载置台和基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提高载置台中的热交换介质和静电吸盘之间的热交换的效率。一个方式所涉及的载置台包括：热交换器；板，其设置在热交换器上，具有彼此相对的第一主面和第二主面，形成有在其板厚方向上延伸的多个贯通孔；静电吸盘，其具有载置基板的表面和背面，背面与第一主面粘接，热交换器包括：各自提供与对于多个贯通孔露出的背面的多个区域相对的多个开口端的多个第一管；和与多个贯通孔各自连通的多个第二管。

【技术实现步骤摘要】
载置台和基板处理装置
本专利技术的实施方式涉及载置台和基板处理装置。
技术介绍
基板处理装置在能够减压的处理容器内具有用于支承基板的载置台。载置台具有控制基板的温度的作用。这样的载置台的一个例子记载于专利文献1。在专利文献1中记载的载置台具有对基板进行静电吸附的静电吸盘。静电吸盘的下表面隔着粘接层与冷却板粘接。在冷却板形成有用于使冷却介质循环的流路。该载置台通过使冷却介质在形成在冷却板内的流路中循环，来控制支承在静电吸盘上的基板的温度。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2004-104113号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题但是，一般来讲粘接层的材料的热流导率低。所以，如在专利文献1中记载的载置台的方式在静电吸盘和冷却板之间设置粘接层时，静电吸盘和冷却板之间的热交换的效率变低。所以，在本
中，要求提高载置台中的热交换介质和静电吸盘之间的热交换的效率。用于解决技术问题的技术方案一个方式所涉及的载置台包括：热交换器；板，其设置在热交换器上，具有彼此相对的第一主面和第二主面，形成有在其板厚方向上延伸的多个贯通孔；和静电吸盘，其具有载置基板的表面和背面，背面与第一主面粘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种载置台，其特征在于，包括：热交换器；板，其设置在所述热交换器上，具有彼此相对的第一主面和第二主面，形成有在其板厚方向上延伸的多个贯通孔；静电吸盘，其具有载置基板的表面和背面，所述背面与所述第一主面粘接，所述热交换器包括：各自提供与对于所述多个贯通孔露出的所述背面的多个区域相对的多个开口端的多个第一管；和各自与所述多个贯通孔连通的多个第二管。

【技术特征摘要】
2016.11.16 JP 2016-2232631.一种载置台，其特征在于，包括：热交换器；板，其设置在所述热交换器上，具有彼此相对的第一主面和第二主面，形成有在其板厚方向上延伸的多个贯通孔；静电吸盘，其具有载置基板的表面和背面，所述背面与所述第一主面粘接，所述热交换器包括：各自提供与对于所述多个贯通孔露出的所述背面的多个区域相对的多个开口端的多个第一管；和各自与所述多个贯通孔连通的多个第二管。2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：所述多个开口端各自配置在多个贯通孔的内部。3.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：所述板由不锈钢构成。4.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：所述板由含钛材料构成。5.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：所述板由铝构成。6.如权利要求1～5中任一项所述的载置台，其特征在于：所述板包括：形成有所述多个贯通孔的第一区域；和以包围所述第一区域的外周的方式与所述第一区域连续的第二区域，所述热交换器包括：形成有所述多个第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：广木勤，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP