用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法制造方法及图纸

提供一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法以及湿法蚀刻机的包括该装置的缓冲单元。湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭。用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，该装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射流体以对快门进行清洁。

Device and method for cleaning shutter of buffer unit of wet etching machine

An apparatus and method for cleaning a shutter of a buffer unit of a wet etching machine are provided, as well as a buffer unit including a device for a wet etching machine. The wet etching machine includes a buffer unit and an etching unit arranged in the direction of the motion of the substrate. The buffer unit and the etching unit are separated from each other through the wall of the cavity. The cavity wall includes a window to enable the substrate to enter the etching unit from the buffer unit through the window, and the shutter is set on the side of the cavity wall to the side of the buffer unit and is used for control. The opening or closing of a window. The shutter used to clean the buffer unit of the wet etching machine is set adjacent to the shutter in the buffer unit, which includes a transport tube for a fluid that is used to clean the shutter; at least one nozzle is connected to the transport tube and is used to spray the fluid toward the shutter to clean the shutter.

【技术实现步骤摘要】
用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置和方法
本专利技术涉及显示器制造
，更具体地讲，涉及一种用于清洁湿法蚀刻机缓冲单元快门的装置和方法以及包括该装置的缓冲单元。
技术介绍
蚀刻工艺在显示器的制造过程中是非常重要的工艺环节。蚀刻可以分为湿法蚀刻和干法蚀刻。湿法蚀刻利用化学溶液与薄膜(例如，基板上的薄膜)间的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分，进而使薄膜形成期望图案。在湿法蚀刻过程中，待蚀刻的基板在湿法蚀刻设备中通过设置在湿法蚀刻设备中的相邻腔室之间的允许基板通过的窗口来在各个腔室之间传送，并且通过设置在该窗口处的快门来控制该窗口的打开和关闭。然而，当基板通过窗口进入蚀刻腔室时，往往会出现基板被划伤的问题，或者出现设备制程异常报警的问题。这是因为，蚀刻药液中部分成分(例如草酸)易挥发，并且水的挥发量远大于这些成分的消耗量，所以在蚀刻机待机时，残留在蚀刻机腔室里的药液容易形成结晶(例如草酸结晶)。在蚀刻设备运行时，设备会在基板进入蚀刻腔室时对基板表面进行药液置换，从而导致一部分药液残留在快门上。在设备进入待机状态后，该残留的药液容易在快门上形成结晶。这就会在后续的制程中造成基板的划伤，或者会将基板顶起而导致蚀刻腔室位置传感器感应异常，进而导致制程异常报警。在现有技术中，往往通过对蚀刻设备等进行定期保养和清理来解决上述技术问题。然而，这种方法并不能实时而有效地对快门进行清洁，从而不能在设备运行期间有效地防止划伤晶片，也不能保障设备正常顺利地运行。另外，传统的定期保养和清理往往需要人工手动地执行，这会增大设备中的结晶被操作人员吸入体内而对人体造成伤害的风险。
技术实现思路
本专利技术的示例性实施例在于提供一种有效且及时地去除残留在快门上的蚀刻药液或者去除在快门上形成的结晶的快门清洁装置。本专利技术的示例性实施例在于提供一种能够更充分地去除残留在快门上的蚀刻药液或者去除在快门上形成的结晶的快门清洁装置。本专利技术的示例性实施例在于提供一种能够更精确地对快门进行实时的清洁的快门清洁装置。本专利技术的示例性实施例在于提供一种包括上述快门清洁装置的湿法蚀刻机的缓冲单元。本专利技术的示例性实施例在于提供一种利用上述快门清洁装置对缓冲单元中的快门进行清洁的方法。根据本专利技术的实施例提供了一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置。湿法蚀刻机可以包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元可以通过腔壁彼此分隔开，腔壁可以包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元。快门可以设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭。用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置可以与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；以及至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射流体以对快门进行清洁。所述装置可以与快门相邻地设置在窗口上方。所述装置可以与快门相邻地设置在窗口下方。所述装置可以与快门相邻地设置在窗口上方和下方。所述装置还可以包括设置在快门的闭合位置处的传感器。传感器用于感测快门的闭合，以在快门闭合时向控制器发送指示快门闭合的感测信号。所述装置可以响应于感测信号来对快门进行清洁。多个喷嘴可以沿输运管的长度方向以预定间隔设置在输运管上。用于清洁的流体可以包括去离子水或水气二流体。根据本专利技术的实施例提供了一种湿法蚀刻机的缓冲单元，缓冲单元可以包括：上述用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置；以及输运部，包括多个辊轮，辊轮用于承载基板并且将基板从缓冲单元传送到蚀刻单元中。根据本专利技术的实施例提供了一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的方法。该方法可以包括：在湿法蚀刻机运行期间，当基板从缓冲单元完全进入蚀刻单元并且快门闭合时，利用所述装置对快门喷射流体，以对快门清洁第一预定时间；以及在湿法蚀刻机处于待机状态预定间隔时间后，利用所述装置对快门清洁第二预定时间。第一预定时间可比快门的闭合与下一次打开之间的间隔时间短。第二预定时间可大于所述第一预定时间。所述装置还可以包括设置在快门的闭合位置处的传感器，所述对快门清洁第一预定时间的步骤还可以包括：当快门闭合时，传感器感测快门的闭合而向控制器发送相应的感测信号，所述装置响应于感测信号来对快门进行清洁。根据本专利技术示例性实施例的快门清洁单元可以提高生产良率，确保蚀刻设备的稳定运行，改善生产效率，并且可以避免由于人工清洁操作而造成的对人体的损害。将在接下来的描述中部分阐述本专利技术总体构思另外的方面和/或优点，还有一部分通过描述将是清楚的，或者可以经过本专利技术总体构思的实施而得知。附图说明图1是示出湿法蚀刻机在运行状态下的示意图；图2是示出湿法蚀刻机在待机状态下的示意图；图3是示出根据本专利技术示例性实施例的包括具有快门清洁装置的缓冲单元的湿法蚀刻机的示意图；图4是示出根据本专利技术示例性实施例的图3中示出的湿法蚀刻机的缓冲单元的快门清洁装置的示意图；图5是示出根据本专利技术另一示例性实施例的包括具有快门清洁装置的缓冲单元的湿法蚀刻机的示意图；图6是示出根据本专利技术示例性实施例的图5中示出的湿法蚀刻机的缓冲单元的快门清洁装置的示意图；图7是示出根据本专利技术又一示例性实施例的包括具有快门清洁装置的缓冲单元的湿法蚀刻机的示意图；以及图8是示出根据本专利技术示例性实施例的利用快门清洁装置清洁快门的方法的流程图。具体实施方式现在将详细参照本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中，相同的附图标记始终指的是相同的部件。以下将通过参照附图来说明所述实施例，以便解释本专利技术。图1是示出湿法蚀刻机100在运行状态下的示意图。图2是示出湿法蚀刻机100在待机状态下的示意图。参照图1和图2，湿法蚀刻机100可以包括在基板S的运动方向上依次布置的缓冲单元120和蚀刻单元110。然而，根据本专利技术的示例性实施例不限于此，例如，湿法蚀刻机100还可以包括多个其它单元，例如设置在缓冲单元120上游的紫外照射单元、设置在紫外照射单元上游的进片单元以及设置在蚀刻单元110下游的水洗单元等。蚀刻单元110可以包括输运部111和液刀112等。然而，根据本专利技术的示例性实施例不限于此，例如，蚀刻单元110还可以包括蚀刻液喷淋管等。输运部111可以用于承载并输运基板S，并且可以包括多个辊轮111r。辊轮111r中的至少一个可以被驱动，以输送基板S。通过输运部111，基板S经由窗口W从缓冲单元120进入蚀刻单元110中。然后，基板S被置于输运部111上，并通过位于输运部111上方的蚀刻装置来对基板S进行蚀刻。液刀112可以设置在窗口W的上方位置处。液刀112可以用于对基板S涂布蚀刻药液，以改善对基板S的蚀刻均匀性。在根据本专利技术的示例性实施例中，液刀112可以固定在蚀刻单元110中的位于窗口W上方的位置处，或者也可以是可移动的。接着。可以通过喷淋或浸泡的方式来对基板S进行进一步的蚀刻。然而，根据本专利技术的示例性实施例不限于此，例如，还可以通过喷淋与浸泡等的组合方式来对基板S进行进一步蚀刻。缓冲单元120与蚀刻单元110相邻地设置。缓冲单元120和蚀刻单元110通过设置在其间的腔壁130彼此分隔开。腔壁130具有窗口W，以使得基板S能够通过。缓冲单元120可以包括用于输运基板S的输运部121以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置，所述湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭，其中，所述装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；以及至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射所述流体以对快门进行清洁。

【技术特征摘要】
1.一种用于清洁湿法蚀刻机的缓冲单元的快门的装置，所述湿法蚀刻机包括在基板的运动方向上顺序设置的缓冲单元和蚀刻单元，缓冲单元与蚀刻单元通过腔壁彼此分隔开，腔壁包括窗口以使基板从缓冲单元经由窗口进入蚀刻单元，快门设置在腔壁的面对缓冲单元的侧面上并且用于控制窗口的打开或关闭，其中，所述装置与快门相邻地设置在缓冲单元中，所述装置包括：输运管，用于输运对快门进行清洁的流体；以及至少一个喷嘴，流体连通到输运管，并且用于朝向快门喷射所述流体以对快门进行清洁。2.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口上方。3.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口下方。4.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置与快门相邻地设置在所述窗口上方和下方。5.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置还包括设置在快门的闭合位置处的传感器，所述传感器用于感测快门的闭合，以在快门闭合时向控制器发送指示快门闭合的感测信号，所述装置响应于所述感测信号对快门进行清洁。6.如权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个喷嘴包括沿输运管的长度方向以预定间隔设置在输运管上的多个喷嘴。7.如权利要求1所述的装置，其中，所述流体包括去离子水或水气二流体。8.一种湿法蚀刻机的缓冲单元，所述缓冲单元包括：如权利要求1至权利要求7中任一项权利要求所述的装置；以及输运部，包括多个辊轮，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：田代，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44