【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种强取向双轴织构的镍-铜金属基带层的制备方法,其具体作法是:a、退火:将铜片放入管式炉中,并通入体积比重为5%氢气、95%氩气组成的氢氩混合气体,按100-200℃/h的升温速率升至590-610℃,保温2小时左右,然后自然冷却;b、抛光:按三氧化铬18-23g/L,85%磷酸940-960ml/L,95-98%硫酸40-60ml/L混合均匀,配制成抛光液;再在抛光液中以a步处理后的铜片为阳极,其他活性较好的金属如铝、铜等金属为阴极,以200-400mA的电流进行电化学抛光,抛光时间2-5分钟;c、电镀:按硫酸镍95-110g/L,氯化镍8-15g/L,硼酸25-30g/L的比例,配制成去离子水溶液,形成电镀液;将b步抛光处理后的铜片作阴极,镍片作阳极进行电镀,电镀时间5-15分钟,电流10-50mA。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:郑果,蒲明华,刘见芬,赵勇,王贺龙,
申请(专利权)人:西南交通大学,
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]
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