【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于热成像仪的光学系统
本专利技术涉及热成像仪,并且特别地,涉及适于这种成像仪的光学系统。
技术介绍
热成像仪可以包括对大于2μm的波长敏感的图像传感器阵列,所述热成像仪设置有用于将图像聚焦在传感器上的光学系统。除了透镜使用对热辐射透明的材料之外,该光学系统可具有与用于可见光辐射的透镜类似的配置。这种材料昂贵并且通常具有低传输速率。图1是如在专利申请WO2002-063872中描述的适于热辐射的示例性低成本光学系统的示意性截面图。该光学系统包括以Gregorian望远镜配置布置的反射镜。来自观察场景的射线到达凹面主反射镜10(通常为抛物面)并被反射到次反射镜12(通常为凹椭圆形)。反射镜12将射线反射到位于主反射镜10的中央开口后面的图像传感器14。次反射镜12位于场景与主反射镜10之间。该反射镜附接到过滤入射辐射的支撑体16。支撑体16对热射线具有高透明度以不损害成像仪的灵敏度。由于该光学系统具有望远镜配置,因此它具有较窄的视场并且不适于室内场景。
技术实现思路
一种光学系统通常被设置用于热成像仪,所述光学系统包括位于相同平面内且具有平行光轴的两个对称的凹面镜;以及 ...
【技术保护点】
一种用于热成像仪的光学系统,包括:两个对称的凹面反射镜(20a、20b),其位于相同平面内且具有平行光轴(Oa、Ob);图像传感器阵列(24),其位于所述反射镜前方并具有分别与所述两个反射镜的所述光轴基本相邻的两个相对的边缘;以及不透明掩模(28),所述图像传感器(24)附接到所述不透明掩模(28)上,所述掩模在所述图像传感器的周边包括位于每个反射镜(20)前方的入射光瞳(26),所述入射光瞳(26)被包含在延伸超过所述图像传感器的所述反射镜的表面内。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.22 FR FR15601091.一种用于热成像仪的光学系统,包括:两个对称的凹面反射镜(20a、20b),其位于相同平面内且具有平行光轴(Oa、Ob);图像传感器阵列(24),其位于所述反射镜前方并具有分别与所述两个反射镜的所述光轴基本相邻的两个相对的边缘;以及不透明掩模(28),所述图像传感器(24)附接到所述不透明掩模(28)上,所述掩模在所述图像传感器的周边包括位于每个反射镜(20)前方的入射光瞳(26),所述入射光瞳(26)被包含在延伸超过所述图像传感器的所述反射镜的表面内。2.根据权利要求1所述的光学系统,其中每个光瞳(26)和对应的反射镜(20)被配置为使得:通过所述光...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·厄夫拉尔,C·马丁松斯,B·塔埃曼斯,
申请(专利权)人:IRLYNX公司,
类型:发明
国别省市:法国,FR
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