金属栅偏光片及其制作方法、液晶面板及液晶显示器技术

本发明专利技术公开了一种金属栅偏光片的制作方法，其包括步骤：在基板上形成金属膜层；在所述金属膜层上形成多个光阻条，所述多个光阻条彼此间隔设置；对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理，以形成氧化金属条；将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部刻蚀去除；将所述光阻条去除。本发明专利技术还公开一种金属栅偏光片、液晶面板和液晶显示器。本发明专利技术通过氧化金属形成的氧化金属条配合原有的光阻条作为掩膜，可以使得制作而成的金属栅偏光片的栅线密度被大幅度提高。

Metal grating polarizer and manufacturing method thereof, liquid crystal panel and liquid crystal display

The invention discloses a method for making a metal grating polarizer, which comprises a process of forming a metal film on a substrate, forming a plurality of optical resistance strips on the metal film, and the plurality of light bars are spaced apart, and oxidizing the top of the metal film layer between two adjacent light bars to form oxidation. The metal strip is etched and removed by the metal film between the adjacent light resistance bar and the oxide metal strip; and the light resistance bar is removed. The invention also discloses a metal grid polarizer, a liquid crystal panel and a liquid crystal display. The present invention is a mask with the oxidized metal strip formed by the oxidation of metal and the original optical resistance bar, which can greatly increase the grating line density of the fabricated metal grating polarizer.

【技术实现步骤摘要】
金属栅偏光片及其制作方法、液晶面板及液晶显示器
本专利技术属于液晶显示
，具体地讲，涉及一种金属栅偏光片及其制作方法、液晶面板及液晶显示器。
技术介绍
随着光电与半导体技术的演进，也带动了平板显示器(FlatPanelDisplay)的蓬勃发展，而在诸多平板显示器中，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)因具有高空间利用效率、低消耗功率、无辐射以及低电磁干扰等诸多优越特性，已成为市场的主流。目前，液晶显示器中使用的偏光片传统偏光片透过率只有40％左右，大部分光由于偏光片吸收而浪费，而纳米金属栅偏光片的特殊特性可以大幅度提高光的利用率，并且透过率可达到60％以上。目前金属栅偏光片一般通过以下几步完成：压印模板对含有预涂胶层的目标衬底进行压印→目标衬底表面残胶灰化→金属刻蚀。这种做法制作的金属栅偏光片的栅密度与压印模板一致，衬底栅线密度依赖于压印模板，而压印模板的栅线密度越高，制作难度越大，而且压印形成图案的难度也越大。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种提高栅线密度的金属栅偏光片及其制作方法、液晶面板及液晶显示器。根据本专利技术的一方面，提供了一种金属栅偏光片的制作方法，其包括步骤：在基板上形成金属膜层；在所述金属膜层上形成多个光阻条，所述多个光阻条彼此间隔设置；对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理，以形成氧化金属条；将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部刻蚀去除；将所述光阻条去除。进一步地，在所述金属膜层上形成多个光阻条的方法包括：在所述金属膜层上形成光阻层；采用纳米压印模板对所述光阻层进行纳米压印处理，以形成多个压印条和位于每相邻两个压印条之间的压印层；将所述压印层刻蚀去除，以形成多个光阻条。进一步地，将所述压印层刻蚀去除的方法包括：采用氧气和六氟化硫气体的混合气体对所述压印层进行干法刻蚀，以将所述压印层刻蚀去除。进一步地，对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理的方法包括：利用氩气和氧气的混合气体在预定条件下对两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化，以形成氧化金属条。进一步地，将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部刻蚀去除的方法包括：采用预定比例的氯化硼和氯气对相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层进行干法刻蚀，以将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部去除。进一步地，所述金属膜层由铝制作而成。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种由上述的金属栅偏光片的制作方法制作的金属栅偏光片。根据本专利技术的又一方面，又提供了一种液晶面板，其包括：液晶盒；第一偏光片，设置于所述液晶盒的第一表面；第二偏光片，设置于所述液晶盒的与所述第一表面相对的第二表面；其中，所述第一偏光片和/或所述第二偏光片为权利要求7所述的金属栅偏光片。进一步地，所述液晶盒包括：彩色滤光片基板；阵列基板，与所述彩色滤光片基板相对设置；液晶层，设置于所述彩色滤光片基板和所述阵列基板之间；其中，所述彩色滤光片基板的背向所述阵列基板的表面为所述第一表面，所述阵列基板的背向所述彩色滤光片基板的表面为所述第二表面。根据本专利技术的又一方面，又提供了一种液晶显示器，包括相对设置的液晶面板和背光模块，所述液晶面板为上述的液晶面板。本专利技术的有益效果：本专利技术通过氧化金属形成的氧化金属条配合原有的光阻条作为掩膜，可以使得制作而成的金属栅偏光片的栅线密度被大幅度提高。附图说明通过结合附图进行的以下描述，本专利技术的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：图1是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制程图；图2A至图2C是根据本专利技术的实施例的光阻条的制程图；图3是根据本专利技术的实施例的液晶显示器的结构示意图。。具体实施方式以下，将参照附图来详细描述本专利技术的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在说明书和附图中始终表示相同的元件。以下对根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制作方法进行详细描述。图1是根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制程图。根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制作方法包括步骤一至步骤六。步骤一：参照图1中的a图，在基板110上形成金属膜层120。进一步地，可以使用溅射或蒸镀沉积的方法在基板110上沉积金属膜层120。其中，金属膜层120可以由Al等金属材料或者Al/Mo、Al/Cu、Al/Ni、Al/Cr等金属合金材料制成。优选地，在本实施例中，金属膜层120由Al制成。步骤二：参照图1中的b图，在金属膜层120上形成多个光阻条130，多个光阻条130平行且间隔设置。进一步地，图2A至图2C是根据本专利技术的实施例的光阻条的制程图。在金属膜层120上形成多个光阻条130的方法包括：首先，参照图2A，在金属膜层120上形成光阻层130A。可以使用溅射或蒸镀沉积的方法在金属膜层120上形成光阻层130A，而光阻层130A可以由亚克力系列有机材料、硅氧烷系列材料等制作。其次，参照图2B，采用纳米压印模板对光阻层130A进行纳米压印处理，以形成多个压印条131和位于每相邻两个压印条131之间的压印层132。这里，多个压印条131和压印条131之间的压印层132构成栅状结构。最后，将压印层132刻蚀去除，以形成多个光阻条130。进一步地，可以采用氧气和六氟化硫气体的混合气体对压印层132进行干法刻蚀，以将压印层132刻蚀去除。这里，在对压印层132刻蚀去除的时候，也会刻蚀去除压印条131的部分，从而光阻条130要比压印条131的厚度略薄。步骤三：参照图1中的c图，对每相邻的两个光阻条130之间的金属膜层120的顶部进行氧化处理，以形成氧化金属条121。这里，具体地，利用氩气和氧气的混合气体在预定条件下对每相邻的两个光阻条130之间的金属膜层120的顶部进行氧化，以形成氧化金属条121。这里，需要说明的是，由于光阻条130的存在及其特性，在氧化处理时，光阻条130周围的金属膜层120的顶部不会被氧化或者说被轻微氧化，不会对后续的金属膜层刻蚀去除有影响。这样，通过制作形成多个氧化金属条121，多个氧化金属条121和多个光阻条130相互嵌合在一起，从而可以使栅线周期为20nm～500nm，栅线占空比可为0.2～20。此外，通过控制氩气和氧气的处理程度及氧气氧化的量可以获取不同的金属栅线宽及线距的金属栅偏光片。步骤四：参照图1中的d图，将相邻的光阻条130和氧化金属条121之间的金属膜层120全部刻蚀去除，以形成多个金属栅条120A。进一步地，可以采用预定比例的氯化硼和氯气对相邻的光阻条130和氧化金属条121之间的金属膜层120进行干法刻蚀，以将相邻的光阻条130和氧化金属条121之间的金属膜层120全部去除。步骤五：参照图1中的e图，将光阻条130全部去除。在根据本专利技术的实施例的金属栅偏光片的制作方法中，通过氧化金属形成的氧化金属条配合原有的光阻条作为掩膜，可以使得栅线密度被大幅度提高。图3是根据本专利技术的实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：在基板上形成金属膜层；在所述金属膜层上形成多个光阻条，所述多个光阻条彼此间隔设置；对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理，以形成氧化金属条；将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部刻蚀去除；将所述光阻条去除。

【技术特征摘要】
1.一种金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：在基板上形成金属膜层；在所述金属膜层上形成多个光阻条，所述多个光阻条彼此间隔设置；对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理，以形成氧化金属条；将相邻的光阻条和氧化金属条之间的金属膜层全部刻蚀去除；将所述光阻条去除。2.根据权利要求1所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，在所述金属膜层上形成多个光阻条的方法包括：在所述金属膜层上形成光阻层；采用纳米压印模板对所述光阻层进行纳米压印处理，以形成多个压印条和位于每相邻两个压印条之间的压印层；将所述压印层刻蚀去除，以形成多个光阻条。3.根据权利要求2所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，将所述压印层刻蚀去除的方法包括：采用氧气和六氟化硫气体的混合气体对所述压印层进行干法刻蚀，以将所述压印层刻蚀去除。4.根据权利要求1所述的金属栅偏光片的制作方法，其特征在于，对每相邻的两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化处理的方法包括：利用氩气和氧气的混合气体在预定条件下对两个光阻条之间的金属膜层的顶部进行氧化，以形成氧化金属条。5.根据权利要求1所述的金属栅偏光片的制作方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢马才，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44