具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物制造技术

具有式(I)的化合物，其中取代基是如在权利要求1中所定义的，以及那些化合物的农用化学上可接受的盐盐、立体异构体、对映异构体、互变异构体和N‑氧化物，可以用作杀虫剂并且可按照本身已知的方式制备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物本专利技术涉及含硫取代基的杀有害生物活性(特别是杀虫活性)杂环衍生物，涉及用于它们的制备的方法，涉及包含那些化合物的组合物，并且涉及它们用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且尤其是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并描述于例如WO2010/125985、WO2015/163478、WO2016/024587和WO2013/018928中。现在已经发现具有含硫苯基和吡啶基取代基的杀有害生物活性杂环衍生物。本专利技术因此涉及具有式I的化合物，其中G1是氮或CR2；G2是氮或CR3；G3是氮或CR4；G4是氮或CR5；G5是氮或CR6，其条件是不多于2个氮作为G可连续出现；R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是氢、卤素、C1-C4卤代烷基、被一个或两个羟基取代的C1-C4卤代烷基、被一个或两个甲氧基取代的C1-C4卤代烷基；被一个或两个氰基取代的C1-C4卤代烷基；或者R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷氧基、SF5、苯基硫代羰基、氰基、巯基、C1-C4烷氧基羰基、C1-C4烷基羰基或-C(O)C1-C4卤代烷基；或者R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者两个相邻的Ri可以一起形成片段-OCH2O-或-OCF2O-，其中Ri选自R2、R3、R4、R5以及R6；G6是选自下组的基团，该组由U-0至U-10组成其中每个基团U中向左的箭头表示与包含G1的六元环的附接点，并且其中每个基团U中向右的箭头表示与基团R7的附接点；并且其中R8是氢、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R9是氢、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R7是选自下组的基团，该组由以下组成：Q1和Q2其中箭头表示与基团U的附接点；并且其中A表示CH或N；Q是氢、卤素或C1-C6卤代烷基；或者Q是可以被选自下组的取代基单取代或多取代的苯基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是五-元至十元单环的或稠合的双环的环系统，该环系统经由碳原子连接至包含基团A的环，所述环系统可以是芳香族的、部分饱和的或完全饱和的并且包含1至4个选自下组的杂原子，该组由以下组成：氮、氧和硫，每个环系统不可能包含多于2个氧原子和多于2个硫原子，所述五元至十元环系统可以被独立地选自下组的取代基单取代至多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是部分饱和的或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含基团A的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以包含不多于一个氧原子和不多于一个硫原子；或者Q是C3-C6环烷基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C2-C6烯基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C2-C6烯基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6环烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C2-C6炔基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C2-C6炔基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、三(C1-C4烷基)甲硅烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代-烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、或C1-C6烷基磺酰基；X是S、SO或SO2；并且R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或者R1是被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者R1是被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；以下化合物除外：3-(o-甲硫基苯基)-1-甲基-5-(o-三氟甲基-苯基)-1H-1,2,4-三唑、1-(2-甲基硫烷基苯基)-4-苯基-三唑、4-苯基-1-[2-(三氟甲基硫烷基)苯基]三唑、2-[1-(2-甲基硫烷基苯基)三唑-4-基]吡啶、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(3-吡啶基)-1,3,4-噁二唑、4-[5-(2-烯丙基硫烷基苯基)-1,3,4-噁二唑-2-基]-2-乙氧基-苯酚、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(2,6-二氟苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(2,3,4,5,6-五氟苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-溴苯基)-5-(2-甲基硫烷基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-氯苯基)-5-(2-甲基磺酰基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(3,4-二氯苯基)-5-(2-甲基磺酰基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-氟苯基)-5-(2-甲基硫烷基苯基)-1,3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有式I的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.25 EP 15186944.31.一种具有式I的化合物其中G1是氮或CR2；G2是氮或CR3；G3是氮或CR4；G4是氮或CR5；G5是氮或CR6，其条件是不多于2个氮作为G可连续出现；R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是氢、卤素、C1-C4卤代烷基、被一个或两个羟基取代的C1-C4卤代烷基、被一个或两个甲氧基取代的C1-C4卤代烷基；被一个或两个氰基取代的C1-C4卤代烷基；或者R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷氧基、SF5、苯基硫代羰基、氰基、巯基、C1-C4烷氧基羰基、C1-C4烷基羰基或-C(O)C1-C4卤代烷基；或者R2、R3、R4、R5和R6彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者两个相邻的Ri可以一起形成片段-OCH2O-或-OCF2O-,其中Ri选自R2、R3、R4、R5以及R6；G6是选自下组的基团，该组由U-0至U-10组成其中每个基团U中向左的箭头表示与包含G1的六元环的附接点，并且其中每个基团U中向右的箭头表示与基团R7的附接点；并且其中R8是氢、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R9是氢、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；R7是选自下组的基团，该组由以下组成：Q1和Q2其中箭头表示与基团U的附接点；并且其中A表示CH或N；Q是氢、卤素或C1-C6卤代烷基；或者Q是可以被选自下组的取代基单取代或多取代的苯基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是五-元至十元单环的或稠合的双环的环系统，该环系统经由碳原子连接至包含基团A的环，所述环系统可以是芳香族的、部分饱和的或完全饱和的并且包含1至4个选自下组的杂原子，该组由以下组成：氮、氧和硫，每个环系统不可能包含多于2个氧原子和多于2个硫原子，所述五元至十元环系统可以被独立地选自下组的取代基单取代至多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是部分饱和的或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含基团A的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以包含不多于一个氧原子和不多于一个硫原子；或者Q是C3-C6环烷基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C2-C6烯基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C2-C6烯基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6环烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C2-C6炔基，或被选自下组的取代基单取代或多取代的C2-C6炔基，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、三(C1-C4烷基)甲硅烷基和苯基，其中所述苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代-烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者Q是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基、或C1-C6烷基磺酰基；X是S、SO或SO2；并且R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或者R1是被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者R1是被选自下组的取代基单取代或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下组成：卤素、氰基和C1-C4烷基；或者R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；以下化合物除外：3-(o-甲硫基苯基)-1-甲基-5-(o-三氟甲基-苯基)-1H-1,2,4-三唑、1-(2-甲基硫烷基苯基)-4-苯基-三唑、4-苯基-1-[2-(三氟甲基硫烷基)苯基]三唑、2-[1-(2-甲基硫烷基苯基)三唑-4-基]吡啶、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(3-吡啶基)-1,3,4-噁二唑、4-[5-(2-烯丙基硫烷基苯基)-1,3,4-噁二唑-2-基]-2-乙氧基-苯酚、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(2,6-二氟苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(2-烯丙基硫烷基苯基)-5-(2,3,4,5,6-五氟苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-溴苯基)-5-(2-甲基硫烷基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-氯苯基)-5-(2-甲基磺酰基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(3,4-二氯苯基)-5-(2-甲基磺酰基苯基)-1,3,4-噁二唑、2-(4-氟苯基)...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·米尔巴赫，R·缇图莱尔，A·埃德蒙兹，P·J·M·卓，D·埃默里，A·布驰赫尔兹，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH