光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置，所述光学薄膜的活性化处理方法能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止产生外观缺陷。在沿着辊输送光学薄膜、并从辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法中，边冷却辊边进行活性化处理。作为活性化处理，优选电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理，作为光学薄膜，优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。

【技术实现步骤摘要】
光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置本申请是申请日为2013.06.08、申请号为201310228386.7、专利技术名称为“光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置”的申请的分案申请。
本专利技术涉及光学薄膜的活性化处理方法及其制造方法。另外，本专利技术涉及利用该制造方法得到的光学薄膜。该光学薄膜可单独或将其层叠而形成液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置。
技术介绍
液晶显示装置是使根据液晶的切换(Switching)的偏光状态可视化的装置，出于该显示原理，使用在偏振片的两面通过粘接剂层贴合有透明保护薄膜的偏光薄膜等的光学薄膜。作为偏振片，例如使碘吸附于聚乙烯醇并拉伸而成的结构的碘类偏振片具有高透过率、高偏光度，因此作为最通常的偏振片而被广泛使用。作为透明保护薄膜，使用透湿度高的三乙酰纤维素等。作为在前述粘接剂层的形成中使用的粘接剂，例如，使用将聚乙烯醇类的材料溶解在水中而成的所谓水系粘接剂。但是，聚乙烯醇类粘接剂在高温高湿下长时间放置时，会吸湿而粘接力下降导致薄膜容易产生剥离、或者偏光薄膜的结构稳定性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏光薄膜的制造方法，其特征在于，其为制造在偏振片的至少一个面上夹着活性能量射线固化型粘接剂层设置有透明保护薄膜的偏光薄膜的方法，所述制造方法包括如下工序：活性化处理工序，对所述偏振片实施下述的活性化处理方法：沿着辊输送偏振片、并从所述辊的相反侧进行偏振片的活性化处理，其中，边冷却所述辊边进行活性化处理，所述偏振片为厚度为1～7μm的薄型偏振片，所述薄型偏振片的水分率为1～5％，所述活性化处理为电晕放电处理；涂覆工序，在所述偏振片的进行过活性化处理的面上涂覆活性能量射线固化型粘接剂而层叠活性能量射线固化型粘接剂层；层叠工序，使所述偏振片与所述透明保护薄膜夹着所述活性能量射线固化型粘接剂层...

【技术特征摘要】
2012.06.08 JP 2012-1309271.一种偏光薄膜的制造方法，其特征在于，其为制造在偏振片的至少一个面上夹着活性能量射线固化型粘接剂层设置有透明保护薄膜的偏光薄膜的方法，所述制造方法包括如下工序：活性化处理工序，对所述偏振片实施下述的活性化处理方法：沿着辊输送偏振片、并从所述辊的相反侧进行偏振片的活性化处理，其中，边冷却所述辊边进行活性化处理，所述偏振片为厚度为1～7μm的薄型偏振片，所述薄型偏振片的水分率为1～5％，所述活性化处理为电晕放电...

【专利技术属性】
技术研发人员：品川雅，井上龙一，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP