用于制造埃级和大纵横比的功能性薄片的方法技术

技术编号:1806921 阅读:160 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用来经济地、高生产率地制造较功能性的或装饰性的薄片的方法,包括将气相沉积金属的多层夹层和处于交替层中的释放涂层施加到气相沉积室内的转动激冷鼓或者合适载体介质中。该交替金属化层借助于气相沉积来施加,插入释放层最好是溶剂可以溶解的热塑性或另外交联的聚合体材料,该材料借助于装在气相沉积室内的气相沉积源来施加。形成在真空室内的多层夹层可以从鼓上或者载体中拆下来,并且用合适的无机溶剂处理,从而在剥离过程中从金属中溶解出释放涂料,而该剥离过程留下了基本没有释放涂层的金属薄片。然后,借助于离心作用除去该溶剂和可溶解的释放材料,从而形成一浓缩片的饼状物,该浓缩片可以进行空气研磨(air  milled)并且在优选的溶媒中稀释、进一步进行定尺寸和搅匀,从而最后使用在墨水、颜料或者涂料中。在一个实施例中,最终的薄片包括单层薄金属或金属合金薄片或无机材料薄片,而在另一个实施例中,薄片的两侧上涂有保护性聚合体涂层,所述保护性聚合体涂层是从包含在气相沉积室中的适合的真空沉积源等中被施加的。释放涂层材料可为具有低交联密度的可辐射固化、可交联气相沉积的聚合体材料。暴露于高能辐射源充分地交联释放材料以产生基本无粘性的、溶剂可溶解的释放涂层。在一个实施例中,在从气相沉积室穿过真空闸到独立的相邻剥离室中的环带上形成多层气相沉积层。两个室都保持在低于大气压力的真空压力下,同时将薄片材料沉积在环带上。通过降低带速度、空转沉积室中的真空沉积源、以及通过剥离室中环带下面的真空闸将气相沉积收集装置密封于剥离室而周期性地去除气相沉积层。在从环带上去除多层气相沉积材料的过程中,真空闸将剥离室保持在低于大气压力的其真空压力下。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用来制造埃级薄片或薄板的方法,这些埃级薄片可以用于功能性使用和装饰性使用。通过这种方法制造的某些薄片可达到毫微刻度范围。这些薄片可为金属、金属化合物、非金属或者透明薄片。所述薄片的功能性应用包括用于保护涂层,其中所述薄片可增加一定程度的刚性,从而产生修饰涂层的某种理想性能,或者其中所述薄片层可用于滤出一定波长的光,从而保护下面的着色层。反射金属薄片适用于包括油墨、颜料或者涂料的各种各样的光学应用或者装饰性应用中。所述薄片的其它应用包括微波和静电应用,以及化学加工和生物学应用。
技术介绍
传统铝薄片在球磨机中进行制造,该球磨机包含钢球、铝金属、矿物油精和脂肪酸(通常为硬脂酸或者油酸)。所述钢球压平铝并且使它碎成薄片。当球研磨完成时,使得悬浮体穿过用于粒子筛选的网筛。太大以致不能通过筛网的薄片返回到球磨机中进行进一步的处理。使得具有合适尺寸的薄片穿过筛网将其引入到压滤机中,在压滤机中,将过量的溶剂与所述薄片分离开。然后,用辅助溶剂稀释滤饼。这种传统的铝薄片典型地具有大约为2到200微米的颗粒尺寸和大约为0.1到2.0微米的颗粒厚度。所述薄片的特征在于较高的漫反射率、较本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用来形成多层气相沉积薄片材料的方法,它包括:(a)提供具有真空沉积室和相邻剥离室的气相沉积设备,其中每个腔室中的真空远离可独立控制;(b)使得环带形式的沉积表面穿过气相沉积室和剥离室;(c)在气相沉积室中,使得蒸 发的聚合体释放涂层材料和薄片材料的气相沉积层以交替层的形式在真空压力下沉积在沉积表面上,以便于在沉积表面上相继形成由相应的插入释放涂层隔开并沉积在其上的薄片材料的多层气相沉积层,在连续的所述气相沉积层被沉积在沉积表面上时,沉积表面上的多层气相沉积层穿过剥离室;以及(d)在剥离室中,当气相沉积室中的薄片材料的气相沉积层和释放涂层材料处于...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:卡尔约瑟夫詹姆斯P雷特克霍华德H恩洛
申请(专利权)人:艾弗里丹尼森公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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