具有改进的性能、较低的毒性和降低的生产危险性的腐蚀抑制剂制剂制造技术

技术编号:1814532 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
包含以下物质的反应产物、可用于清洗金属表面的酸性清洗溶液中的、优选储存稳定的含水腐蚀抑制剂组合物:至少一种松香胺组分、至少一种非易燃性液体酮组分、至少一种羧酸组分、至少一种低聚甲醛组分和水;由其制备的含水酸性清洗剂;和它们的使用方法。本发明专利技术的腐蚀抑制剂通过一种简单的方法制备,该方法减少了毒性和/或易燃性原料、共产物、残余反应物和氯化物离子的存在,同时在含水酸性清洗剂中提供酸抑制性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于将产品酸洗和酸浸的腐蚀抑制剂制剂中的新的腐 蚀抑制剂组合物。更特别地,本专利技术涉及在减少暴露于热HC1下的不 锈钢的腐蚀中具有优良性能、用于腐蚀抑制剂中的新的化学组合物, 该组合物可以通过一种减少毒性和/或易燃性原料、共产物、残余反应 物和氯化物离子存在的简单方法制备。
技术介绍
在化学品和食品加工业、发电站、油田操作中使用的容器、管道、 冷凝器和锅炉经受了影响运行的水垢的形成。当在本文中使用时,词 语"水垢"包括由于金属表面与液态或蒸气态的水溶液接触而因此在 固体含铁金属表面上形成的任何固体沉淀。在使用期间,储水罐、导 管、铅管系统、冷却塔、加工设备、电解隔膜和其他装置会产生水垢, 必须将其除去,优选溶解掉。 一般而言,使用酸溶液,通常是盐酸溶 液将该水垢除去。为了加速清洗过程,通常将含水酸性清洗剂加热到 高至180。C。通过将清洗剂保持在大于环境温度下而釆用大于清洗剂 沸点的温度。盐酸通常以2-20w"/。的浓度范围存在于清洗剂中,其当 重复使用时可能对上述设备的金属部件十分有害。为了在清洗周期期间保护设备的金属组件免于遭受酸性清洗剂, 将腐蚀抑制剂加入到酸洗混合物中。抑制酸对金属表面的侵袭、但仍 然能够溶解水垢的组合物在工业中是已知的。许多组合物有毒性缺陷 和/或对环境有害,例如含砷的抑制剂和石油基抑制剂例如含有萘衍生 物的那些。松香胺的衍生物,例如描述于在此引入作为参考的us专利No. 2, 758, 970中的那些也是已知的。许多已知的商业爭>香胺衍生物酸术组合物的过程中使用了 HC1、液体曱醛和丙酮作为原料。在制备酸抑制剂组合物中,这些原料的每一种具有缺陷。HC1是 对使用有害的挥发性、腐蚀性物质。HC1还贡献了氯化物离子,这使 得携带氯化物的抑制剂组合物由于腐蚀问题而因此不适合于一些应 用,例如核反应堆清洗。甲醛是已知的致癌物质并且控制了留在松香 胺衍生物中的残余单体的数量。未被抑制的液体甲醛在没有加入的曱 醇的存在下是不稳定的并且在生产中产生健康和安全问题。丙酮的低 闪点使得其有需要特殊处理的生产风险,正如用于制备现有技术松香 胺衍生物的典型溶剂那样。申请人还发现在一些现有技术酸抑制剂中 残余的丙酮和甲醛参与了副反应而生成毒性和易燃性的甲基乙烯基酮 (MVK),它在过去被错误地识别为甲基乙基酮(MEK)。通常用于工业中的松香胺衍生物还难以生产。商业上可用的(非-固体并且可混溶于水中)的衍生物的成功生产需要一组复杂的工序, 该工序包括首先将松香胺与曱醛和酮反应,并且然后加入额外的液 体甲醛和丙酮,接着进一步反应,和随后将残余的反应物和溶剂蒸馏。 工艺中HC1的使用需要专门化的反应器和蒸馏设备。在现有技术松香 胺衍生物中还鉴别出所不希望的氯化副反应产物。就易燃性而言,一 些已知的松香胺衍生物还具有缺陷,例如一种已知的产品具有89。 F 的闪点(cc)。已知的松香胺衍生物的另一个限制是缺乏均匀性,在 该情况下典型的衍生物具有有限的稳定性并且在没有加入表面活性剂 和溶剂的情况下沉降成两层。部分地由于前述的缺陷,尽管已知的术>香胺衍生物在工业上已经 有一些成功,但在腐蚀抑制剂中不断需求改进的性能以及改进的稳定性。伴随着日益增多的健康、安全和环境问题的认识,工业需要使用较低易燃性、较低voc的原料,并且使用者需要含有少的残余曱醛、具有与已知产品相同或更好性能的对用户友好的产品。因此不断需要物。特别地,需要制备简单、减少voc和毒性和/或易燃性原料、共产 物、残余的反应物和氯化物离子的存在的腐蚀抑制剂组合物。另外, 由于近年来的环境问题,因此在任何新的抑制剂制剂中替换乙氧基化 的酚表面活性剂是所希望的目标。
技术实现思路
本专利技术的腐蚀抑制剂组合物包含以下物质的反应产物,优选基本由、最优选由以下物质的反应产物组成A. 至少一种爭>香胺组分;B. 至少一种非易燃性液体酮组分;C. 至少一种羧酸组分;D. 至少一种甲醛,优选低聚甲醛(paraformaldehyde)组分;和E. 水。本专利技术的一个目的是使用不需要易燃性材料制备的这些类型的反 应产物而提供腐蚀抑制剂组合物。本专利技术的另一个目的是避免在现有 技术合成方法中所需要的蒸馏/回收步骤。本专利技术的另一个目的是制备 没有盐酸的反应产物。使用的"没有"是指这些组分将被本领域那些 技术人员理解为是指少于5、 4、 3、 2、 1、 0.1、 0.01、 0.001、 0.0001、 0. 00001g/l,按给定的顺序优选性增加,最优选没有特定组分存在。本专利技术的另一个目的是提供与现有技术的相似配制的腐蚀抑制剂 相比改进的不锈钢腐蚀抑制剂。本专利技术的另一个目的是提供一种作为闪点为至少180° F的单相 液体的含水腐蚀抑制剂组合物。本专利技术的一个目的是提供一种其中至少50wt。/a的松香胺組分(A) 是脱氢松香胺的含水腐蚀抑制剂组合物。本专利技术的一个目的是提供一种其中组分(B)是苯乙酮、羟基苯乙 酮和/或二苯乙酮的含水腐蚀抑制剂组合物。本专利技术的一个目的是提供一种其中组分(C)是甲酸、乙醇酸和/ 或柠檬酸的含水腐蚀抑制剂组合物。本专利技术的另一个目的是提供一种其中组分(B)包含苯乙酮、组分 (C)包含乙醇酸和组分(D)包含低聚曱醛的含水腐蚀抑制剂。本专利技术的另一个目的是提供一种进一步包含以下物质的至少一种 的含水腐蚀抑制剂表面活性剂、炔醇、溶剂和/或pH调节剂。本专利技术的另一个目的是提供一种含水腐蚀抑制酸洗组合物,其包含(1 )约1 -约50wt 4的酸;(2 )腐蚀抑制有效量的含水腐蚀剂组合物,其包含以下物质的反 应产物(A) 至少一种松香胺组分;(B) 至少一种非易燃性液体酮组分;(C) 至少一种闪点为至少115° F的羧酸组分;(D) 至少一种低聚甲醛组分;和 (E )水。本专利技术的另一个目的是提供一种进一步包含以下物质的至少一种 的含水腐蚀抑制酸洗组合物表面活性剂、炔醇、溶剂和/或pH调节 剂。本专利技术的另一个目的是提供一种清洗金属的方法,其包括将金属 表面与上述的任一种清洗组合物接触。本专利技术的仍然另 一个目的是提供一种制备含水腐蚀抑制剂组合物 的方法,其包括(A) 在密封反应器中将以下反应物混合至少一种松香胺组分、 至少一种非易燃性液体酮组分、至少一种闪点为至少115° F的羧酸组 分、至少一种低聚甲醛组分和水;(B) 伴随着搅拌将反应物加热至约60 - 80X:以使低聚甲醛和水 变成甲酪;和(C)在约80 - 98。C下将得自(B)的反应混合物反应至少12小时。本专利技术的仍然另一个目的是提供一种制备含水腐蚀抑制剂的方 法,其中反应物的摩尔比是l.O松香胺组分l.O非-易燃性液体酮 组分2. 0甲搭1. 0乙醇酸。除了在工作实施例之外或者在另外说明的情况下,本文中使用的 表示组分的数量、反应条件或者定义组分参数的所有数字在所有情况 下将被理解为由术语"约"修饰。除非另外说明,所有百分比以重量 计。优选实施方案的详述 本专利技术涉及可用于腐蚀抑制剂组合物的腐蚀抑制剂组合物、涉及腐蚀的组分的混合物、用于金属表面的酸洗/酸浸组合物,以及制备和 使用这些物质的方法。本专利技术的酸清洗剂组合物用于从金属表面除去 水不溶性、酸溶性的沉淀,例如作为非限定性本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种含水腐蚀抑制剂,其包含以下物质的反应产物:(A)至少一种松香胺组分;(B)至少一种非易燃性液体酮组分;(C)至少一种闪点为至少115℉的羧酸组分;(D)至少一种甲醛组分;和(E)水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:DR麦克考密克JP伯斯哈斯
申请(专利权)人:亨克尔两合股份公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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