光罩及图案化方法技术

本发明专利技术提供一种光罩及图案化方法，通过在光罩的光罩主体上设置用于聚光的透镜，并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用，使得通过所述光罩形成光阻层时，透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上，从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小，进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大，使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中，进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。

【技术实现步骤摘要】
光罩及图案化方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种光罩及图案化方法。
技术介绍
现有技术中，膜层的图案化可以通过先在基板上形成图案化的光阻层，再在图案化的光阻层上沉积膜层，使得所述膜层部分沉积于图案化的所述光阻层上，部分沉积于未被图案化的光阻层覆盖的基板上。通过将图案化的所述光阻层剥离的同时，将沉积于图案化的所述光阻层上的膜层同时带起(Lift-off)，从而在所述基板上形成图案化的膜层。将图案化的所述光阻层从所述基板上剥离时，需要通过将剥离液渗入所述基板与所述光阻层之间，所述剥离液渗入的速度越快，图案化的所述光阻层从所述基板上剥离的效率越高。
技术实现思路
本专利技术的提供一种光罩及图案化方法，提高图案化的光阻层从基板上剥离的效率。所述光罩包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光。其中，所述透镜为菲涅尔透镜，所述透镜包括一光面及与所述光面相对的图案面。其中，所述透镜包括入光面及与所述入光面相对的出光面，所述入光面为所述图案面，所述出光面为所述光面。其中，所述光罩主体上还设有半透光区。其中，所述透镜内嵌于所述光罩主体内或固定于所述光罩主体上。所述图案化方法包括步骤：在一基板上形成覆盖所述基板的光阻材料层；通过一光罩对所述光阻材料层进行图案化，得到光阻层；所述光罩包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光；所述光阻层部分覆盖所述基板，所述光阻层包括间隔设置的多个光阻区，所述光阻区的截面为梯形，包括上底面、下底面及斜面，所述上底面与所述下底面相对，所述斜面连接所述上底面及所述下底面；在所述光阻层上形成待图案化膜层，所述待图案化膜层覆盖所述光阻区及每两个相邻的光阻区之间未被所述光阻层覆盖的基板；覆盖所述基板的所述待图案化膜层与同其相邻的所述光阻区的斜面形成空隙；将剥离剂通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，以将所述光阻层从所述基板上剥离，并连同覆盖于所述光阻层上的待图案化膜层同时剥离，得到图案化的膜层。其中，所述“通过一光罩对所述光阻材料层进行图案化，得到光阻层”包括步骤：将所述光罩设于所述光阻材料层背向所述基板一侧，且所述透镜的光面朝向所述光阻材料层；使光线透过所述光罩对所述光阻材料层进行曝光；所述光罩上的透镜将所述光源的光线聚集并照射至所述光阻材料层；将曝光后的所述光阻材料层进行显影，得到所述光阻层。其中，所述光阻材料层通过喷墨打印、旋涂、或转印工艺形成，所述光阻材料层为负型光阻，图案化所述光阻材料层后得到的所述光阻层截面为倒梯形。其中，所述光阻材料层为正型光阻。其中，所述透镜为菲涅尔透镜，所述透镜包括一光面及与所述光面相对的图案面。本专利技术提供的所述光罩及图案化方法，通过在所述光罩主体上设置用于聚光的透镜，并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用，使得通过所述光罩形成所述光阻层时，透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上，从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小，进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大，使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中，进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。附图说明为更清楚地阐述本专利技术的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。图1是本专利技术实施例的光罩的结构示意图；图2是本专利技术另一实施例的光罩的结构示意图；图3是本专利技术另一实施例的光罩的结构示意图；图4是本专利技术实施例的图案化方法的流程示意图；图5-图8是本专利技术一实施例的图案化方法的各步骤的膜层截面示意图；图9-图13是本专利技术另一实施例的图案化方法的各步骤的膜层截面示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，不能理解为对本专利的限制。请参阅图1，本专利技术提供一种光罩100。所述光罩100包括光罩主体10及设于所述光罩主体10上的透镜20。本专利技术中，所述光罩100用于对待图案化的膜层进行图案化。所述光罩主体10包括透光区11及遮光区12。所述透光区11能够使得光线通过所述透光区11毫无阻碍的透过；所述遮光区12能够将光线全部遮挡。根据使用需求将所述透光区11及遮光区12设置为一定的形状，并按照一定的位置，使得所述透光区11与遮光区12形成一定的图案。所述图案与所述待图案化的膜层需要得到的图案一致，从而实现通过所述光罩100对待图案化的膜层进行图案化。所述光罩主体10可以为金属或者塑料等各种材质。本实施例中，所述光罩主体10为金属材质，所述透光区11为所述光罩主体10上的镂空部。具体的，提供一块遮光的基板，其中，所述基板可以为金属板或者塑料板等。根据待图案化的膜层图案对所述基板上的一定位置进行镂空，所述镂空的部分即为所述透光区11，所述金属板上的非镂空区即所述遮光区12。在本专利技术的其它实施例中，所述透光区11为非镂空部。具体的，提供一块透光的基板，根据待图案化的膜层图案在所述基板上粘贴具有一定图案的遮光膜，被所述遮光膜遮挡的部分即为所述遮光区12，未被所述遮光膜遮挡的部分即为所述透光区11。所述透镜20设于所述光罩主体10上，并遮挡所述透光区11。通过所述透镜20将透过所述光罩主体10的的透光区11的光线进行汇聚，使得光线能够以一定的倾角照射与所述待图案化的膜层上。所述透镜20包括入光面21，与所述入光面21相对的出光面22及连接所述入光面21及所述出光面22的侧面23。本实施例中，所述透镜20嵌设于所述光罩主体10的所述透光区11内。具体的，由于本实施例的所述透光区11为所述光罩主体10上的镂空部，所述镂空部包括内壁，所述透镜20的形状及大小与所述透光区11的形状大小相同，将所述透镜20的侧面与所述镂空部的内壁粘合固定，即可实现所述透镜20嵌设于所述光罩主体10内。在本专利技术的其它实施例中，所述透镜20可以固定于所述光罩主体10上。例如，请参阅图2，在一些实施例中，所述透镜20的形状与所述透光区11图案相同且大小稍大于所述透光区11图案，通过将所述透镜20的边缘与所述透光区11的边缘相粘合，从而实现所述透镜20与所述光罩主体10的固定。或者，请参阅图3，在本专利技术的其它实施例中，所述透光区11为非镂空部，通过在所述透明基板上形成具有一定图案的遮光膜13形成遮光区12，未被所述遮光膜13遮挡的部分即形成所述透光区11。所述透镜20的形状大小与所述遮光区12的形状大小相同，通过将所述透镜20固定于所述光罩主体10上，并使所述透镜20与所述透光区11相对。本实施例中，将所述透镜20固定于所述光罩主体10上的方式可以为透明光学胶等透明材料将所述透镜20粘贴固定于所述透明基板上。进一步的，所述透镜20也可以与所述光罩主体10的透明基板一体成型，从而减少所述透镜20与所述光罩主体10的固定过程，并减少所述透镜20与所述透光区11的对位过程，进而减少所述光罩100的制程，并节省所述光罩100的制作成本。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩，其特征在于，包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光。

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光。2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述透镜为菲涅尔透镜，所述透镜包括一光面及与所述光面相对的图案面。3.如权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述透镜包括入光面及与所述入光面相对的出光面，所述入光面为所述图案面，所述出光面为所述光面。4.如权利要求1-3任意一项所述的光罩，其特征在于，所述光罩主体上还设有半透光区。5.如权利要求1-3任意一项所述的光罩，其特征在于，所述透镜内嵌于所述光罩主体内或固定于所述光罩主体上。6.一种图案化方法，其特征在于，包括步骤：在一基板上形成覆盖所述基板的光阻材料层；通过一光罩对所述光阻材料层进行图案化，得到光阻层；所述光罩包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光；所述光阻层部分覆盖所述基板，所述光阻层包括间隔设置的多个光阻区，所述光阻区的截面为梯形，包括上底面、下底面及斜面，所述上底面与所述下底面相对，所述斜面连接所述上底面及所述下底面；在所述光阻层上形成待...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹易彪，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44