镍靶材制作方法技术

一种镍靶材的制作方法，包括：形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。由于金属镍具有良好的机械强度，承受外力作用时，抵抗变形和断裂的能力较强，因此适宜采用抛光、研磨等加工方式。通过抛光的方式可以有效去除镍板表面的氧化物及其杂质，接着通过离心研磨的方式进一步去除镍板表面的杂质，通过抛光结合离心研磨的方式有效的提高了镍靶材的洁净度。

Making method of nickel target

A nickel target making method includes forming a nickel plate, polishing the nickel plate, grinding the polishing nickel plate and making nickel target. Because of its good mechanical strength and external force, metal nickel has strong ability to resist deformation and fracture, so it is suitable for polishing, grinding and other processing methods. The oxide and impurities on the surface of the nickel plate can be effectively removed by polishing, and then the impurities on the surface of the nickel plate can be further removed by centrifugal grinding, and the cleanliness of the nickel target is effectively improved by polishing and centrifugal grinding.

【技术实现步骤摘要】
镍靶材制作方法
本专利技术涉及靶材制造领域，尤其涉及一种镍靶材制作方法。
技术介绍
物理气相沉积(PVD，PhysicalVaporDeposition)技术是半导体工业等多种行业的核心技术。它主要是利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离，利用电场加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。因此，所述靶材的纯度和洁净度至关重要。一般制备靶材产品的方法包括：提供符合靶材性能的金属，例如高纯度镍(一般为99.99％)；对所述金属进行预热、挤压成型、粗加工和精加工等工艺，最后加工成尺寸合格的靶材产品。然而，所述挤压成型工艺、热处理等步骤容易使所述金属的洁净度降低，从而导致所形成的靶材性能下降。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种镍靶材的制作方法，以提高镍靶材的洁净度。为解决上述问题，本专利技术提供一种镍靶材的制作方法，所述方法包括：形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。可选的，对所述镍板进行抛光之后，离心研磨之前，所述制作方法还包括：将所述镍板制作成镍方片；将所述镍方片进行酸洗；所述离心研磨的步骤中，将酸洗之后的镍方片进行离心研磨。可选的，所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行；所述离心研磨的步骤包括：将所述镍方片置于离心研磨机滚筒内，所述滚筒加料小于或等于所述滚筒深度的三分之一。可选的，所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行；所述离心研磨的步骤包括在所述离心研磨机滚筒中加入30ml～50ml的研磨剂。可选的，所述离心研磨的转速为180转/分钟～200转/分钟，所述离心研磨时间为10分钟～20分钟。可选的，进行所述离心研磨之后，对所述镍方片进行干燥。可选的，所述干燥的步骤包括：将离心研磨后的所述镍方片过筛滤干，将过筛滤干后的所述镍方片采用气枪吹干。可选的，所述酸洗的步骤包括：将所述镍方片放入航空煤油中，进行第一清洗；将第一清洗后的所述镍方片移至异丙醇溶液中，进行第二清洗；将第二清洗后的所述镍方片移至酸液中，进行第三清洗；将第三清洗后的所述镍方片置于纯水中进行纯水清洗；将纯水清洗后的所述镍方片进行干燥处理。可选的，在进行所述酸洗的步骤中，将所述镍方片放置在滚筒中进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述第三清洗；进行所述第一清洗及第二清洗的步骤中，使所述滚筒保持静止；进行所述第三清洗的步骤中，使所述滚筒保持滚动。可选的，在进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述纯水清洗的步骤中，对所述镍方片进行超声波振荡。可选的，在所述第一清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为10分钟～20分钟；在所述第二清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～15分钟；在所述纯水清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～10分钟。可选的，所述酸液为硝酸溶液，其中硝酸质量比为15％～20％；酸洗时间为3分钟～5分钟。可选的，形成所述镍板的步骤包括：提供铸态镍；对所述铸态镍进行锻打；对锻打后的所述铸态镍进行铣加工，制作成镍锭；对所述镍锭进行压延，制作成镍板。可选的，所述锻打的步骤包括：对所述铸态镍进行锻打预热；对预热后的铸态镍进行锻打成型；将锻打成型后的铸态镍进行冷却处理。可选的，所述锻打预热的预定温度范围在850摄氏度～950摄氏度。可选的，所述锻打变形量在30％～60％之间。可选的，所述冷却处理的步骤包括将所述铸态镍锻打成型后2分钟之内放置于常温水中冷却。可选的，所述压延的步骤包括：对所述镍锭进行粗轧，制作成粗轧镍板；将粗轧镍板进行退火热处理并进行冷却；将所述粗轧镍板进行分切；将分切后的粗轧铝板进行精轧，制作成所述镍板。可选的，所述粗轧的步骤包括：将所述镍锭压延至厚度为5mm～7mm的粗轧镍板，所述粗轧的每道次压下量小于1mm，所述粗轧温度在500摄氏度～600摄氏度的范围内。可选的，所述退火热处理的热处理温度在500摄氏度～600摄氏度的范围内，保温时间在2小时～3小时的范围内，所述冷却处理的方法为将所述粗轧镍板置于常温水中冷却。可选的，所述精轧的步骤包括：将分切后的所述粗轧铝板压延至厚度为1.8mm～2.2mm的镍板，所述精轧的每道次压下量小于1mm。可选的，在制作成镍靶材之后，所述方法还包括将所述镍靶材放置于无尘室中进行清洗处理、包装前干燥及包装的步骤。可选的，所述清洗处理的步骤包括：将所述镍靶材置于异丙醇溶液中进行超声波振荡5分钟～10分钟。可选的，所述包装前干燥的步骤包括：将所述镍靶材在真空干燥箱内进行真空干燥，所述真空干燥箱的真空度为0.01帕斯卡～0.03帕斯卡，温度为60摄氏度～80摄氏度，干燥时间为50分钟～70分钟。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：本专利技术方案中，形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。由于金属镍具有良好的机械强度，承受外力作用时，抵抗变形和断裂的能力较强，因此适宜采用抛光、研磨等加工方式。通过抛光的方式可以有效去除镍板表面的氧化物及其杂质，接着通过离心研磨的方式进一步去除镍板表面的杂质，通过抛光结合离心研磨的方式有效的提高了镍靶材的洁净度。可选方案中，提供了对所述镍方片进行酸洗的步骤，由于金属镍的耐腐蚀性高，酸洗可以去除镍方片表面氧化物及其他杂质，并且不会破坏金属镍本体，使酸洗后的镍方片洁净度得到提高。附图说明图1是本专利技术镍靶材制作方法的流程示意图；图2是图1所示实施例步骤S1的流程示意图；图3是图2所示实施例步骤S12的流程示意图；图4是图2所示实施例步骤S14的流程示意图；图5是图1所示实施例中步骤S2之后，及步骤S3的流程示意图；图6是图5所示实施例中步骤S22的流程示意图。具体实施方式由
技术介绍
可知，现有技术形成靶材的过程中，采用挤压成型工艺、热处理等步骤容易使所述金属的洁净度降低，从而导致所形成的靶材性能下降的问题。为解决所述技术问题，本专利技术提供一种镍靶材的制作方法，包括：形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。本专利技术通过形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。由于金属镍具有良好的机械强度，承受外力作用时，抵抗变形和断裂的能力较强，因此适宜采用抛光、研磨等加工方式。通过抛光的方式可以有效去除镍板表面的氧化物及其杂质，接着通过离心研磨的方式进一步去除镍板表面的杂质，通过抛光结合离心研磨的方式有效的提高了镍靶材的洁净度。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细的说明。参考图1，示出了本专利技术镍靶材的制作方法一实施例的的流程示意图，所述镍靶材的制作方法包括以下基本步骤：步骤S1：形成镍板；步骤S2：对所述镍板进行抛光；步骤S3：将抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。为了更好地说明本专利技术实施例的铝靶材的制作方法，下面将结合参考图2至图6，对本专利技术的具体实施例做进一步的描述。参考图2，示出了图1所示实施例步骤S1的流程示意图。形成所述镍板的步骤包括：步骤S11：提供铸态镍；步骤S12：对所述铸态镍进行锻打；步骤S13：对锻打后的所述铸态镍进行铣加工，制作成镍锭；步骤S14：对所述镍锭进行压延，制作成镍板。下面对S1的流程作进一步的描述。步骤S11：提供铸态镍。所述铸态镍用于形成靶材。所述铸态本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镍靶材的制作方法，其特征在于，包括：形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。

【技术特征摘要】
1.一种镍靶材的制作方法，其特征在于，包括：形成镍板；对所述镍板进行抛光；对抛光后的镍板进行离心研磨，制作成镍靶材。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对所述镍板进行抛光之后，离心研磨之前，所述制作方法还包括：将所述镍板制作成镍方片；将所述镍方片进行酸洗；所述离心研磨的步骤中，将酸洗之后的镍方片进行离心研磨。3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行；所述离心研磨的步骤包括：将所述镍方片置于离心研磨机滚筒内，所述滚筒加料小于或等于所述滚筒深度的三分之一。4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述离心研磨的步骤在离心研磨机滚筒内执行；所述离心研磨的步骤包括在所述离心研磨机滚筒中加入30ml～50ml的研磨剂。5.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述离心研磨的转速为180转/分钟～200转/分钟，所述离心研磨时间为10分钟～20分钟。6.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，进行所述离心研磨之后，对所述镍方片进行干燥。7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述干燥的步骤包括：将离心研磨后的所述镍方片过筛滤干，将过筛滤干后的所述镍方片采用气枪吹干。8.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述酸洗的步骤包括：将所述镍方片放入航空煤油中，进行第一清洗；将第一清洗后的所述镍方片移至异丙醇溶液中，进行第二清洗；将第二清洗后的所述镍方片移至酸液中，进行第三清洗；将第三清洗后的所述镍方片置于纯水中进行纯水清洗；将纯水清洗后的所述镍方片进行干燥处理。9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在进行所述酸洗的步骤中，将所述镍方片放置在滚筒中进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述第三清洗；进行所述第一清洗及第二清洗的步骤中，使所述滚筒保持静止；进行所述第三清洗的步骤中，使所述滚筒保持滚动。10.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在进行所述第一清洗、所述第二清洗及所述纯水清洗的步骤中，对所述镍方片进行超声波振荡。11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，在所述第一清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为10分钟～20分钟；在所述第二清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～15分钟；在所述纯水清洗的步骤中，进行超声波振荡的时间为5分钟～10分钟。12.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述酸液为...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，相原俊夫，王学泽，曹欢欢，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33