本发明专利技术提供可以容易地除去附着在低分子有机ＥＬ装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗方法及清洗装置。附着在低分子有机ＥＬ装置的蒸镀掩模上的有机物的清洗装置（１），具有将蒸镀掩模（１４０）用吡咯烷酮的衍生物处理的第１载物台（１０）、对蒸镀掩模（１４０）进行水漂洗处理的第２载物台（２０）、对蒸镀掩模（１４０）进行流水漂洗处理的第３载物台（３０）、将蒸镀掩模（１４０）用乙醇处理的第４载物台（４０）、使蒸镀掩模（１４０）干燥的第５载物台（５０）、向各载物台依次搬送蒸镀掩模（１４０）的搬送机构（５）。作为吡咯烷酮的衍生物，优选采用Ｎ－甲基－２－吡咯烷酮。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及清洗方法、清洗装置及电光学装置。
技术介绍
低分子有机EL装置中，在玻璃基板上形成有由低分子有机材料构成的发光层。该由低分子有机材料构成的发光层利用蒸镀法形成。蒸镀法是在高真空中加热蒸发材料的小片，使之在基板上作为薄膜凝结的方法。利用蒸镀法形成的发光层由于要防止有机材料附着在发光层的形成区域以外的区域上，因此需要配置蒸镀掩模而进行。另外，由于要防止有机材料在蒸镀小室的内壁等上的附着，因此需要配置防附着板而进行。但是，在进行了多次的蒸镀处理后，在作为有机EL装置的制造装置的防附着板或蒸镀掩模等的表面上，就会形成有机物堆积的状态。当将堆积了有机物的防附着板继续放置时，就会导致蒸镀小室内的污染。另外，由金属薄板等制成的蒸镀掩模因有机物的重量而较大地弯曲，从而对图案化的精度造成影响。所以，将堆积在防附着板或蒸镀掩模等上的有机物定期除去的操作是不可缺少的。所以，要进行将堆积在防附着板或蒸镀掩模等上的有机物利用人手擦掉的作业。另外，在专利文献1中，提出在蚀刻处理后的处理室内产生混合气等离子体，将处理室内的残留反应生成物除去的方法。另外，在专利文献2中，提出将因有机膜真空蒸镀而附着在掩模上的有机膜利用加热处理不破坏真空地除去的方法。特开平8-319586号公报特开2000-282219号公报但是，利用人手擦掉的方法中，会有非常花费人力的问题。所以，希望确立不使用人手而操作性良好的清洗程序。而且，专利文献1及2中提出的方法都是在处理室(小室)内除去有机膜等的方法，伴随着蒸镀装置的改造。所以，就会有需要较多的成本的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决所述问题而完成的，其目的在于，提供可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物容易地除去的清洗方法及清洗装置。另外，其目的在于，提供高质量的电光学装置。为了达成所述目的，本专利技术的清洗方法的特征是，使用吡咯烷酮的衍生物来清洗附着在电光学装置的制造装置上的有机物。在抗蚀剂剥离等中使用的吡咯烷酮的衍生物在有机物的分解作用方面十分优良。所以，不需要擦拭等物理的处理或制造装置的改造，就可以除去有机物。因此，就可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物容易地除去。另外，是一种附着在电光学装置的制造装置上的有机物的清洗方法，其特征是，具有将所述制造装置用吡咯烷酮的衍生物处理的工序、将所述制造装置用水处理的工序、将所述制造装置用乙醇处理的工序。附着在制造装置上的有机物可以通过用吡咯烷酮的衍生物处理来除去。另外，附着在制造装置上的吡咯烷酮的衍生物可以通过用水处理来除去。另外，附着在制造装置上的水可以通过用乙醇处理来置换。此外，附着在制造装置上的低沸点的乙醇可以迅速地干燥。所以，就可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物容易地除去。另外，所述吡咯烷酮的衍生物优选N-甲基-2-吡咯烷酮。N-甲基-2-吡咯烷酮在有机物的剥离作用方面特别优良。所以，就可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物容易地除去。而且，所述电光学装置的制造装置也可以是有机EL装置的功能层的蒸镀处理中使用的防附着板。根据该构成，由于可以将附着在防附着板上的有机物容易地除去，因此就可以防止蒸镀小室内的污染。而且，所述电光学装置的制造装置也可以是有机EL装置的功能层的蒸镀处理中使用的掩模。根据该构成，由于可以将附着在掩模上的有机物容易地除去，因此就可以防止由有机物的重量造成的掩模的弯曲。所以就可以确保蒸镀处理的精度。另外，所述制造装置的清洗最好在常温下进行。根据该构成，由于可以防止因加热造成的制造装置的变形，因此就可以精度优良地制造电光学装置。另外，所述制造装置的清洗最好是在同时使用超声波的状态下进行。根据该构成，就可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物有效地除去。另一方面，本专利技术的清洗装置是电光学装置的制造装置上所附着的有机物的清洗装置，其特征是，具有将所述制造装置用吡咯烷酮的衍生物处理的载物台、将所述制造装置用水处理的载物台、将所述制造装置用乙醇处理的载物台、使所述制造装置干燥的载物台、向所述各载物台依次搬送所述制造装置的搬送机构。根据该构成，就可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物容易地除去。另一方面，本专利技术的电光学装置的特征是，使用所述的清洗方法清洗所述电光学装置的制造装置，使用被清洗了的所述电光学装置的制造装置来制造。根据该装置，由于可以将附着在电光学装置的制造装置上的有机物除去，确保蒸镀处理的精度，因此就可以提供高质量的电光学装置。附图说明图1是表示实施方式的清洗装置的概略构成的说明图。图2是低分子有机EL装置的侧视剖面图。图3是蒸镀装置的说明图。图4是对基板的蒸镀处理的说明图。图5是本实施方式的清洗方法的各工序的处理内容及处理条件图6是实施例的各清洗液的清洗结果及各清洗液的安全性。其中，5 搬送机构，10 第1载物台，20 第2载物台，30 第3载物台，40 第4载物台，50 第5载物台，140 蒸镀掩模 具体实施例方式下面将参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。而且，以下的说明中使用的各附图为了将各构件设为可以识认的大小，对各构件的比例尺寸进行了适当变更。本实施方式的清洗方法是清洗在形成低分子有机EL装置的发光层时附着在蒸镀掩模上的有机物的方法。所以，首先，使用图2对低分子有机EL装置的概略构成进行说明。图2是低分子有机EL装置的侧视剖面图。有机EL装置200具有被配置成矩阵状的多个象素区域R、G、B。在由玻璃材料等制成的基板210的表面上，形成有驱动各象素区域的电路部220。而且，图2中，将电路部220的详细构成的图示省略。在该电路部220的表面，与各象素区域R、G、B对应地以矩阵状形成有由ITO等制成的多个象素电极240。另外，按照覆盖作为阳极发挥作用的象素电极240的方式，形成有由铜酞菁等制成的空穴注入层250。而且，也有在空穴注入层250的表面，设置由NPB(N，N-二(萘基)-N，N-二苯基-对二氨基联苯)等形成的空穴传输层的情况。此外，在空穴注入层250的表面，以矩阵状形成有与各象素区域R、G、B对应的发光层260。该发光层260由分子量大约在1000以下的低分子有机材料构成。具体来说，将Alq3(铝络合物)等作为主体材料，将红荧烯等作为掺杂剂，构成发光层260。另外，按照覆盖各发光层260的方式，形成由氟化锂等构成的电子注入层270，另外，在电子注入层270的表面，形成有由Al等构成的阴极280。而且，在基板210的端部贴合有封闭基板(未图示)，将整体密封封闭。当在所述的象素电极240和阴极280之间施加电压时，即从空穴注入层250向发光层260注入空穴，通过电子注入层270向发光层260注入电子。此外，在发光层260中空穴及电子复合，激发掺杂剂而发光。像这样具有由低分子有机材料构成的发光层的低分子有机EL装置寿命长，在发光效率方面优良。所述的发光层通过使用蒸镀装置进行蒸镀处理而形成。所以，使用图3对蒸镀装置进行说明。图3是蒸镀装置的说明图。下面将以电阻加热式真空蒸镀装置为例进行说明。该蒸镀装置100具有连接了真空泵102的小室104。在该小室104的内部，设有基板夹具110。在该基板夹具110上，成为蒸镀处理的对象的基板210被朝下保持。另一方面，按照与基板夹具11本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种清洗方法，其特征是，使用吡咯烷酮的衍生物来清洗附着在电光学装置的制造装置上的有机物。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：细田登志子，四谷真一，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。