、广视角、低功耗、体积薄等优点，已成为目前平板显示技术中最受关注的技术之一。在制造有机电致发光器件的过程中，为了使得有机电致发光器件基板平坦化，通常会对其进行化学机械抛光(CMP)工艺处理。化学机械抛光工艺是利用了磨损中的“软磨硬”原理，首先在待抛光基板上形成一层抛光液液体薄膜，抛光液中的化学成分与基板表面材料发生化学反应，将不溶的物质转化为易溶物质，或者将硬度高的物质进行软化，然后通过磨粒的微机械摩擦作用将这些化学反应物从基板表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学去膜和机械去膜交替过程中实现抛光的目的。抛光后的基板表面具有残留的抛光液，需要对其进行清洗后才能使用。目前对抛光后的基板进行清洗的方式一般是采用成本最低的纯水清洗，但是仅通过纯水清洗无法彻底洗净基板表面残余的抛光液，进而大大降低了基板的良率以及有机电致发光器件的使用效果。
技术实现思路
为此，本专利技术所要解决的技术问题是如何解决抛光后基板表面的抛光液残留。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案如下：本专利技术提供了一种清洗装置，包括：用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构；与所述输送机构相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元、药液清洗单元、二流体清洗单元、纯水清洗单元以及干燥单元。可选地，所述输送机构包括：传送件，用于放置所述待清洗基板；驱动件，与所述传送件连接，用于驱动所述传送件运转。可选地，所述传送件包括沿所述第一方向间隔排列的输送辊。可选地，所述传送件为传送带。可选地，在所述超声波清洗单元和所述药液清洗单元之间还设置有鼓泡清洗单元。可选地，在所述超声波清洗单元前还设置有纯水浸泡单元。可选地，所述干燥单元包括风刀以及与之相连的储气件。可选地，所述药液清洗单元、所述二流体清洗单元以及所述纯水清洗单元中均设有喷淋组件。可选地，所述喷淋组件包括：喷嘴，用于喷洒所述药液清洗单元、所述二流体清洗单元以及所述纯水清洗单元中的处理液；流量调节件，与所述喷嘴连接，用于调节所述喷嘴的喷洒量。可选地，所述喷淋组件还包括：角度调节件，与所述喷嘴连接，用于调节所述喷嘴的喷洒角度。本专利技术的技术方案，具有如下优点：本专利技术提供的清洗装置，待清洗基板在输送机构的输送下，分别通过超声波清洗单元、药液清洗单元和二流体清洗单元经过清洗之后，再通过纯水清洗单元进行纯水清洗，最后经干燥单元对清洗后的基板进行干燥处理。由此，该清洗装置通过多个清洗环节对待清洗基板进行清洗，能够彻底洗净基板表面残余的抛光液，提高了基板的良率，避免因基板上残留抛光液而导致有机电致发光器件使用效果变差。另外，超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离，从而达到清洗的目的。采用超声波清洗技术对基板进行清洗，清洗速度快，并保证了良好的清洗效果，清洁度高且待清洗基板各部位的清洁度能够保持一致。本专利技术提供的清洗装置，输送机构包括用于放置待清洗基板的传送件和用于驱动传送件运转的驱动件。由此，在驱动件的驱动作用下，传送件带动待清洗基板依次经过各个清洗单元进行清洗，提高了清洗装置的自动化程度以及使用便捷性。本专利技术提供的清洗装置，传送件包括沿第一方向间隔排列的输送辊，或者为传送带，可根据实际需求进行选择，传送结构较为简单，提高了传送件的使用便利性，利于广泛应用。本专利技术提供的清洗装置，在超声波清洗单元和药液清洗单元之间还设置有鼓泡清洗单元，进一步加强了对基板的清洗力度。本专利技术提供的清洗装置，在超声波清洗单元之前还设置有纯水浸泡单元，即在清洗基板之前首先对基板进行浸泡，有助于预先去除掉将基板上部分易溶于水的杂质。本专利技术提供的清洗装置，药液清洗单元、二流体清洗单元以及纯水清洗单元中均设有喷淋组件。如此，可以通过喷淋组件对基板进行各个环节的清洗，有利于节省清洗液的用量，且使用较为方便。本专利技术提供的清洗装置，喷淋组件包括用于喷洒处理液的喷嘴以及用于调节喷嘴喷洒量的流量调节件。由此，可根据实际需求通过流量调节件调节喷嘴的喷洒量，使得处理液的使用量能够被调控。一方面在对处理液需求量较大时，可以增加喷嘴的喷洒量，保证基板得到充分清洗；另一方面在对处理液需求量较小时，可以减小喷嘴的喷洒量，保证处理液不会被浪费。本专利技术提供的清洗装置，喷淋组件还包括用于调节喷嘴的喷洒角度的角度调节件。即通过角度调节件能够调节喷嘴的喷洒角度，由此，可实现对基板表面的均匀喷洒清洗，进一步保证基板上的抛光液被彻底清洗干净。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的清洗装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的清洗装置中输送机构的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的清洗装置中输送机构的另一种结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的清洗装置中喷淋组件的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的清洗装置中干燥单元的结构示意图；附图标记：1-输送机构；101-传送件；1011-摆臂；1012-导轨；1013-夹具；102-驱动件；2-上料单元；3-纯水浸泡单元；4-超声波清洗单元；5-鼓泡清洗单元；6-药液清洗单元；7-二流体清洗单元；8-纯水清洗单元；9-干燥单元；901-风刀；902-储气件；10-下料单元；1101-喷嘴；1102-流量调节件；1103-角度调节件；12-控制箱。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通，可以是无线连接，也可以是有线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。实施例本专利技术实施例提供了一种清洗装置，主要应用于对抛光后的基板进行清洗。如图1-2所示，包括输送机构1以及沿第一方向依次设置的超声波清洗单元4、药液清洗单元6、二流体清洗单元7、纯水清洗单元8以及干燥单元9。输送机构1用于沿第一方向输送待清洗基板。其中，第一方向指本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构(1)；与所述输送机构(1)相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元(4)、药液清洗单元(6)、二流体清洗单元(7)、纯水清洗单元(8)以及干燥单元(9)。

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：用于沿第一方向输送待清洗基板的输送机构(1)；与所述输送机构(1)相对设置且沿所述第一方向依次设置的超声波清洗单元(4)、药液清洗单元(6)、二流体清洗单元(7)、纯水清洗单元(8)以及干燥单元(9)。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述输送机构(1)包括：传送件(101)，用于放置所述待清洗基板；驱动件(102)，与所述传送件(101)连接，用于驱动所述传送件(101)运转。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述传送件(101)包括沿所述第一方向间隔排列的输送辊。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述传送件(101)为传送带。5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，在所述超声波清洗单元(4)和所述药液清洗单元(6)之间还设置有鼓泡清洗单元(5)。6.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹瑞丰，
申请(专利权)人：枣庄维信诺电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37