含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法技术

一种含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法，其特征在于主要包括以下步骤：　　　　（１）配制摩尔比在１∶１００～１∶１０００范围内尿素的甲醇溶液；　　　　（２）将配制好的溶液置于电解反应器中，调节电解液的温度在３０～６０℃；　　　　（３）将单晶硅片夹在石墨片上作阴极，石墨作阳极；　　　　采用直流高电压５００～１５００Ｖ作用，沉积时间为２～１０小时。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法
本专利技术涉及一种含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法。
技术介绍
近10年来，碳氮(CNx)薄膜因为具有机械及摩擦方面的独特性能而倍受关注。这种材料具有耐磨、低摩擦系数、高弹性膜量和高硬度等多方面的优异性能，在很多领域中具有相当广阔的应用前景。目前，一些技术已经得到实际应用，如用于计算机的硬盘表面保护层等，因此碳氮薄膜在机械性能上优越于纯碳膜而有取而代之的趋势。很多关于碳氮薄膜的研究都集中在其制备技术，目前类金刚石碳膜的制备一般用化学气相沉积法和物理气相沉积法，如微波等离子体辅助沉积、射频磁控溅射沉积等。然而，但是气相合成实验装置复杂，需要较高的真空和较高的温度，工艺参数严格，且制备出的碳氮薄膜为非晶碳氮膜。近年来，科研人员利用电化学沉积技术，以甲醇等有机溶剂作为碳源制备出了类金刚石碳膜。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种成本低廉而且容易操作的制备含晶体结构的碳氮薄膜的方法。-->一种含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法，其特征在于主要包括以下步骤：(1)配制摩尔比在1∶100～1∶1000范围内尿素的甲醇溶液；(2)将配制好的溶液置于电解反应器中，调节本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1、一种含晶体结构的碳氮薄膜的制备方法，其特征在于主要包括以下步骤：(1)配制摩尔比在1∶100～1∶1000范围内尿素的甲醇溶液；(2)将配制好的溶液置于...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨生荣，徐洮，阎兴斌，陈刚，
申请(专利权)人：中国科学院兰州化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：