【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种抛光基底的方法，包括： （ｉ）提供包含至少一层金属层的基底， （ｉｉ）使基底与含有液体载体和电解质的抛光组合物接触， （ｉｉｉ）在接触抛光组合物的基底和电极之间施加电化学电势，其中或者（ａ）所施加的电势为正电势并且抛光组合物进一步包含该金属的还原剂，或者（ｂ）所施加的电势为负电势并且抛光组合物进一步包含该金属的氧化剂，及 （ｉｖ）从基底表面除去至少一部分金属层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：保罗菲尼，弗拉斯塔布鲁西克，
申请(专利权)人：卡伯特微电子公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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