热蒸发法合成小直径单晶SiC纳米丝有序阵列的方法技术

技术编号:1828272 阅读:265 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种热蒸发法合成小直径单晶SiC纳米丝有序阵列的方法,属于纳米材料技术领域。本发明专利技术采用硅片作为反应衬底和硅源,以固态碳材料为前驱体,以ZnS粉末为辅助剂,以惰性气体氩气为保护气体及载气,进行氧化还原反应,从而在硅片上成核并生长成大量小直径单晶有序排列的SiC纳米丝阵列。本发明专利技术工艺简单易行,成本低廉,对环境无污染,采用惰性气体保护,无明显易燃危险原料,气体价格低廉;收率高,可以连续化操作。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种热蒸发法合成小直径单晶SiC纳米丝有序阵列的方法,其特征在于,采用硅片作为反应衬底和硅源,以固态碳材料为前驱体,以ZnS粉末为辅助剂,以惰性气体氩气为保护气体及载气,进行氧化还原反应,从而在硅片上成核并生长成大量小直径单晶有序排列的SiC纳米丝阵列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:牛俊杰王健农
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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