一种用于层叠到电介质基底（６２）上的铜箔（１４，６０），该铜箔（１４，６０）包括： 沉积在铜箔（１４，６０）表面上的剥离强度增强涂层（６４），该剥离强度增强涂层（６４）基本上由金属和金属氧化物的混合物组成，该金属和金属氧化物的混合物由以下的一个或多个形成：钒、铌、钽、铬、钼、钨、锰、锝和铼。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：W·L·布里尼曼，A·J·瓦克，S·F·陈，
申请(专利权)人：奥林公司，
类型：发明
国别省市：
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