具有液位控制的表面处理机器制造技术

一种表面处理机器(10)，包括：框架(11)，其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移；表面处理元件(13)，其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理；储集器(14)，其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体提供到所述表面处理元件(13)；调整元件(16)，其被布置成将从所述储集器(14)供应的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15)。随后提供传感器(20)，其适于测量所述储集器(14)中的剩余液体的液位。控制单元(30)从所述传感器(20)接收与所述储集器(14)中的剩余液体成比例的信号以用于响应于此值而调整所述调整元件(16)，以便响应于液体保存参数而以流动速率的优化来递送所述液体。随后有可能最大化所述机器的范围，且优化操作者的工作时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有液位控制的表面处理机器
本专利技术涉及具有被配置成以液体对表面进行处理的表面处理元件的类型的表面处理机器。在此类机器当中包括可为电动或推动的骑乘式类型和后操纵式类型的那些机器，具有呈毛刷、圆盘、衬垫、喷射部件的形式的表面处理元件。
技术介绍
存在用于以液体来处理表面的机器，所述机器借助于处理元件而提供液体的施加，其从机器机载的储集器取得液体。一旦液体用完，操作者通常必须将机器带到补充点，用于再次填充储集器。在一些情况下，由同一机器例如通过吸力系统从表面收集脏的液体，所述吸力系统被布置成通过吸力而向上排出液体到机器机载的收集容器。当储集器排空时收集容器通常也充满了，因为后者是根据储集器的容量而设定大小。倘若这些表面处理机器必须覆盖宽表面，例如类似于机场、医院、学校、办公室等地方的整夜清洁的情况，这些表面处理机器的操作者常常遇到的问题是除了极粗略近似的情况外并不知道储集器中的剩余液体量，且因而不知道在再次进行液体补充之前机器可处理的表面量的范围。对机器的范围的精确了解是合意的，因为这将允许在处理液体用完之前规划到达最近补充点的最佳处理路线。在WO2010/099968A2中，描述一种用于清洁表面的机器，其提供用于自动计算机器的范围的系统。所述系统响应于由操作者指示的许多参数而进行物理和运动学量的测量，具体来说机器的速度的测量，从中计算清洁的表面与进行清洁所必要的时间之间的比率，所述参数例如毛刷的大小或用于浸泡毛刷的喷嘴的大小。操作者通过知道机器的剩余范围而得到用于完成直到下一补充处的路线的有用信息。在具有液体处理的表面处理机器中，会发生液体向表面处理元件的递送并不恒定，且这不允许通过如空间、时间、速度等物理和运动学量的容易了解来精确计算机器的范围。举例来说，如果通过重力馈送液体，那么随着储集器逐渐地排空，液体到处理元件的流动速率改变。除借助于将较重且昂贵的正排量泵馈送液体的情况之外，通过其它类型的泵，液体到表面处理元件的流动速率可改变，原因在于渗漏以及泵在供应压力下的灵敏度。随后为了确保有效处理，即足够量的液体对处理表面，操作者调整馈送管道区段的开放值，其方式为即使在最不利情形中也始终确保足够用于处理的液体量对处理表面。然而，由于流动速率的不稳定，这决定了机器的范围的减少。此外，改变表面处理机器相对于待处理表面的速度，存在供应液体量对处理表面的后续改变，并且这还需要馈送管道区段的调整，以便确保在机器的最大速度的情况下也足够的液体量，结果是减少机器的范围。在US8551262中，考虑水储集器中的液位，相对于水投予化学清洁剂。液位传感器提供影响馈送化学清洁剂的正排量泵的控制器的液位信号。因此，无论储集器中的水位如何，化学清洁剂在水中的稀释都保持固定。在WO2010/110796中，描述一种具有储集器的表面处理机器，所述储集器含有清洁溶液，所述清洁溶液在流动控制模块的控制下通过管道到达递送点。泵控制供应到流体流动线路的化学物质的流动。控制器控制流动控制模块以用于基于由溶液传感器检测到的清洁溶液中的液位而在操作性流动速率下工作。控制器控制化学泵以用于在根据操作性流动速率的流动速率下工作，使得化学物质按选择的化学稀释比率供应到递送点。本文献教示在清洗液体中提供预定浓度的化学物质，但并不确定机器的剩余范围。
技术实现思路
本专利技术的特征是提供一种表面处理机器，其确保关于液体量对处理表面的有效处理且同时最大化机器的范围。本专利技术的另一特征是提供此机器，其准许控制液体到表面处理元件的递送对存在于储集器中的液体液位以用于改善机器的范围。本专利技术的另一特征是提供此机器以用于响应于待遵循的预定清洁路线而最大化机器的范围。本专利技术的特征还有提供此机器，其使得操作者能够实时确定机器的剩余范围。这些和其它目的是通过一种表面处理机器来实现，所述机器包括：-框架，其被配置成相对于待处理的表面进行平移，-表面处理元件，其连接到所述框架且被配置成用液体对表面进行处理，所述框架相对于所述表面前进，-储集器，其连接到所述框架且被布置成通过递送口部将液体供应到所述表面处理元件；-调整元件，其被布置成将从所述储集器供应的所述液体可调整地馈送到所述递送口部；-传感器，其被配置成测量所述储集器中的剩余液体的液位且提供测量信号；-输入/输出单元，其被配置成显示指示液体的所述剩余液位的所述测量信号且用于输入液体保存参数；控制单元，其被配置成从所述传感器接收所述测量信号和所述液体保存参数；程序构件，其驻留于所述控制单元中，且被配置成响应于所述测量信号和所述液体保存参数而设定所述调整元件；其中所述输入/输出单元与操作参数以及基于存在于储集器中的剩余液体液位的测量的即时值而计算的机器的范围值以及选择的液体保存参数的显示单元相关联。因此，操作者可根据剩余液位关于例如待处理的剩余表面或直到下一补充时待覆盖的处理距离而设定机器的剩余范围，使得调整元件根据选择的液体保存参数而提供用于所有处理的处理液体的恒定值。此外，使操作者能够在显示单元上看见机器的剩余范围的值对时间，或者待处理的表面，以便确定允许到达补充点而无时间损失或不会覆盖无用路线的最佳路线。倘若在所述路线期间操作者选择改变液体保存参数，那么这可改变地完成，因此分配处理液体的运载的恒定值机器可随后考虑由操作者为到达最近补充点而选择的液体保存参数以及存在于储集器中的剩余液体而递送恒定量的液体，因为其影响在储集器的出口区段处响应于剩余液体的不同高差(head)而供应的液体量，从而避免受到储集器中的液体液位影响的不合意的递送作用，优化流动速率，实现响应于直到到达计划补充点时待处理的剩余空间而最大化机器范围的目标。液体保存参数可指示关于液体的体积对处理表面，且可例如为正、零或负，指示机器是否必须递送相对于参考预设调整值更多或更少的液体。在此情况下，控制单元重新计算机器的剩余范围，且输入/输出单元显示机器的此剩余范围以用于由操作者检验。在继续处理的同时，机器的剩余范围可连续地更新且显示给操作者。液体保存参数也可直接表达为操作者希望实现的机器的剩余范围值。有利的是，与存在于储集器中的液体量成比例的所述测量信号可为压力值，且传感器是被布置成与储集器连通以用于确定存在于储集器中的液体液位的压力传感器。此解决方案允许对储集器中的液位的极精确控制。实际上，位于储集器的基底处的压力传感器在过滤掉由于机器的移动带来的可作为噪声而消除的任何波动之后给出液位的精确值，其由于储集器中的液体高差而可影响流动速率，即流体静压，以便优化流动速率。替代地，存在于储集器中的液体液位可以用力传感器确定，具体来说是荷重计，其可被布置成保持所述储集器的支撑元件的重量。替代地，存在于储集器中的液体液位可以用液位传感器确定，具体来说光学传感器或超声波脉冲传感器或浮动传感器，其可布置于所述储集器中，且被配置成测量液体表面距储集器的底部或顶部壁的距离。在可能的示例性实施例中，调整元件选自由以下各项组成的群组：-先导阀，其中所述控制单元被配置成响应于所述液位的减小而以增加方式或者响应于由操作者选择的流动速率保存的增加而以减小方式调整所述阀的打开区段；-泵，其中所述控制单元被配置成响应于所述液位的减小而以增加方式或者响应于由操作者选择的流动速率保存的增加而以减小方式调本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面处理机器(10)，包括：框架(11)，其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移，表面处理元件(13)，其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理，所述框架(11)相对于所述表面(12)前进，储集器(14)，其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体供应到所述表面处理元件(13)；调整元件(16)，其被布置成将由所述储集器(14)提供的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15)；传感器(20)，其被配置成测量所述储集器(14)中的剩余液体的液位且提供测量信号；输入/输出单元(70)，其用于显示指示所述储集器(14)中的液体的所述剩余液位的所述测量信号且用于输入液体保存参数；控制单元(30)，其被布置成从所述传感器(20)接收所述测量信号和所述液体保存参数；程序构件(80)，其驻留于所述控制单元(30)中，被配置成响应于所述测量信号和所述液体保存参数而设定所述调整元件(16)；其中所述输入/输出单元(70)包括所述液位测量信号、所述液体保存参数以及所计算的所述机器的范围值的显示单元(60)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.02 IT 1020150000478891.一种表面处理机器(10)，包括：框架(11)，其被配置成相对于待处理的表面(12)进行平移，表面处理元件(13)，其连接到所述框架(11)且被配置成用液体对表面(12)进行处理，所述框架(11)相对于所述表面(12)前进，储集器(14)，其连接到所述框架(11)且被布置成通过递送口部(15)将液体供应到所述表面处理元件(13)；调整元件(16)，其被布置成将由所述储集器(14)提供的所述液体可调整地馈送到所述递送口部(15)；传感器(20)，其被配置成测量所述储集器(14)中的剩余液体的液位且提供测量信号；输入/输出单元(70)，其用于显示指示所述储集器(14)中的液体的所述剩余液位的所述测量信号且用于输入液体保存参数；控制单元(30)，其被布置成从所述传感器(20)接收所述测量信号和所述液体保存参数；程序构件(80)，其驻留于所述控制单元(30)中，被配置成响应于所述测量信号和所述液体保存参数而设定所述调整元件(16)；其中所述输入/输出单元(70)包括所述液位测量信号、所述液体保存参数以及所计算的所述机器的范围值的显示单元(60)。2.根据权利要求1所述的表面处理机器，其中所述传感器选自由以下各项组成的群组：压力传感器(20)，其与所述储集器(14)连通且被布置成由于从所述储集器(14)的液体表面开始的液体高差而提供压力信号；力传感器(20)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：F·拉卡尼罗，
申请(专利权)人：IP清洁公司，
类型：发明
国别省市：意大利,IT